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[재료공학] 표면처리공정

1.표면처리기초이론: 금속표면처리의 목적은 부식을 방지하는 방식성, 색채 및 광택을 향상시키는 장식성, 경도, 내마모성, 내열성 등을 향상시키는 기능부여 등을 근본적인 목적으로 하고 있다.1)표면처리의 종류(1)도금: 금속의 표면이나 비금속 표면에 다른 금속을 사용하여 피막을 만드는 처리이며, 처리방법으로서는 전기도금, 화학도금, 용융도금, 진공도금, 침투도금, 이온도금 등이 있다.(2)화성처리(chemical coating): 금속 표면에 일종의 화학피막을 만들어 주는 화학적인 처리를 말하며, 처리방법으로서는 인산염 피막처리, 크로메이트 처리, 착색등이 있다.금속 표면에 화학 변화를 일으켜서 인산염(인산망간, 인산 아연, 인산철 피막 등과 복합 피막)피막 또는 산화 피막 등을 제조함.방식 및 도장 하지용 피막, 금속 착색 등에 이용됨.(3)양극 산화 피막(Anodizing): 금속물체를 양극으로 하여, 전기화학적으로 산화피막을 만드는 피막이며, 주로 Al의 산화피막에 널리 사용되고 있다.(4)Painting(도장): 부식을 방지하는 동시에 미관을 주기위한 목적으로 금속의 표면에 도료를 칠하는 방법을 말한다.금속표면에 도료를 도포하여 방식과 미관을 좋게 하는 방법으로 각종 철물의 기계 구조 및 건축물 등에 이용됨(5)lining: 금속으로 만든 탱크등의 내면에 납판, 고무, 합성수지등을 피복시키는 것을 말한다.금속 표면에 고무나 합성 수지 등의 피복을 해 주는 방법으로 화학 장치류, 도금 탱크 등에 이용됨(6)표면 경화 (Case hardening): 탄소나, 질소등을 침투시켜서 표면을 경화 또는 기타의 방법으로 물리적 성질을 향상시키는 방법을 말한다, 그러나, 이 처리방법은 주로 금속 열처리 분야에서 취급하고 있다.금속 표면에 C, N을 침투시켜서 경도가 큰 피막을 만들어 주는 방법으로 기어 등 내 마모성과 경도를 표면에 요하는 부속품 등에 이용됨(7)Coating: 금속표면에 합성수지 또는 법랑(enamel), 세라믹 같은 투명 수지 피막 또는 유리질 피막할 물건의 표면의 거시적인 요철을 평활하게 깍아 내리며, 버프(buff)표면에 접촉시킨 에머리의 입도의 크기와 접촉방법에 따라서 조연마면의 줄의 홈(눈, 메)의 깊이가 달라진다. 이 깊이가 클수록 그후의 피니싱연마까지 완전광택을 얻는데 고생을 하게 된다.(2) 완성 연마(polishing): 이 연마에서는 조연마로서 거친 면을 편편하게 깍을 때 면이 에머리에 의해서 생긴 홈을 중연마(cutting down)에서 몇 단계의 고은 에머리 버프연마에 의해서 점차 가는 홈(finer scratch)으로 만들고, 최후에 유지 연마제로 광택있고 홈이 없는 완성면을 얻도록 한다. 그 최후의 광택있는 연마를 광연마라 한다. 조연마 때와는 달리 표면으로 갈수록 결정입자가 미세하게 되었으며, 이것은 버프의 압력에 의해서 볼록 부분이 오목부분으로 밀려간 것이고, 이때 열이 발생하여 용융상태로 유동되었다고 생각할 수가 있다.(3)버프연마: 버프연마는 버프(원형으로 잘라진 모직물, 상베, 가죽등을 여러장 중첩시켜 차바퀴 형태로 재봉하여 만든 것)를 연마기축에 설치해서 회전시켜 연마하는 방법이다. 버프연마는 작업공정상 거치른연마, 중간연마, 마무리연마로 나누어진다. 또 공정에 의해서 사용되는 버프의 재질, 크기 혹은 연마재가 달라진다.연마재로는 에머리와 유지성 연마재가 쓰인다.(4)전해연마: 어떤 특정한 약품의 용액내에서 피연마체(연마되는 물질)를 양극으로 하고, 적당한 금속을 음극으로 하여 전기 화학적으로 거시적 또는 미시적으로 요철을 가진 표면을 광택이 있는 평활면으로 만드는 방법V-A curve (전압-전류곡선)전해연마액 중에 금속을 넣고 직류전압을 가해서 전압을 상승시켰을 때 일반적으로 아래와 같은 전류곡선을 얻는다.a : 미진행 단계: 양극 금속의 용해는 있으나, 연마작용은 전혀 없다.* : 변절점(critical point): 양극금속 표면에 연마피막이 형성되기 시작하는 곳. 