*성* 스토어

*성*

개인

팔로워0 팔로우

소개

등록된 소개글이 없습니다.

전문분야 등록된 전문분야가 없습니다.

판매자 정보

학교정보

입력된 정보가 없습니다.

직장정보

입력된 정보가 없습니다.

자격증

입력된 정보가 없습니다.

판매지수

판매중 자료수

23개
전체 판매량

135개
최근 3개월 판매량

0개
자료후기 점수

평균A+
자료문의 응답률

0%

전체자료 23개

삼성 장학회 자기 소개 및 에세이

자기 소개서저는 2남 중 장남으로 태어나, 아버지와 어머니의 관심과 사랑아래 인천에서 학창시절을 보내며 성장했습니다. “맡은 일에 책임을 다하고 정직하라.”, “노력은 결과를 배신하지 않는다.”라는 아버지의 말씀은 나의 생각과 행동에 대한 판단에 중요한 가치관이 되었습니다. 무슨 일이든 주어진 역할에 책임을 다하고 성실하게 수행한다는 일념으로 학창 시절을 보냈습니다. 학창시절 화학 및 물리에 관심을 가지고 있었으며, 국내 최대의 공과대학에 입학을 목표로 공부를 해왔습니다. 하지만 1998년 IMF 경제위기의 여파는 저희 가족 역시 피해 가기 어려웠습니다. 학업과 취업에 대한 고민을 많이 했고, 집안에서의 원조가 많이 부족한 상황이었습니다. 이러한 고민 중에 공부에 대한 열정은 놓칠 수가 없었습니다. 부모님의 부담을 최소화 하면서 저의 공부를 계속해가기 위해, 인천 출신자에게 지역 장학금을 제공하는 국내 우수 공과대학 중 하나인 인하대학교에 수시 1차 모집에 지원하여 합격을 했습니다. 이후, 입학 전 남은 6개월 동안 아르바이트를 하며 등록금을 마련하여 인하대학교에서 공부를 계속해 나갈 수 있었습니다.입학 후, 집안 경제사정은 장학금에 대한 갈망으로 이어졌고, 이는 다시 저로 하여금 공부에 더 매진하는 원동력이 되었습니다. 그 결과 매 학기 장학금 수혜 혜택을 받을 수 있었으며, 3.5년만에 조기졸업을 할 수 있는 기회도 얻었습니다. 또한 이과/공과대학의 수업 외에 다양한 경험 및 학업을 위해 경영학 (테크노 MBA)을 부전공으로 수업을 들었습니다. 경영 수업은 기업의 이익을 위해 다양한 관점의 자료를 통한 의사결정을 하는 방법들을 배울 수 있었습니다. 이와 같은 경험은 실험 수업을 들으며, 다양한 관점의 실험 결과 해석 및 도출을 하는데 있어 큰 도움이 되었습니다. 즉, 정해져 있는 결과만을 보려고 하지 않고 그 외에 보지 못한 것을 보고자 노력하고 이해하려고 했던 노력들은, 남들보다 한 차원 높은 실험 결과를 얻을 수 있었고, 실험 수업에서도 매번 A+의 평 경험은 졸업 후 석사 진학을 결정하는 중요한 계기가 되었습니다. 지도 교수님이신 안화승 교수님과 면담 후, 경제적 측면과 학업적 측면 모두를 아우를 수 있는 KAIST로 석사 진학을 결정하였습니다.학부 과정 중, 촉매 공학은 화학 반응, 물리화학, 공정 프로세스 및 재료공학에 대한 이해가 필요하며, 화학의 중심적인 내용을 포함하고 있다고 판단해 왔습니다. 2007년 KAIST 진학 후, 우성일 교수님 지도하에 신재생 에너지 생성을 위한 프로젝트 (천연 가스 및 글리세롤에서 수송용 연료 대체 에너지 생성을 위한 합성 가스 생산 촉매 개발)를 진행 하면서, 촉매, 화학 반응 및 공정 프로세스를 경험하고 배울 수 있었습니다. 이와 같은 다양한 프로젝트를 수행하면서 촉매 및 신재생 에너지 개발을 위한 연구를 위해서는 다양한 반응의 이해, 분석기기에 대한 이해, 촉매 물질 합성 및 재료에 대한 이해 그리고 양자역학적 접근을 통한 화학적 반응 및 재료의 이해가 필요함을 깨닫게 되었습니다.신재생 에너지 개발을 위한 다양한 화학 반응 및 공정에 대한 경험 및 연구를 위해 국내 최고의 청정에너지 연구 센터가 있는, KIST에 위촉 연구원으로 입사를 했습니다. 바이오매스 유도 물질에서 알코올 합성 및 가솔린 대체 연료 생성과 같은 프로젝트를 경험하며 다양한 반응과 분석기기들을 배울 수 있는 기회가 되었습니다. 또한, 다양한 촉매를 합성하며 경험과 실적을 쌓을 수 있는 기회이기도 했습니다. 하지만 위에서 언급한 바와 같은, 양자역학적 접근을 통한 촉매/재료 및 반응에 대한 이해를 배우고 경험하기에는 국내 화공과내 연구가 많이 부족하다는 것을 느끼게 되었습니다. 이에 주위 교수님 및 박사님들과의 상담을 통해 박사과정을 해외에 진학하여 양자역학적 접근을 통한 촉매 해석에 대한 연구를 진행하는 것에 대한 제안을 받았습니다. 촉매 실험과 양자역학적 해석에 대한 연구를 활발히 진행하고 있는 연구진을 모색하던 중, 독일 뮌헨 공대의 촉매 연구 센터를 접하게 되었습니다. 이 센터는 촉매 연 및 양자역학적 해석에 대한 세분화 및 협업 연구가 유기적으로 이뤄지고 있었습니다. 따라서 박사과정 진학을 독의 뮌헨 공대에 진학하기로 결심하게 되었습니다. 2011년 박사과정 진학을 계획하고 있었지만, 아버님의 작고로 인해 유학 시기를 미룰 수 밖에 없었습니다. 아버님의 학업에 지지와 끝까지 노력하는 모습을 보고 싶어하시던 점들은 저로 하여금 올해 다시 유학 준비를 결정하게끔 만들었습니다.저의 장점은 끊임없이 노력하고 매사에 성실한 것입니다. 제가 높은 사고력이나, 명석한 두뇌를 갖고 있다 생각하지 않습니다. 그러나 노력이 결과를 배신하지 않는다는 아버님의 말씀처럼 나태, 태만하지 하지 않고 노력합니다. 노력과 성실함의 결과 학부시절과 현 석사과정에서 좋은 결과를 거둘 수 있었습니다. 좋은 결과는 노력으로부터 오는 것이라 굳게 믿고 있습니다. 반면에 연구를 함에 있어 항상 신중한 태도를 취할 땐 좋지 못한 결과를 따르기도 합니다. 실험은 항상 성공과 실패 모두를 안고 한다는 걸 인지하면서도, 항상 효율적인 실험을 생각하다 보면 실패하는 경우를 피하고자 스스로 조심하는 경우가 있습니다. 때문에 실수 및 실패로서 배우는 경험도 상당부분 놓친 면이 많습니다. 그러나 이와 같은 단점은 성공 및 실패한 실험에 대한 고찰과 반성을 통해 극복해 나가고 있으며 매 실험마다 의미를 부여하고 배우고자 합니다. 진학 이후, 이와 같은 장단점을 파악하고 개선해 나가도록 하겠습니다.에세이유학을 결심하게 된 동기는 제가 생각하고 있는 촉매 연구를 위한 국내 새로운 연구 방향 도입 및 개척을 위함입니다. 현재까지, 석사 및 KIST 연구원 경력을 겪으면서, 신재생 에너지 생산을 위한 촉매 연구에 관심을 가지고 있습니다. 이 분야의 효율적인 연구를 위해선 촉매 재료, 촉매 반응, 촉매 특성 분석 및 양자역학적 촉매 표면 반응 이해가 기반을 이뤄야 한다고 생각해왔습니다. 촉매 재료, 촉매 반응 및 특성 분석에 대한 국내 연구는 질과 양은 세계에서 높은 수준을 갖추고 있습니다. 하지만, 실구를 보이는 경향이 있습니다. 현재 세계 많은 촉매 연구 실험실에서는 양자역학적인 촉매 반응 해석을 통해, 그들의 반응을 이론적으로 해석하고 증명하는 연구가 주를 이루고 있습니다. 국내에도 양자역학적 해석을 통한 연구는 물리화학/계산화학을 근간으로 둔 전문가들이 주로 연구를 하고 있으나, 많은 연구진이 재료의 표면 이해 및 재료 합성에 초점이 맞춰져 있는 상황입니다. 즉, 국내에서 화학적 반응 및 촉매 표면 현상에서의 양자역학적 접근을 통한 해석에 대한 연구 시도되고 적용되어야 할 시점이라고 판단합니다.이와 같은 경유로, 박사과정 동안 바이오매스로부터 신재생에너지 생산을 위한 촉매 개발 및 양자역학적 연구를 통해, 실질적인 촉매 반응 실험과 양자역학적 모델링을 통해 촉매 표면 반응 및 메커니즘 규명을 위한 연구를 하고자 합니다. 주위의 교수님들을 비롯한 박사님들로부터 독일, 스위스 미국의 학교를 추천을 받아 연락을 한 상태입니다. 이중, 이중, 독일의 뮌헨공대에서 연구 제안을 받고, 스위스 ETH 취리히 공대에 지원을 한 상태입니다. 특히, 독일 뮌헨공대의 촉매 연구 센터는 촉매 반응, 촉매 합성, 촉매 특성화 및 양자역학적 해석을 세분화 하면서 각 분야의 협업 연구를 활성화 시키고 있습니다. 촉매 분야에서 자기 계발과 국내 기여를 위한 연구적인 측면에서 독일 뮌헨공대에서의 경험은 저의 이상에 가장 적합하다 할 수 있습니다. 박사 학위 과정 동안 이론과 기초로 충분히 무장을 해야 학위 후 실력을 적용하고 펼쳐 나갈 수 있다고 판단합니다. 미국의 연구가 실용적 측면을 강조하는 반면, 유럽의 연구가 기초 및 이론적인 측면을 강조한다는 점은 독일 및 스위스로의 유학을 우선시 하는 이유 중 하나입니다.2011년 작고하신 아버님으로부터 오는 경제적 활동의 제한사항은 유학을 결심하면서 가장 고심해야 할 부분이었습니다. 독일 뮌헨공대 촉매 연구센터의 센터장인 Notker Roesch 교수로부터 이론화학 과목을 이수하는 조건으로 입학허가서를 주겠다는 Invitational 만, 생활비와 관련된 제반 사항은 준비를 해오라는 연락을 받았습니다. 집안 사정이 어려운 가운데 꿈을 이루기 위해서 타지에서의 생활비는 큰 벽이 되어왔습니다. 하지만 시도도 해보지 않고 포기하는 건, 제 꿈을 위한 의지에 반하는 거고 나중을 위한 후회를 남기지 않기 위해 장학생에 지원을 하게 됐습니다.위와 같은 문제가 해결이 되면, 박사학위 과정동안 촉매 반응 실험 및 양자역학적 해석을 통한 반응의 이해 및 규명을 위한 연구를 계획하고 있습니다. 입학 후, 1차년에는 양자역학적 해석을 위한 기초 지식 습득 및 실질적 컴퓨터 작업을 통한 양자역학적 해석에 대한 이해에 초점을 맞출 계획이고, 2년차에 실시할 반응들에 대한 논문 및 서적 연구를 통한 연구 동향을 파악 할 계획입니다. 다양한 모델 반응들에 대한 이해와 해석으로 경험 및 실력을 쌓고, 촉매 반응 실험을 실시하는 연구진과 협업하여 바이오매스로부터 신재생에너지 생산을 위한 촉매 및 촉매 반응의 이해 및 해석을 위한 연구를 2-3차년에 실시하고자 합니다. 이 기간동안, 열역학적 반응의 해석, 촉매 표면에서의 반응 해석 및 촉매 구조 해석을 실험과 양자역학적 모델링 및 해석을 통해 증명해 나갈 계획이며 이를 기반으로 박사 학위 논문을 작성 할 계획입니다.박사과정 졸업 후, 3년의 박사 후 연구과정을 미국에서 계획하고 있습니다. 앞서 말한 바와 같이,유럽에서와 미국에서의 연구 동향은 접근 방식 및 해석 방법에서 많은 차이가 있습니다. 유럽과 미국의 연구 동향 및 접근 방법에 대해 경험하고 익힌다면 이 후 글로벌 연구를 위한 중요한 판단 잣대가 될 것이라고 판단해서 입니다. 또한, 학위 과정 동안 부족했던 분야를 보충함으로써, 촉매 및 반응 연구를 위한 프로토콜을 세우는게 목표입니다. 이 후, 국내에 돌아와 국내 연구진과 협업하여 다양한 접근을 통한 촉매 개발 및 연구를 하는게 목표입니다. 또한 새로운 분야를 접목 시킴으로써, 연구의 질 향상을 도모하고 싶습니다. 더 나아가, 제가 경험하고 습득한 지식들을 후세에다.