전압에 대한 전류가 비례관계가 되않는다.b : 양극 금속 용해 효율적으로 이루어짐: 평탄한 부분이 다른 연마버프 (조연마,광연마 등)에 의해서 연속적으로 연마.ex) 로우터리 (rotary)형 자동버프 연마기(4) 센터레스(centerless) 연마기파이프 같은 것의 보통의 버프연마가 어려워 두개의 버프의 회전속도를 달리하여 연마하며 파이프가 연속적으로 이동, 연마된다.(5) 회전식(barrel) 연마기-수평식(horizontal type), 경사식(oblique-barrel type)-소형제품의 광택 (소량다품종 제품의 연마사상에 최적)?수지, 플라스틱 광택(단추, 모조진주)?다이캐스팅 제품의 Parting 라인 제거회전식 배럴 연마기 경사식 배럴연마기(6) 진동식 연마기회전식 배럴 연마는 유동층에서만 연마(20% 이하)가 되고 유동층이 아닌 곳에서는 연마가 잘되지 않으므로 배럴 전체에 진동을 주어 연마능력을 향상시킨 연마기.박스형 진동연마기?中, 大型 공작물 스케일, 후래쉬제거, 바리제거에 적합?전후 工程에 연계하여 Continous Flow System 구성에 적합?강구(Steel Ball)사용시 광택연마에 최적?베아링등의 Prestress, stressrelieve 연마에 적합(7) 고속도 원심유동식 연마기회전축을 고속으로 선회 시킬 때 발생하는 원심력을 이용한 연마기입니다. 일반적으로 회전반을 60RPM이상 회전시키면 바렐 탱크내의 장입물(MASS)에 원심력의 작용과 압력이 발생하게되는데 회전반의 반대방향으로 회전하게 고안된 바렐 탱크는 원심력에 의해 원주상의 가장 먼 내벽에서 연마석과 혼입된 공작물에 강한 압력과 마찰을 일으켜 단 시간 내에 연마가 이루어집니다.원심 연마기는 특히 비교적 소형제품의 연마에 적합하며 PRECISION 제품의 치밀한 연마가 가능하며 처음 작동시의RPM 조정을 적절히 하면 초소형 부품과 부러지거나 구부러지기 쉬운 박물 소형제품도 변형, 손상이 처리됩니다.4)조도측정법(1) stylus법 : 레코드판의 원리로써 바늘을 사용하여 일정 속도로 표면을 긁어서 조도를 측정하며, 기록하는 방법.(2) 광학 조도 : 간섭 현미경(I간에 많은 가스가 발생함으로써, 더러움의 신속한 제거가 된다.2) 음극탈지일 때는 음극부근에 Na 이온 등의 석출하며 수소가스의 발생과 동시에, 알카리가 생김으로써 강알칼리가 되어 유지의 비누화를 가속시킨다.3) 음극에 발생하는 수소에 의한 금속표면의 환원.4) 양극탈지일 때는 양극에 발생하는 산소에 의한 더러움의 산화.5) 양극용해에 의한 금속표면 화합물 및 더러움의 제거 등의 장점이 있다.*전해탈지의 단점1) 음극탈지에서는 음극에 생기는 철강등의 수소취성이 발생2) 불순물의 흡착 또는 전착.3) 전기적 불균일성으로 인한 탈지효과의 불균일성 발생4) 발생하는 가스의 mist공해와 폭발의 위험성 등이다.4)에멀션 탈지(Emulsion cleaning)용제와 물에 계면활성제를 첨가하여 유화시킨 액(유화제)으로 오물을 제거하는 방법이며, 물 10 - 200에 용제 1정도의 계면활성제 0.1 - 0.5% 액을 사용하며, 물에는 알카리를 3 - 10 g/l 가할 수도 있다. 예비탈지에 속한다.에멀션 탈지제는 클로로에틸렌, 케로신 등의 용제와 물을 유화시킨 용액5)초음파 탈지물건을 탈지액(용제 또는 알카리)중에 침지하여, 이것에 초음파의 진동을 주어 공동현상(Cavitation)에 의한 오물제거 능력을 높인 방법인데, 떨어지기 힘든 고형물이나, 구석에 있는 더러움도 쉽게 떨어진다. 그러나, 이 장치는 값이 비싸고, 설계가 잘되어 있지 않으면, 충분한 효과를 얻을 수 없다.3.산처리(Pickling)도금전처리로서의 산처리에는 산세와 산침지의 두가지가 있다. 이들은 정도의 차이는 있을 망정, 소재금속면에 생긴 산화층을 제거하고 새로운 금속면을 노출시켜서 외관과 밀착성을 향상시키는 처리방법이다.Acid Dip(산침지): 금속을 산에 단시간 침지하는 처리로 표면 산화층을 제거하여 표면을 활성상태로 만든다.cf) HCl ＋ H2O →「HCl 이 우선 휘발되므로 점점 묽어진다.」: 상온의 HCl 은 보통 15～50%로 사용하기도 한다.H2SO4 ＋ H2O → 점점 강산이 된다. 