취업| 2012.11.12| 4페이지| 3,000원| 조회(1,274)

삼성, 자기소개서, 자소서, 유학, 에세이, 장학금

미리보기

닫기
선행 기술 조사 보고서 평가A+최고예요

선행기술조사보고서제안기술명:줄자 손목 홀더과목명:특허분석과 발명출원(A)프로젝트 II성명:김성민학번:20074124학과:생명화학공학과2008.04.23선행기술조사 보고서 (SEARCH REPORT)학과생명화학공학과학번20074124성명김성민조사주제□ 특허출원 예정건에 대한 선행기술조사□ 신제품 및 신기술 개발을 위한 선행기술조사■ 특허권 존재 여부에 대한 선행기술조사□ 특허분쟁 대응을 위한 선행기술조사제안기술명줄자 손목 홀더제안기술개요종래에 줄자 사용시 양손을 사용해야 했던 불편함을 개선한 기술로 줄자를 손목에 착용 가능하게 하는 홀더를 개발하여 한 손만으로도 줄자를 사용할 수 있도록 함조사방향사용시 편리함을 추구하기 위해 줄자를 신체 일부에 착용한 장치를 조사줄자 사용시 두손을 사용해야하는 단점을 보완하기 위한 장치로 한손만으로도 줄자를 사용가능하게 하는 장치를 조사조사대상시스템 또는 DB국제분류(IPC)A45C 13/30가죽끈; 밴드G01B 3/08신장식G04B 47/06측정기구에 부착된 것, 예. 보도계, 기압계, 온도계, 나침반테마코드(F-term)2F061Fixed positions or presence조사범위■ 한국 ■ 일본 ■ 미국 ■ EP ■ PCT □ 기타조사DB□ KIPRIS ■ WIPS □ JPO □ 기타조사기간~ 2008. 4. 22까지의 공개 및 등록건키워드줄자손목홀더, 지지대, 밴드한손검색식1. (줄자* tapeline* measuring tape* ruler* tape-measure*) AND (손목* wrist*)2. (줄자* tapeline* measuring tape* ruler* tape-measure*) AND(홀더* 지지대* 받침* 밴드* holder* band*)3. (줄자* TAPELINE* MEASURING TAPE* RULER*) AND (손목* WRIST*) AND (홀더* 지지대* 받침* 밴드* HOLDER* BAND*)4. (줄자* TAPELINE* MEASURING TAPE* RULER*) AND (손목* W자료* X, Y – 주요참증에 해당, A – 참고참증에 해당* KP – 한국특허, KU – 한국실용, JP – 일본특허, JU – 일본실용위와 같은 선행기술조사결과를 통보하오니 과제 수행(또는 계획) 및 특허출원시 반드시 상기 자료를 참고하시기 바랍니다. 본 조사결과는 권리취득을 보장하는 등의 어떠한 법적 효력도 갖지 않습니다.2008년 4월 23일학과명: 생명화학공학과 작성자 : 김성민 (인)작성기관명: KAIST검토의견주요참증주요참증의 제안기술과의 대응내용관련도US5257729손목에 착용하고 편의를 위해 한 손으로 사용할 수 있는 점에 있어서 제안기술과 동일함줄자를 손목에 고정시키는 점에 있어서 제안기술과 유사하나 밴드와 줄자가 일체형이 아니라는 점에서 차이가 있음XUSD347589손목에 줄자를 착용하고 이를 고정시킨다는 점에서 제안기술과 동일함제안기술과 같이 밴드와 줄자의 일체형이 아니며 외부에 힘이 가해지면 줄자가 쉽게 탈착이 될 수 있는 가능성이 크다는 점에서 제안기술과 차이가 있음XUSD253939줄자를 밴드에 고정시켜 몸에 부착시킨 다는 점에서 제안기술과 동일함손목에 착용함으로써 얻을 수 있는 한 손 사용의 이점이 나타나 있지 않다는 점에서 제안기술과 차이가 있음XJU1993-004087손목에 착용하고 줄자와 손목시계가 부착된 기술이라는 점에서 제안기술과 유사함한 손으로 줄자의 사용이 가능한 제안기술과 달리 양손을 모두 사용하여야 줄자를 사용할 수 있다는 점에서 차이가 있음XKU1987-0005643밴드를 사용하여 줄자를 손목에 고정시키는 점에서 제안기술과 동일함YKP1992-0001151밴드를 사용하여 줄자를 손목에 고정시키는 점에서 제안기술과 유사함밴드와 줄자가 일체형인 제안기술과 달리 밴드와 줄자의 탈착 및 부착이 가능하다는 점에서 차이가 있음YKP2002-0066180줄자를 한 손으로 사용 가능하게 하는 기술이라는 점에서 제안기술과 유사함제안기술과 달리 줄자를 손목에 고정시키는 밴드가 없다는 점에서 차이가 있음Y특허성에 대한 검토의견제안기술고 판단되어 진보성이 없다고 판단됨위와 같은 내용으로 KU0336415를 참조하면 줄자 고정을 자석식이 아닌 일체형으로의 변경은 당업자가 용이하게 할 수 있다고 판단되므로 진보성이 없다고 판단됨특허성 확보방안선행문헌을 참조시 줄자를 사용함에 있어서 한 손만을 사용하는 방법 예를 들면 줄자를 손목에 밴드와 같이 부착하여도 이를 밴드가 부착되지 않은 손을 이용하여 줄자를 사용한다면 그 밴드는 단지 줄자를 잃어버리지 않기 위한 장치 또는 줄자를 따로 놓아둘 공간적 여유가 없을 때 용이한 장치가 될 것이다. 그러나 밴드를 창작한 손으로 줄자를 용이하게 이용할 우 있다는 점을 부각시키면 남은 한 손이 자유로워져 생활에서 작업등이 용이해진다는 점을 나타내면 특허성을 확보 할 가능성이 높은줄자를 손목 밴드를 이용해 손목에 부착시킬 시 한 손으로 줄자를 사용하기에는 불편함이 따른다 따라서 한 손으로 사용이 용이한 위치 예를들면 중지에서 약지에 이르는 크기와 이 위치에 착용할 수 있는 밴드 및 장갑식의 밴드로 줄자를 고정하여 엄지와 검지를 사용하여 줄자를 사용할 수 있는 기능등을 부각시키면 특허성을 확보 할 가능성이 높음줄자의 경우 안전성이 확보가 되지 않았다. 