금에 쓰인다.⑥ 설폰산 니켈 : 저 내부응력, 전주용 고속도금이다.2. 무광택 니켈도금* 도금액의 조성과 조건성분과 조건보통욕왓트욕회전욕황산니켈암모늄---황산니켈150~20024070~150염화니켈-45-염화암모늄15-30붕산153030라우릴 황산나트륨---PH5.4~6.21.5~6.05.0~5.5온도20~3540~5030~40음극전류밀도10.5~1.52~10-①무광택 니켈은 니켈염, 염화물, 붕산이 주체가 된다.* 니켈염 : 황산니켈, 황산니켈 암모늄* 염화물 : 염화니켈, 염화암모늄, 염화나트륨② 광택제를 첨가하지 않고 특수한 미립자로 액속에서 물건에 때려 무광택으로 만드는 방법이다.③ 샌드블라스트 등으로 미리 표면에 쇠가루로 때려 무광을 내는 경우도 있다.3. 광택 니켈 도금1) 도금액의 조성 및 조건성분 및 조건Udylite사 조건비 고NiSO4·6H2O g/ℓ240~320240Nicl2·6H2O g/ℓ45 ∼ 6045H3BO3g/ℓ45~6045광택제 ㎖/ℓ적정량적정량온 도 ℃55~6555전류밀도 A/d21~122-8교 반공기교반-여 과상시여과-P H3.5~4.55시 간 분5~1510양 극전해니켈-※ 완충작용 : PH 변화를 안정하게 해주는 역활※ 완충제 : 붕산, 의산니켈※ 붕 산 : 4.5∼5.5 PH※ 의산니켈 : 2.5∼4.0 PH2) 도금액 성분의 역활1> NiSO4: 니켈함유량-22.3%① 도금의 주성분이며, 니켈이온의 공급원이다.② 농도가 감소하면 광택이 저하하고 충분한 도금 두께가 되지 않고 도금 속도도 느리다.2> NiCl4: 니켈함유량 - 24.7%① 양극 용해를 좋게 하고, 액의 전기 전도도 향상.② 밀착성, 평활성이 향상되어 전류밀도가 넓어진다.③ 과잉되면 Pit와, 피막를 경화 시키며, 적을때는 광택이 떨어진다.④ 양극 분극을 감소시켜 욕의 전도성을 좋게 해준다.- 수소가스의 방해3> H3BO3① 백색 결정 또는 미세한 분말로 80℃ 이상에서 잘 용해되며, 액의 온도가 낮으면 도금액 중에서 결정으로 된다.② PH의 완충제 역활을 다.

공학/기술| 2004.11.04| 13페이지| 1,000원| 조회(1,250)

도금, 표면처리, 니켈도금

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[재료공학] Fe 표면에 시안화동 도금

Fe표면에 시안화동 도금동은 공기중에서 변색하기 쉬우므로 이것 자체를 장식용 또는 방식용 목적으로 사용하지만 금 은 니켈등의 기초도금으로 굉범위하게 이용되고 있다.그 종류로는 욕조성에 따라 분류하면은 산성욕과 알칼리욕으로 크게 나눌 수 있다.산성욕에는 황상동욕,붕소플로오르화동욕 슬퍼민산동욕등이 있고 알칼리성동욕에는 시안화동욕 피로인산동욕,아민동욕등이 있다.방법 순서①침적탈지 (60℃,10min) 절삭유 및 기타 이물질을 제거↓수세②전해탈지(음극) (60℃,20sec) 침적탈지에서 제거가 안된 이물질을 전기적으로 제거↓수세③염산세 (상온,300sec) Fe소재에 있는 속을 제거하는 공정↓수세④청화동(시안동) (60℃육안확인)1.침적탈지1적용범위1) 이표준은 철 스테인레스 및 동 소재의 침적탈지에 대하여 적용한다2,액조성 방법1)#39제를 50g/L 로 건욕한다.3.관리방법1)관리항목온도:40-50℃, #39농도:30-60g/L2)관리주기온도: 1회/일농도: 1회/일4.농도분석방법1)#39분석방법탈시액 10ml를 300ml 코니컬 비이커에 채취한 후에 정제수 100ml와 p.p지시약을 가한다시료액이 짙은 분홍색에서 무색을 변하는 점을 종점으로하고 1N HCL의 소비ml수를 현 재의 포인트로 한다.5.작업방법1)탈지한 제품을 치구에 고정하여 침지한다2)5-10분 후 탈지상태를 확인하고 3단 수세한다.6.자주검사1)소재에 이물질이 부착이 없어야 한다2)자주검사의 내용은 기록하지 않는다.7.주의 사항알칼리성 수용액으로서 피부의 직접적인 접촉을 피한다.2.전해탈지1.적용방법이표준은 전해 탈지레 대하여 적용한다.2액조성 방법NaCN 50g/L와 NaOH 59g/L 로 건욕한다.3.관리방법1) NaCN농도:30-60g/L2) NaOH농도:30-60g/L4.