다시 말하면 줄자의 경우 길이 측정후 줄자 회수시 줄자 앞의 쇠부분에 의해 긁힘등 손가락에 작은 상처들을 유발할 수 있으므로 이에 대한 안전성을 확보한 기술을 부각하면 특허석을 확보할 가능성이 높음회피설계방안USD347589의 경우 이미 출원되었고 특허권이 존속하므로 이 시기에 특허를 출원할 경우 특허분쟁 소지가 있음 하지만 이 특허의 경우 특허 등록일이 1994년 6월 7일로 존속기간이 14년이다. 2008년 6월 6일까지 이 특허의 권리가 인정되므로 그 이후에 특허를 출원하는 것도 한 방법이라고 할 수있다.USD347589를 제외한 대부분 특허는 거절상태에 있으므로 USD 347589를 피하는 특허방안을 모색해야 한다. 이 선행특허의 경우 디자인에 관한 특허이므로 이 디자인을 벗어나는 디자인을 톨해 등록을 하면 특-the-go intermittent use of the tape measure while the tape measure remains in the tool holder-> 장갑형 밴드를 통해 한손으로 사용하는 줄자라는 특징을 부각시켜 특허 저촉 가능성을 낮춤등록청구의 범위 1. 손목시계에 뒤면에 줄자케이스를 시계뚜꺼에 결합시키고 줄자와 태엽형 탄성체를 형성하여 줄자케이스에 내장시켜 필요시 줄자 손잡이를 당겨 내장된 줄자로 길이를 측정할 수 있게 손목시게에 내장된 줄자->위와 마찬가지로 한손으로 사용이 가능하다는 점을 부각시켜 특허 저촉 가능성을 낮춤※ X, Y에 해당하는 주요참증마다 기재 (3~4건 정도)주요참증의 내용 요약관련도X발명의 명칭 HYPERLINK "javascript:GoDocView('/Kor_Search/Doc/US/us_doc_type1.asp?wkey=US00005257729__P&HL=');" Tool holder공개/등록번호US5257729출원국미국출원일자1992-09-24법적상태만료(유지비 미지불)출원인Mark C. Silvernail제안기술과 주요참증과의 비교제안기술의 내용요약주요참증의 내용요약줄자를 밴드를 이용하여 손목에 고정시킴손목에 고정된 줄자는 한 손으로 이용 가능하여 다른 작업을 동시에 수행하기 용이함Tool holder는 줄자 및 여러 장비들을 손목으로 부착 가능하게 함따로 줄자등의 장비를 손으로 쥐지 않아도 장비 사용이 용이하며 손목역시 유연하게 활동이 가능함.제안기술의 대표도면주요참증의 대표도면주요참증의 내용 요약관련도X발명의 명칭 HYPERLINK "javascript:GoDocView('/Kor_Search/Doc/US/us_doc_type1.asp?wkey=US0000D347589__P&HL=');" Wrist band and mounting for a tape measure공개/등록번호USD347589출원국미국출원일자1992-3-12법적상태특허 존속(Basic patent)출원인LaBate, Joseph A.mery, Robert C.제안기술과 주요참증과의 비교제안기술의 내용요약주요참증의 내용요약줄자를 밴드를 이용하여 손목에 고정시킴손목에 고정된 줄자는 한 손으로 이용 가능하여 다른 작업을 동시에 수행하기 용이함줄자가 고정된 손목 밴드에 대한 디자인 특허제안기술의 대표도면주요참증의 대표도면주요참증의 내용 요약관련도X발명의 명칭손목 시계공개/등록번호JP1993-004087출원국일본출원일자1991-07-02법적상태거출원인제안기술과 주요참증과의 비교제안기술의 내용요약주요참증의 내용요약줄자를 밴드를 이용하여 손목에 고정시킴손목에 고정된 줄자는 한 손으로 이용 가능하여 다른 작업을 동시에 수행하기 용이함줄자가 부착된 손목시계로 줄자를 언제나 용이하게 사용할 수 손목시계손목시계의 테두리에 줄자가 감긴 장비제안기술의 대표도면주요참증의 대표도면주요참증의 내용 요약관련도Y발명의 명칭손목에 차고 사용하게 한 줄자공개/등록번호KU1987-0005643출원국한국출원일자1985-09-23법적상태특허 존속(Basic patent)출원인박승희제안기술과 주요참증과의 비교제안기술의 내용요약주요참증의 내용요약줄자를 밴드를 이용하여 손목에 고정시킴손목에 고정된 줄자는 한 손으로 이용 가능하여 다른 작업을 동시에 수행하기 용이함줄자를 기계줄과 흡사한 끈과 함께 조립하여 줄자를 손목에 차도록 한 것끈은 시계줄과 흡사한 끈 혹은 고무밴드로 구성되어 있음제안기술의 대표도면주요참증의 대표도면주요참증의 내용 요약관련도Y발명의 명칭줄자공개/등록번호KU1992-0001151출원국한국출원일자1990-06-13법적상태특허 존속(Basic patent)출원인배규완제안기술과 주요참증과의 비교제안기술의 내용요약주요참증의 내용요약줄자를 밴드를 이용하여 손목에 고정시킴손목에 고정된 줄자는 한 손으로 이용 가능하여 다른 작업을 동시에 수행하기 용이함줄자를 밴드와 결합한 발명으로 밴드에는 걸이가 줄자에는 착탈 가능한 접합부재 및 접합부로 구성된 것을 특징으로 하는 줄자제안기술의 대표도면주요참증의 대표도면※ 관련도 A에 해당하는er

법학| 2009.01.08| 13페이지| 2,500원| 조회(4,751)