관리주기1)농도:1회/주5.농도분석 방법1)NaCN탈지액 5ml를 취하여 코니컬 플라슼에 담고 순수 50ml를 가한다.10% KL 5ml를 가한다0.1N AgNO₃로 적정한다.교반하여도 백탁이 없어지지 않는 점이 종말점이다다0.5N 염산용액으로 pH 11.1까지 적정한다.계산식: NaOH=염산용액 소모량ml*4.06.작업방법전압을 10V 정도로 고정하고 탈지할 제품을 침지한다10-60초 후 탈지상태를 확인하고 3단 수세한다필요에 따라 약간의 교반을 행한다.7.주의 사항치구가 양극과 음극에 합선되지 않도록 한다.3.산세1. 적용범위이표준은 산세에 대하여 적용한다,2. 액조성 방법1)염산산세:염산10-15%2)황산산세:황산10-15%3. 관리방법1)관리항목염산세 비중 1.015-1.025황산세 비중 1.07-1.102)관리주기비중:2회/주4.작업방법제품을 치구에 고정하여 침지한다5-30초 후 상태를 확인하고 3단 수세한다5.자주검사소재에 이물질이 없어야 한다.자주검사 내용은 기록하지 않는다.6.주의 사항1) 산세액이 직접 피부에 접촉하지 않도록 한다.2) 고탄소강의 경우 산세시간을 보다 짧게 작업한다.3) 철 소재의 경우 산세,수세,후 빠른 시간안에 다음공정으로 이동하여 녹이나 얼륵 발생을 최소화 한다.4.청화동1)작업방법: 전류를 확인하고 도금액에 침지후 필요시 음극 교반을 행한다.5-30초 후 상태를 확인하고 3단 수세한다.2)자주검사소재에 이물질의 부착이 없어야 한다.3)주의사항도금액이 직접 피부에 접촉하지 않도록 한다.제품이 양극이나 음극에 직접 잫지 않게 주의한다.염수분무시험방법(KS9502)1.적용 범위이규격은 금속재료 또는 도금, 무기피막등을 입힌 금속재료의 내식성을 염수분무시험에 의해서 실험하는 방법에 대하여 규정한다.2. 장치1)염수 시험에 필요한 장치는 분무실, 염수탱크, 압축 공기의 공급 분무노즐, 시험편지지기실 가열설비.조절장치 등이다. 이 규격에 규정한 모든조건에 적합하면 장치의크기 및 상세한 구조는 임의로 할수있다.2)분무실의 천정이나 뚜껑에 고인 용액의 방울이 시험편에 떨어지면 안됨3)시험편에서 떨어지는 용액의 방울이 염수탱크로 다시 들어와서 또 다시 시험에사용되어선안 됨4)재료는 분무의 부식성에 영향을 주지 않는 것이어야 한다.3.시험편시험편의 모양,치강성탄산칼슘 및 산화 마그네슘 이외의 연마제와 부식성 또는 보호피막을 생기게하는세척제를 사용하여선 안됨2)페인트 및 비금속 피막으로서 피복한 시험편은 시험전에 다른 처리를 해서는 안됨3)페인트 또는 유기피막의 손상으로부터의 부식진행을 측정할필요가 있을 때에는시험전에 소지금속이 노출되도록 끝이 뾰족한 기구로서 피막을 끍어 상처를 만든다.이 상처를 만드는 조건은 당사자 사이의 협정에 따른다.4)만약 다른 규정이 없으면 피막을 입힌 재료 및 합판의 시험편절단면 또는 지지기에닿는 부분은 시험중 안전한 피막으로서 보호하지 않으면 안된다.5.시험중의 시험편의 위치1)다른 규정이 없는한 시험편의 주요면은 연직선에서 부터 그결과에 영향을 미치지않는 범위의 각도로 기울게하되,실내 분무의수평 흐름의 주요방향에 평행으로설치 해야 한다.2)시험편은 지지물 이외의 것에 접촉되어서는 안됨3)모든 시험편은 분무의 자유낙하를 방해받지않도록 설치되어야한다.4)하나의 시험편으로부터의 염수는 다른 시험편에 떨어지지 않도록 하여야한다.[주의]15∼30의 기울기를 표준으로 한다. 지지물의 재료로서는 유리,고무,플라스틱 또는적당이 피복된 목재가 좋다.시험편은 밑변또는 측면을 지지하되 피복하지않은 금속을사용 해서는 안됨.평평한 시험편은 홈이 파인 재료가 적당하다. 시험편이 규정된위치에 놓여 지도록하기위해서는 유리걸이 또는 비닐끈을 사용해도무방하다.만약 필요하다면 시험편의밑면을 2차적으로 받쳐준다.식염수를 조제하는데는 증류수 또는 전체 고형물이 200ppm 이하의 물에 용해하고염농도를 51%로 조제한다. 사용하는 염화나트륨은 KSM8115의 일급 상당품으로 35˚C에서 분무한상태의 용액은 PH 6.5-7.2의 범위에 있도록 한다. 용액은 분무전에현탁물이 있어서는 안된다. PH측정은 포화 염화칼륨 전교를 사용한 유리 전극으로하거나 또는 지시약으로써 부롬티몰 블로우(beomthy-mol blue)를 사용하는 비색법이다.염용약을 분무하기 위해서 노즐에 보내는 압축공기는 기름및 먼지가 없고0.7 ∼1.8 Kg료주면에 놓되 다른것으로부터액이 떨어지지 않도록한다.채취용기는 시험편 가까이 놓되, 하나는 노즐에 가장 가까운곳에, 다른하나는가장 먼곳에 놓는다. 적어도 16시간 이상의 분무시험을 평균해서 각 80Cm의수평채취면적에 대해서 1시간당 0.5∼3.0ml의용액각채취용기에모이도록하지않으면안된다. 채취용액의식염농도는중량%로 5 1%가되지않으면안된다.그리고 그 PH는 6.5~7.2이어야만 한다. PH측정은 전기적으로 하든지 또는비색법으로 한다.[ 주의 ]적당한 채취장치는 메스실린더의 마개에 유리깔때기를 꽂은 것 또는 결정접시가적당하다. 지름 10Cm인 깔때기 또는 접시는 약 80Cm의 면적이면 된다. 용액은33 ∼ 35˚C에서 그 비중이 1.0255 ∼1.04100일 때가 규정한 농도에 적합하다.농도는 또 다음과 같이 측정해도 좋다. 5ml의채취용액을증류수로서 100ml로회석시켜잘혼합한다. 증발접시또는카세롤에 10ml를피펫으로취한다. 40ml의증류수및 1ml의 1%크롬산칼륨(염화물은함유하지않음)을가하고, 안정된적색이나타날때까지 0.1N 질산은의 4.4 ∼5.5ml를필요로하는용액이규정한농도에적합하다.8-3. 노즐위치분무가직접시험편에부딪치지않을방향으로노즐을놓든지또는분무의직사를차단한다.9. 시험의계속시험할재료또는제품규격에규정이없는한, 시험은시험기간중연속해서하여야한다.연속조직이라함은, 분무시를밀폐하고시험편의검사,재배치, 용액탱크중용액의검정및보급등에필요한단시간의중단이외에는계속적으로조작하는것을의미한다.연속조작은중단이최소한으로되도록하여야한다.10.시험기간시험기간은시험할재료또는제품규격에따라지정한다.11.시험후의시험편의세척시험편은 시험할 재료 또는 제품규격에 규정되어있지않는한, 시험편은시험후다음과같이처리되어야한다.(1) 시험편은조심스럽게옮겨져야한다.(2) 시험편의표면에석출된소금을제거하기위해서시험편을 38˚C이하의깨끗한 흐르는 물로 씻고 곧 말린다. 필요하면 소지금속의 부식정도를관찰하기 위해서 솔질을 하여 부식생성물을 제거하여도 좋다.12.결과의 판정시험결과의 판정은 각 재료 규격 또는 료 주변의 온도(3) 다음 사항에 대한 각 채취 용기로부터 얻어진 수치의 일일기록가. 80Cm에 대하여 시간당 채취한 식염수의 용량(ml)나. 채취용액의 35˚C에 있어서의 농도 또는 비중다. 채취용액의 pH(4) 시험편의 형태, 치수 또는 부분품의 번호 혹은 명세(5) 시험전후에 시험편의 세척 방법(6) 염수분무실 내에 있어서의 시험편의 지지 또는 현수방법(7) 4.의(4)에 의해서 사용한 보호의 종류(8) 분무시간(9) 시험을 중지한 경우는 그 이유와 중지시간(10) 모든 검사의 결과참고) 다음에 기재하는 것은 규격의 일부가 아니고 참고로 표시한 것이다.장치의구조1. 장치의 형식이 규격이 요구하고 있는 조건에 적합한 장치의 형식을 그림1에 표시한다.분부실의 구조 재료로서는 고무 또는 플라스틱으로서 라이닝(lining)한강재, 도자기, 유리,모넬메탈 및 적당히 피복한 목재가 좋다. pH 6.5 이하의식염수를 저장하는 용기는 고무 또는 플라스틱을 라이닝한 강재, 도자기또는유리로서 만드는 것이 좋다. 노즐은 유리, 모넬메탈, 경질고무 또는 플라스틱으로서 만드는 것이 좋다.그림2에 표시한 우리제 노즐은 노즐에 있어서의 공기압력이 0.8 ∼1.3 Kg/cm{0.0784 ∼0.1275MPa}일 필요가 있다. 보통 0.34m 의 실에는 그와 같은 노즐 2개를사용하고 24시간에 약 3.8l의용액을분무하는것이좋다.그림3에 표시한 모넬탈제 노즐은 단단해서 파손될 염려는 없다.전체가 모넬메탈제의 무저절사이픈식, 분무가 둥글게 되는 노즐로 20cm 의 높이로빨아올릴 때는 표1과 같은액을 분무할 수가 있다.표1+-----------------------+--------------+-------------+------------+|분무기 압력kg/cm {MPa} | 0.7 {0.0686} | 1.1{0.1079} | 1.4{0.1317}|+-----------------------+--------------+-------------+------------+|분무 공기 m / Min7 |