기술, 조사, 특허, 선행

미리보기

닫기
특허맵 작성

특허분석과 발명출원 (A) – 프로젝트 III 과제명: 페롭스카이트 제조 및 응용(10팀)*/30목차1서론2정량분석3정성분석4결론*/301-1. 조사주제산화 촉매로는 백금, 팔라듐, 로듐과 같은 귀금속을 γ-알루미나 등의 담체에 담지시켜 사용되는 것이 일반적으로 알려져 있다. 그러나 귀금속 담지 촉매는 가격이 비싸고 소결 및 고온 휘발 등의 문제점으로 인해 많은 제약을 받고 있다. 이를 대체하기 위하여 페롭스카이트(perovskite)형 복합 산화물 촉매에 대한 연구가 활발히 진행되고 있으며, 최근에는 ABO3형태의 A사이트(site)의 일부를 세륨(Ce), 스트론륨(Sr)과 같은 회토류 혹은 알카리토류 금속으로 치환하고 B사이트(site)의 일부를 망간(Mn), 철(Fe), 니켈(Ni), 구리(Cu), 크롬(Cr) 등으로 서로 치환하여 산화 활성을 향상시키는 연구 결과도 발표되고 있다. 특히 갈수록 심각해지는 환경오염 문제의 해결을 위하여 탁월한 산화 활성을 갖는 촉매의 개발이 절실히 요구되고 있는 추세이다. 본 보고서에서는 페롭스카이트 촉매의 제조기술과 이를 응용한 석유화학, 환경, 연료전지 공정기술에 대한 한국, 일본, 유럽, 미국의 특허 동향을 조사하였다.*/301-2. 검색식선행기술 검색용 데이터베이스 – WIPS (www.wips.co.kr) 이용 WIPS의 통합검색을 이용하여 데이터 조사 ~2008.05.12까지 공개된 선행문헌을 조사 검색식 설명구분키워드검색식필드구분S1페롭스카이트페롭스카이트* 페로브스카이트* perovskite*ABSS2촉매촉매* catalyst*TITLE+ABS+CLAIM 1S3제조제조* 합성* 방법* preparation* method* synthesis*TITLE+ABS+CLAIM 1S4BO1J처리조작; 운수(화학적 또는 물리적 방법, 예. 촉매, 콜로이드 화학; 그들의 관련 장치)Main IPCC01D무기화학(알칼리 금속, 즉 리튬, 나트륨, 칼륨, 루비듐, 세슘 또는 프란슘의 화합물)C01F무기화학(금속 베릴륨, 마그네atalytic Solutions, Inc.Cat10DAIHATSU MOTOR CO LTDDAIHATSU11HOKKO CHEM IND CO LTDHOKKO12DOWA MINING CO LTDDOWA13Ford Global Technologies, Inc.FordFord Global Technologies, Inc., A subsidiary of Ford Motor Company14'GAZ DE FRANCE (SERVICE NATIONAL)GAZGAZ DE FRANCESociete en Commandite Gaz MetropolitainSOC EN COMMANDITE GAZ METROPOLITAIN15HONDA MOTOR CO LTDHONDA*/301-5. 출원인 대표명화NO원출원인명대표명화한 출원인명16TERAOKA YASUTAKETERAOKA17'DAINICHI COLOR amp; CHEM MFG CO LTDDAINICHI18Exxon Research Engineering Co.Exxon19HINO MOTORS LTDHINO20주식회사 금성사 이헌조금성사21한국엥겔하드 주식회사 정형한한국엥겔하드22NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCEN.I.O.JNATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL amp; TECHNOLOGY23NIPPON SHOKUBAI CO LTDN. SHOKUBAI24NIPPON SOKEN INCN. SOKEN25NISSAN MOTOR CO LTDNISSANNISSAN | KIKUCHI HIDEKAZU | SEKINE YASUSHI26재단법인 포항산업과학연구원RIST27주식회사 포스코POSCO28쇼와 덴코 가부시키가이샤 오하시 미츠오쇼와 덴코29TOKYO GAS CO LTDTOKYO GASSEIBU GAS CO LTDSEIBU GASTOHO GAS CO LTDTOHO GASOSAKA GAS CO LTDOSAKA GAS30Asea Brown Boveri AktiengesellschaODIA ELECTRONICS AND CATALYSISREC62RO INST ZA HEMIJU TEHN I METALURGIJU OOUR INST ZA KATER I HEMIJU INJIN | USA GOVERNMENTUSA Gov.*/301-6. 기술분류표대분류중분류소분류기술분류코드페롭스카이트환경기술액상법110고상법112기상법114연료전지액상법120고상법122기상법124석유화학기술액상법130고상법132기상법134단순 촉매 제조액상법140고상법142기상법144*/302-1. 연도별 출원수 분석1970~1980년대에 비해 환경에 대한 관심과 인식의 증가로 페롭스카이트에 대한 출원건수 증가 2005년 이후 출원건수가 급격히 줄었으나 환경에 대한 규제 및 법률의 강화에 따라 페롭스카이트에 관한 특허 수는 계속 상승할 것으로 예상*/302-2. 상위 다출원인 출원수 분석MATSUSHITA의 20건을 제외한 나머지 출원인의 경우 9~11건으로 출원건수에 큰 차이가 없음 MATSUSHITA의 경우 1990년 이후에 특허 출원이 없어 대부분의 특허는 기간 만료에 따라 소멸될 것으로 예상됨*/302-3. 전체 출원인 출원점유율 분석3건 이하의 출원인의 경우 하나의 필드로 통합하여 분석 어느 한 출원이니 페롭스카이트에 대해 특허를 독점하는 경향을 볼 수 없으며 이에 따라 어느 한 출원인이 아닌 여러 출원인의 특허를 여러 관점, 각도에서 분석할 필요가 있음*/302-4. 국가별 연도별 출원수 분석페롭스카이트 촉매의 경우 환경 관련 특히 자동차 배기가스 처리에 많이 사용이 되고 있으며 이를 반영하듯 자동차 산업이 발달한 일본에서 페롭스카이트에 대한 특허수가 90여건으로 단연 으뜸. 유럽의 경우 페롭스카이트에 대한 출원건수가 일본, 미국, 한국에 비해 미미하며 미국의 경우 매년 꾸준히 패롭스카이트에 대한 특허가 출원되고 있다.76-8586-9596-9899-0001-0203-0405-0607USEPJPKR*************1*************3*************5* 형 복합 산화물 입자가 담지 되어 있는 것을 특징으로 하는 배기가스 정화용 촉매페롭스카이트 촉매 사용 범위를 기술청구항 2입자의 입경이,1nm 내지 5nm이고,그 페로브스카이트(perovskite) 형 복합 산화물 입자가 상기 담체상에 균일으로 분산시키고 담지 되어 있는 것을 특징으로 하는 청구항 1에 기재의 배기가스 정화용 촉매촉매의 특징을 기술청구항 3전구체의 입자에 반대전하를 대전시켜 형성된 페롭스카이트 촉매입자에 전하를 대전시켜 만든 촉매기술청구항 4청구항 3의 대전된 촉매를 에멀션내에서 합성하여 얻은 페롭스카이트 촉매촉매의 합성방법청구항 5복합 산화물 입자를 집합시키고 형성 되는 작은 구멍 구조의 담체 표면에,NOx 정화능을 가지는 페로브스카이트(perovskite) 형 복합 산화물층이 형성 되어 있는 것을 특징으로 하는 배기가스 정화용 촉매.합성밥법에 의해청구항 6상기 페로브스카이트(perovskite) 형 복합 산화물층이 담체 표면에 고체 상태 반응에 의하여 생성되는 것이는 것을 특징으로 하는 청구항 5에 기재의 배기가스 정화용 촉매.촉매의 특징을 기술청구항 7Fe,Mn,Co의 일종 혹은 2종 이상의 금속 및 상기 희토류 원소 혹은 알칼리(alkali) 토류 원소를 함유하는 상기 페로브스카이트(perovskite) 형 복합 산화물층을 합성하는 것을 특징으로 하는 청구항 5 또는 6의 배기가스 정화용 촉매를 제조하는 방법.담지체에 들어가는 활성금속의 종류를 기술청구항 8Fe,Mn,Co의 일종 혹은 2종 이상의 금속 이온(Ion)을 상기 담체상에 흡착시킨 것을 특징으로 하는 청구항 7에 기재의 쪽법비고*/303-7. 주요특허 KP2005-0028941상세분석KP2005-0028941발명의 명칭대표도현대자동차주식회사2중층 코팅구조의 팔라듐 삼원촉매 제조 방법 (Method for manufacturing double layer coated Pd only three way catalyst)청구항내용요약검토의견청구항 1팔라듐, 알루미나, 산화세륨 및 혼합지안민 백금, 질산 로듐, 염화이리듐산, 질산 팔라듐, 질산은 및 염화 루테늄으로 되는 무리로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로하는 청구항 1내지 3의 어느 한쪽 1항에 기재의 배기가스 정화 촉매촉매의 전구체를 청구함청구항 5상기 촉매 화합물의 배합 비율이, 상기 페롭스카이트 100중량부에 대하여 0.1~5 중량부인 것을 특징으로 하는 청구한 1내지 4의 어느 한쪽 1항에 기재의 배기가스 정화촉매청구항 6상기 바인더가 실리카 솔, 알루미나 솔, 질산 알루미늄 또는 활석인 것을 특징으로 하는 청구항 1내지 5의 어느 한쪽 1항에 기재의 배기가스 정화촉매바인더의 종류를 청구청구항 7페롭스카이트의 분말과 상기 촉매 화합물과 바인더를 혼련하고, 펠릿상에 성형한 뒤 또한 건조하고, 뒤이어 600~900도로 소성하는 것을 특징으로 하는 청구항 2 기재의 배기가스 정화촉매의 제조 방법혼합순서와 소성온도를 청구청구항 8(9,10)페롭스카이트의 분말과 바인더를 혼련하고 혼합물을 얻고, 얻어진 혼합물을 허니컴상에 압출 성형한 뒤, 건조하고, 또한 600~900도로 소성하고 허니컴상의 담체를 얻고, 얻어진 담체를 상기촉매 화합물의 수용액에 침지하고, 그 담체에 그 촉매 화합물을 함침시키고 담지시킨 뒤, 건조하고, 또한 500~800도로 소성하게 되는 것을 특지응로 하는 청구한 3기재의 배기가스 정화촉매의 제조 방법여러가지 촉매의 제조방법을 청구비고질소산화물 제거를 위한 촉매의 전구체, 바인더, 소성온도등을 청구함*/304-1. 결론 – 사용가능한 공지기술현재 에너지 문제가 대두되고 석유값이 100달러를 넘은 이때 대체 에너지에 대한 관심이 증가 하고 있다. 이중 하나인 연료전지에 대해 많은 관심을 가지고 있으며 연구실에서 역시 연료전지의 전극에 사용되는 촉매를 개발중에 있다. 선행문서 JP1986-234947, JP1987-221448 의 경우 존속기간만료로 소멸되었으므로, 특허청구범위 중 열안정성을 가지는 촉매 및 H형 층상 페롭스카이트 비스무스층을 이용한 페롭스카이트 촉}