공학/기술| 2004.11.04| 7페이지| 1,000원| 조회(1,047)

도금, 동도금, 염수분무, 시안화동, 염수분무시험

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[비정규직] 비정규직의 규모와 실태 평가C아쉬워요

*비정규직 규모와 실태*비정규직 문제의 원인 비정규직의 실태 비정규직의 규모 문제점과 해결방안 5. 비정규직 문제에 대한 우리의 자세1. 비정규직 문제의 원인1) IMF에 따른 경제 위기2) 고용 창출의 격감3) 고학력에 따른 취업 기피와 실업난4) 법적인 보호와 규제 미비5) 기업의 윤리 의식의 약화6) 국민의 비정규직 문제에 대한 의식 부족2. 비정규직의 규모첫째, 우리나라 비정규직은 2002년 8월 772만명(임금노동자의 56.6%)에서 2003년 8월 784만명(임금노동자의 55.4%)으로, 지난 1년 동안 12만명 증가했고 그 비율은 1.2% 감소. 둘째, 정규직과 비정규직 사이에 노동조건 격차가 확대. 셋째, 임금소득 불평등(90/10)은 시간당 임금 기준으로 2001년 5.2배, 2002년 5.5배, 2003년 5.6배로 빠른 속도로 증가. 넷째, 2003년 8월 시간당 임금이 2,510원 미만인 사람은 92만명이다. 그러나 이들 가운데 63만명은 최저임금을 적용받지 못 하고 있다. 따라서 2003년 9월부터 새로이 적용된 법정 최저임금의 영향률은 2.2%에 불과할 것으로 추정.[표1] 비정규직 규모 (2003년, 단위:천명,%)종사상지위전체2002년상용임시일용수비중수비중임금노동자(1)7,2364,8722,04114,149100.013,634100.0정규직 (2=1-3)6,3076,30744.65,91143.4비정규직 (3=①+--+⑧, 중복제외)9294,8722,0417,84255.47,72356.6고용계약임시근로7664,8722,0417,67954.37,46454.7(장기임시근로) ①3,6519384,58932.45,46840.1계약근로 ②7661,2201,1033,08921.81,99614.6근로시간파트타임 ③103925289306.68065.9근로제공방식호출근로 ④5895894.24233.1특수고용 ⑤944031046014.27485.5파견근로 ⑥444113980.7880.6용역근로 ⑦105183573452.43462.5가내근로 ⑧7501091661.22381.7*2003년 8월 부가조사 결과를 2002년과 비교하면, 비정규직은 772만명에서 784만명으로 12만명 증가했고, 정규직은 591만명에서 631만명으로 40만명 증가했다. 이에 따라 비정규직 비율은 2002년 56.6%에서 2003년 55.4%로 소폭 감소했다. *고용형태별로 장기임시근로는 547만명(40.1%)에서 459만명(32.4%)으로 88만명(7.7%) 감소했고, 계약근로는 200만명(14.6%)에서 309만명(21.8%)으로 109만명(7.2%) 증가했다. 그러나,장기임시근로와 계약근로를 합친 임시근로는 각각 746만명(54.7%)과 768만명(54.3%)으로 거의 변함이 없다.남자는 정규직이 452만명(54.6%), 비정규직이 376만명(46.8%)으로 정규직이 많다. 이해 비해, 여자는 정규직이 179만명(30.5%), 비정규직이 408만명(69.5%)으로, 비정규직이 2배 이상 많다.*.남녀 차이에 따른 불평등3. 비정규직의 실태여성 노동자 10명가운데 7명이 비정규직인 것이다.이러한 남녀간에 차이는 주로 장기임시근로, 계약근로 등 임시근로와 파트타임에서 비롯된다. 즉 장기임시근로는 남자가 25.0%, 여자가 42.9%이고, 파트타임은 남자가 2.9%, 여자가 11.7%로 그 격차가 크다. 그렇다고 해서 남자 비정규직이 적은 것도 아니다. 절대 수에서 비정규직은 남자 376만명, 여자 408만명으로 엇비슷하다.*. 학력에 따른 불평등 비정규직 노동자 784만명 가운데 중졸이하 225만명(28.6%), 고졸 386만명(49.2%)으로, 고졸이하 학력이 전체의 77.8%를 차지하고 있다. 학력별 비정규직 비율을 살펴보면 중졸이하 81.5%, 고졸 61.6%, 전문대졸 44.5%, 대졸이상 29.1%로, 학력이 낮을수록 비정규직 비율이 높고, 학력이 높을수록 낮다. 중졸이하는 5명 중 4명이 비정규직이다.* 노조가입 비율 2003년 8월 현재 노동조합 조합원수는 162만명으로 노조 가입률(또는 조직률)은 11.4%이다. 정규직 631만명 가운데 노동조합에 가입한 사람은 143만명으로 정규직 노조 가입률은 22.7%이다. 그러나 비정규직은 784만명 가운데 19만명만 노동조합에 가입하고 있어 비정규직 노조 가입률은 2.4%밖에 안 된다. 이에 따라 전체 조합원 162만명 가운데 88.5%가 정규직이고, 11.5%가 비정규직이다.*노동시간에 따른 차별 노동자들의 주당 노동시간은 2000년 47.3시간, 2001년 46.2시간, 2002년 44.8시간, 2003년 43.1시간으로 빠른 속도로 단축되고 있다. 그러나 정규직은 2000년 47.1시간에서 2003년 41.8시간으로 5.3시간 단축된데 비해, 비정규직은 2000년 47.5시간에서 2003년 44.1시간으로 3.4시간 단축됨에 따라, 정규직과 비정규직 사이에 노동시간 격차는 0.4시간에서 2.3시간으로 확대되었다. 주5일제 등 법정 노동시간 단축운동의 성과가 정규직과 비정규직 사이에 골고루 향유되고 있지 못 한 것이다. 특히 법정 초과근로 한도인 주 56시간을 초과하여 노동하는 노동자가 정규직과 비정규직을 포함하여 255만명(18.0%)에 이르고 있음을 주목할 필요가 있다. 정규직은 84만명(13.3%), 비정규직은 171만명(21.8%)이 주 56시간을 초과하는 장시간 노동을 하고 있다.비정규직 규모와 관련된 논란은 임시일용직 가운데 320만명이 정규직이냐, 비정규직이냐로 압축된다. 어느 주장이 타당한가는 다음 몇몇 사항만 살펴보더라도 분명해진다. 첫째, 통계청의 경제활동인구조사에서 노동자수는 1,322만명(2001년)인데, 1인 이상 모든 사업체를 대상으로 하는 사업체기초통계조사에서 노동자수는 1,085만명이다. 이것은 우리 나라 노동시장에 비공식 부문 내지 사업체 비소속 자유노동자(casual worker)들이 240만명 가량 존재함을 의미한다. 이들 240만명은 경제활동인구조사에서 임시일용직으로 응답했을 것인 바, 적어도 100만명 가량은 노동부 등이 정규직이라고 주장하는 320만명(①) 속에 포함되어 있을 것이다. 이것은 부가조사 설문 문항에 사업체 소속 여부를 추가하면 곧바로 확인 가능할 것이다. 더욱이 부가조사 설문 문항에는 계절근로, 사내하청 등이 제외되어 있어, 부가조사 7개 설문 문항으로 비정규직을 모두 포괄한다고 볼 수 없다.4. 문제점과 해결 방안둘째, 근로기준법 제23조는 “근로계약은 기간의 정함이 없는 것과 일정한 사업완료에 필요한 기간을 정한 것을 제외하고는 그 기간은 1년을 초과하지 못한다”라 하고 있다. 임시근로의 사유와 절차에 관해서는 사실상 아무런 제한을 가하고 있지 않아, 계약기간이 1년을 초과하지 않으면 얼마든지 임시직을 사용할 수 있게 되어 있는 것이다. 더욱이 대법원 판례 등으로 '1년 제한' 규정마저 사문화(死文化)되어, 사용자들은 상시적으로 필요한 일자리를 '임시직'으로 채용하곤 한다. 일단 임시직으로 채용하면 근로기준법상 해고제한 조항을 무력화시킬 수 있고, 임시직과 정규직 사이에 얼마간 직무를 달리 하면 동일노동 동일임금 원칙을 사문화시킬 수 있으며, 기업 내에 뿌리깊이 자리잡은 차별적 고용관행으로 임시직에 대한 차별대우가 가능하기 때문이다. 이에 따라 우리 사회에는 장기임시근로가 광범하게 남용되고 있다. 그동안 규모 논란 과정에서 장기임시근로자들이 320만명(①) 속에 포함되어 있다는 점에 대해서는 별다른 이견이 없었다. 문제는 이들이 정규직이냐, 비정규직이냐였다. 