경영/경제| 2009.01.08| 28페이지| 3,500원| 조회(1,051)

환경오염, 특허, 특허맵, 산화 활성, 페롭스카이트

미리보기

닫기
[공업화학실험]반도체 pattern 형성과정(식각 결과 리포트)

Pattern 형성 공정① 산화공정고온에서 산소나 수증기를 실리콘 웨이퍼표면과 화학반응 을 시켜 얇고 균일한 실리콘 산화막(SiO2)을 형성시키는 공정 후에 감광액(PR:Photo Resist)을 도포시킨다.PR(Photo Resist)② 현상 공정stepper를 사용하여 Mask에 그려진 회로패턴에 빛을 통과시켜 PR막이 코팅된 웨이퍼 위에 회로 패턴을 사진 찍는다.Mask? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?PR(Photo Resist)③ 현상( Development) : 빛을 받은 부분을 현상시켜서 PR (positive PR)을 제거한다.Developed PRDeveloped PR④ 식각 (Etching ) :화학물질이나 반응성 GAS를 사용하여 필요 없는 부분을 선택적으로 제거 시키는 공정으로원하는 회로 패턴을 형성시킨다. 반도체 생산 공정에서 가장 핵심적인 공정이다.< 식각에는 습식 식각과 건식식각이 있다.>>습식식각 공정에서는 광저항체 마스크에 의해 보호되지 않은 층상물질을 용해시키는데 HF 나 KOH와 같은 용액이 사용된다. 건식식각은 기상반응이 수반되는데, 이 반응에 의해 반응성이 매우 큰 성분, 일반적으로 플라즈마를 만들게 되고, 이것이 표면에 부딪혀 표면과 반응을 하거나 침식시키는 것 중의 하나가 일어나거나 또는 둘 다 동시에 일어나게 된다.○ 습식식각 과 건식식각의 장단점습식식각건식식각장점? 값이 싸고, 신뢰할 수 있다.? 마스크와 기판 모두에게서 탁월한 선택도를 나타낸다.? 비등방식각이 가능하며 정확한 패턴형성 이 가능하다.?자동화가 가능하여 수율을 높일 수 있다.?진공분위기에서 처리가 되어 깨끗한 공정, 폐수처리 문제가 없다.단점? 3 μm 이하의 제한 (등방성때문)? 화학적인 조작에 따른 위험성의 증가? 폐가스와 폭발의 위험성? 플라즈마 내의 이온의 충격이나 라디컬에 의한 손상, 오염발생? 건식식각이 어려운 물질이 있다.(Cu,Pt )▶ 주어진의 패턴의 특성상 정확하고 미세한 패턴 형성이 가능한 건식식각으로 식각공정을 수행해야 할 것이다.▶ 식각 후 PR제거- 고온에서 산소와의 반응을 시켜 CO2로 제거○ 식각 후 모습(식각후 PR을 제거한다.)⑤ 주어진 패턴을 형성시키기 위해 PR(positive PR)을 다시 입힌다.PR⑥ 2차 노광공정을 실시한다.? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?PR⑦ 2차 현상( Development) : 웨이퍼 표면에서 빛을 받은 부분의 막을 현상시킨다.

공학/기술| 2008.01.28| 3페이지| 1,500원| 조회(539)

반도체, 공업, 식각, Pattern

미리보기

닫기
[공업화학 실험]박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거

1. 실험제목박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거2. 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정은 박막재료의 세 가지 공정으로 나눠 지는데 첫째로 증착공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 박막의 식각공정으로서 마스크 패턴을 가지고 증착된 박막을 식각하는 것이다. 본 실험에서는 마스크에 의하여 형성된 패턴을 증착된 박막위로 전달하는 식각공정에 대하여 이해하고 그에 따른박막의 표면과 두께의 변화 등에 대하여 고찰하고자 한다.3. 실험내용가장 널리 사용되는 실리콘 산화막 (silicon oxide; SiO2) 박막을 적절한 식각가스를 선택하여 반응성 이온식각장치(reactive ion etcher; RIE)를 이용하여 식각한다. 식각 전후의 산화막의 색깔 변화를 관찰하여 식각여부를 확인하고 식각에 의하여 형성된 패턴의 모양을 관찰한다.4. 실험절차(1) 산화막(SiO2)의 패터닝(patterning) - Lithography 공정 (조교가 수행)(2) 패턴된 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용(3) 패턴된 산화막을 반응성 이온 식각장치를 사용하여 적절한 식각가스와 power를 선택하여식각 실험을 진행한다.(4) 식각된 산화막의 표면의 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용(5) 마스크 패턴의 제거 (O2 plasma ashing) - 플라즈마 ashing 장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 마스크 패턴을 제거한 산화막의 표면 색깔과 패턴 모양 관찰 - 광학 현미경 사용5. 실험이론(1) 플라즈마(Plasma)의 정의와 이용 분야① 플라즈마의 정의.- 얼음에 열을 가하면 물이 되고, 물에 열을가하면 수증기가 된다. 이와같이, 모든물질은 에너지를 가하여 가열하면 고체에서 액체로, 액체에서 기체로 변화한다. 이 변화는 온도가 일정한 상태에서 행하여져 상 변화라고 불린다. 이 기체에 더욱 에너지를 가exicitation이 있는데 이것은 불활성 기체가 포함된 경우 안정 상태의 원자나 준안정 원자들과 충돌해 여기나 이온화가 일어나는 경우이다.(ionization)(excitation)위의 여러 가지 현상을 보면 플라즈마가 생성되기 위해서 충돌하는 입자는 임계치 이상의 가속이 필요하며 또 실제로 플라즈마가 유지되기 위해서는 적당한 충돌 횟수가 보장되어야만 한다. 따라서 압력(압력이 높으면 충돌할 수 있는 입자의 수도 많음을 의미한다.)과 외부에서 인가하는 전압(전자를 가속시키는 일을 한다.)이 중요한 공정 변수가 된다. 하지만 너무 높은 압력은 충돌사이에 평균적으로 이동하는 거리(mean free path)를 짧게 하므로 충분한 에너지를 가지도록 가속되지 못하므로 이온화를 방해하는 결과를 초래한다.③ 플라즈마의 특성- 전기적 특성 : 전체적으로는 중성이지만 1/만개~백만개 정도의 이온과 자유전자가 존재하므로 외부의 전계에 의해 전류를 흘릴 수 있는 특성을 갖는다. 특히 플라즈마의 온도는 입자의 운동 상태와 직접적으로 연관되기 때문에 전도도 증가와도 관련된다.- 화학적 특성 : 플라즈마 내부에는 활발하게 운동하는 전자와 이온이 존재하기 때문에 다른 물질을 여 기, 전리시킬 수 있다. 따라서 다른 물질의 화학 반응을 활발하게 일어나도록 분위기를 조장해 준다.- 물리적 특성 : 전자와 이온의 질량차이가 아주 크다. 그런 이유로 각 입자의 운동속도도 아주 큰 차이 를 보이는데 이는 sheath, debye shielding 같은 현상을 초래한다.- 자기적 특성 : 플라즈마 내부에 있는 전자와 이온들은 자계를 걸어주면 운동방향이 자계방향과 직각으 로 원 운동하게되며 이러한 방식으로 플라즈마를 한쪽에 잡아 놓을 수 있게 되고, 플라 즈마의 밀도를 원하는 곳에 집중시킬 수 있다. 높은 밀도의 플라즈마는 전기저항이 낮 아지게 된다. 이러한 자기적 특성을 이용하면 전압을 상승시키지 않고 높은 밀도의 플 라즈마를 생성시킬 수 있다.④ 플라즈마의 응용분야- 신소재 합성 : 종래의콘 웨이퍼에 장벽층으로 사용할 물질들을 도포한다. 가장 일반적인 물질은 실리콘 산화막()이다. 공정 순서도를 보면 각각의 부분에 장벽물질로 질화실리콘(), 다결정 실리콘, 금속을 사용한다. 초기 실리콘 웨이퍼는 금속성 회색을 띤다. 여기에 실리콘 산화막 층이 형성되면 표면은 실리콘 산화막층 두께에 따라 다른 색깔을 띠게 된다.㉢ Coat with photoresist-실리콘 산화막을 형성한 후에, 웨이퍼 표면에 빛에 민감한 감광제를 도포한다. 표면은 깨끗해야 하고 감광제가 잘 붙어 있도록 건조해야 한다. 깨끗하게 산화 처리 된 웨이퍼들은 곧바로 코팅해야 한다. 감광처리하기 전에 접 착을 좋게 하기 위해서 접착 촉진제를 사용하기도 한다. 감광 제와 필름 표면의 접착이 제대로 되지않으면 실리콘 공정에서 문제가 생긴다. 접착력을 증진시키기 위해, 실리콘표면은 hexamethyldisilazane (HMDS)라는 접착력을 증진시키는 물질 을 사용하여 처리하게된다. 이 처리는 다양한 박막, 실리콘산 화막(), 인을 포함한 산화막, 다결정 실리콘, 질화실리콘()과 알루미늄에 대해 감광제의 접착력을 향상시킨다. 감광제는 일반적으로 액체 상태로 사용하는데, 웨이퍼를 진공 척에 물리고, 얇고 균일한 막을 얻기 위해 높은 속도에서 30～60초 정도 회전시킨다. 1000～5000rpm 정도로 회전시키면 두께는 2.5～0.5㎛ 범위가 된다. 감광제의 실제적인 그것의 점도에 따라 달라지며 회전속도의 제곱급에 반비례한다.㉣ Soft bake-소프트 베이킹이라 불리는 건조 과정은 감광제의 용제를 제거하고, 접합을 향상시키는데 사용된다. 오븐의 온도는 60～100℃로 공기나 진소 가스 분위기에서 5～10분 정도 건조시킨다. 소프트 베이킹 과정은 제작자들이 데이터 시트를 잘 만들어놓아서 그것을 면밀히 따라 하면 된다. 소프트 베이킹 후, 마스크를 배열하고 노출시킨다.㉤ Align masks-포토마스크는 한쪽 면이 감광 유제나 금속막으로 패턴이 되어 있는 사각형의 유리판이다. 각각의 마스크는의 크기는 규소봉의 구경에 따라 3“,4”,6“,8”로 만들어지며 생산성 향상을 위해 점점 대구경화경향을 보인다.-3단계 웨이퍼 표면 연마웨이퍼의 한쪽면을 연마하여 거울면처럼 만들어주며, 이 연마된 면에 회로패턴을 그려넣게 된다.-4단계 회로설계CAD(Computer Aided Design)시스템을 사용하여 전자회로와 실제 웨이퍼 위에 그려질 회로패턴을 설계한다.-5단계 Mask(Reticle) 제작설계된 회로패턴을 E-beam설비로 유리판 위에 그려 Mask(Reticle)를 만든다..-6단계 산화(Oxidation) 공정고온(800~1200℃)에서 산소나 수증기를 실리콘 웨이퍼표면과 화학반응시켜 얇고 균일한 실리콘 산화 막(SiO2)를 현상시켜는 공정이다.-7단계 감광액(PR:Photo Resist)도포빛에 민감한 물질인 PR를 웨이퍼 표면에 고르게 도포시킨다.-8단계 노광(Exposure)Steppee를 사용하여 Mask에 그려진 회로패턴에 빛을 통과시켜 PR막이 형성된 웨이퍼 위에 회로 패 턴을 사진 찍는 공정이다.-9단계 현상(Development)웨이퍼 표면에서 빛을 받은 부분의 막을 현상시키는 공정이다.-10단계 에칭(Etching)회로패턴을 형성시켜 주기 위해 화학물질이나 반응성 Gas를 사용하여 필요없는 부분을 선택적으로 제 거시키는 공정으로 이러한 패턴형성과정은 각 패턴층에 대해 계속적으로 반복된다.-11단계 이온주입(ION IMPLANTAION)회로패턴과 연결된 부분에 불순물을 미세한 Gas입자 형태로 가속하여 웨이퍼의 내부에 침투시킴으로 써 전자소자의 특성을 만들어 준다. 이러한 불순물주입은 고온의 전기로 속에서 불순물입자를 웨이퍼 내부로 확산시켜 주입하는 DIFFUSION(확산)공정에 의해서도 이루어진다.-12단계 화학기상증착(CVD:Chemical Vapor Deposition)공정Gas간의 화학반응으로 형성된 입자들을 웨이퍼표면에 증착하여 절연막이나 전도성막을 형성시키는 공정이다.-13단계 금속배선(Metallization)웨이퍼 표MetallizationMetallization은 회로 요소의 적당한 interconnection이 만들어지는 공정 단계이다. 알루미늄이, device의 ohmic contact을 만들고 칩의 끝에 bonding pad를 연결하기 위해, IC들의 연결에 사용되는 일반적인 금속이다. 알루미늄은 실리콘과 실리콘 dioxide에 잘 붙으므로 쉽게 vacuum deposition 할 수 있고 알루미늄은 높은 전도도를 가지고 있다. 게다가 순수한 알루미늄에 있어서, 알루미늄의 합금이 다른 performance-related 이유 때문에, IC interconnection의 형성에 사용된다. 금속 spike의 문제를 막기 위해서 적은 양의 알루미늄이 알루미늄 metallization에 더해진다. 금속층은 다음의 방법에 의해서 wafer에 vacuum - deposit 된다.1) Filament Evaporation2) Flash Evaporation3) Electron-beam Evaporation4) Sputtering(4) 식각(etching)의 정의와 종류 (식각 장비의 종류와 원리를 중점적으로)①식각의 정의-여러 종류의 막이나 Si 기판의 일부 또는 전부를 제거하는 프로세스가 에칭이다. 에칭 기술은 리소그래피 기술과 더불어 집적회로의 복잡, 미세한 패턴을 반도체 기판 위에 정밀하게 전사하는데 필요한 중요기술이다. 산이나 알칼리 용액과 같은 액체에 기판을 침적시켜 행하는 습식에칭과 가스를 방전시켜 그 속에서 에칭을 실행하는 건식(드라이) 에칭으로 크게 구별된다. 또 에칭 기구의 측변에서 보면 화학 반응을 이용하는 화학 에칭과 이온 등을 가속시켜 기판을 충격하여 스퍼터 현상에 의해 에칭을 하는 물리 에칭이 있다. 식각은 지정된 영역에서 선택적으로 물질을 제거하여, 기판 위의 감광제 또는 하드마스크(hard mask)를 통하여 패턴을 전사하는 것인데 포토리소그래피와 습식식각 공정은 오랫동안 인쇄산업과 회로 기판을 만드는데 사용되어왔다. 이러한 기술들은 1950년대에 트되어

공학/기술| 2008.01.28| 13페이지| 2,500원| 조회(342)

반도체, 공업, 박막, 식각

미리보기

닫기