이 점과 관련해서는 우리 만큼 규모가 크지는 않지만 다른 나라의 문헌에서도 노동력 혼합전략의 일환으로 장기임시근로자(permanent temporary worker, long-term temps 또는 permatemps)를 사용하는 경우가 발견되고, 이들을 정규직으로 분류한 연구자는 찾아보기 어려우며(Way, 1992; Tsui et al., 1995), 1998년 1월 미국 대법원은 마이크로소프트사에게 수천명의 장기임시근로자(permatemps)들에게 상용직과 동등한 부가급부와 임금을 지급하도록 판결했다는 점만 언급하도록 한다셋째, 노동사회연구소 추정 방식에 따르면 전기가스수도사업(18.4%) 다음으로 공공행정(20.4%)의 비정규직 비율이 낮다. 그러나 노동부 추정 방식에 따르면 공공행정(19.0%)이 광업(7.7%), 전기가스수도사업(13.0%), 제조업(17.2%), 운수업(18.0%)보다 비정규직 비율이 높다는 믿기 어려운 결과가 도출된다. 참고로 전기가스수도사업과 금융보험업, 공공행정과 국제및외국기관은 두 가지 추정 방식 사이에 비정규직 규모가 그다지 차이가 나지 않는다. 이것은 이들 산업에는 업체 비소속 자유 노동자가 드물고, 장기임시근로자 비중 역시 낮기 때문인 것으로 해석된다.5. 비정규직 문제에 대한 우리의 자세1) 비정규직 문제에 대한 심각성을 인지하고, 그에 따른 개개인의 철저한 대비가 필요함. 2) 올바른 기업 윤리관을 확립하고, 더불어 사는 공동체 의식을 키워 나가야 함. 3) 국가적으로는 비정규직자에 대한 보호법을 강화하고, 취업 관련 육성정책을 적극 마련해 함. 4) 각종 차별을 배제한 실력 위주의 정당한 직업의식 구조 풍토를 조성하도록 노력해야 함. 5) 경제난과 취업난의 현실적 해결 방안을 제시하고, 해결 해 나가도록 정부의 적극적인 자세가 필요함.{nameOfApplication=Show}

사회과학| 2004.11.04| 14페이지| 1,000원| 조회(908)

사회학, 비정규직

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[세라믹] 적외선 분광법(infrared spectrometry)

적외선 분광법(infrared spectrometry)분광법이란?분광법은 물질과 전자기 복사선과의 상호작용을 측정하는 방법이다. 전자기 스펙트럼에서의 에너지 흡수는 그 화합물의 구조와 매우 밀접한 관계를 가지므로 분광법은 유기학자에게는 매우 중요하다. 분광학적인 정보는 화합물의 결합을 더 잘 이해하게 하고, 미지 화합물의 구조를 결정하며 혹은 기지 화합물을 정량적으로 측정하는 데 사용한다. 자주 사용되는 분광법으로는 적외선 분광법, 자외선-가시광선 분광법, 핵자기공명 분광법이 있다.전자기 스펙트럼전자 스펙트럼의 분류적외선 분광법이란?유기물이거나 무기물이거나 공유결합을 갖는 거의 모든 화합물은 전자파 복사선의 적외선 영역에서 다양한 진동수의 전자파를 흡수한다. 적외선은 파수가 약 10cm ~ 12800cm까지의 전자파 복사선을 말하는데 응용과 기기장치의 편의상 4000 ~ 12800cm 를 근접외선 200 ~ 4000cm 중간 적외선 10~200cm를 원적외선 영역으로 구분되고 있다. 적외선 분광법은 생물, 화학, 의학, 물리학, 화공, 지질, 재료광학, 환경공학 등의 분야에서 분자의 구조, 분자들의 반응속도 또는 반응기구를 규명하는 동역학적 연구뿐만 아니라, 물질의 확인, 정량. 정성분석 등에 널리 이용되고 있다. 적외선 분광법은 특히 X-선회절 분석기가 적용되기 어려운 유리나 비정질 재료에도 적용될 수 있는 장점을 갖고 있다.근적외선 분광기근적외선(near IR) UV-Vis 분광광도계 등의 설계와 부분장치와 비슷한 기기로 측정 응용: 산업 및 농산물의 정량 분석 및 공정조절적외선 흡수적외선의 파장 영역은 표1에서 보는 바와 같이 0.75μ～1000μ범위이나 실제 적외선 흡수분석에 이용되는 파장 범위는 2.5μ～25μ이다. 어떤 물질을 이루고 있는 분자는 원자 또는 원자단이 공과 공의 용수철로 결합하여 항상 진동하고 있는 것과 같은 형태의 화학결합을 하고 있다. 이러한 분자의 진동 중 쌍극자모멘트의 변화를 일으키는 진동에 기인하는 흡광을 측정하여 흡수 파장으로부터 정성분석을, 흡수 세기로부터 정량분석을 할 수 있는데 이와 같은 흡수 분석법을 적외선 흡수 분광법 ( infrared spectroscopy : IR법 )이라 한다.적외선 흡수이 분석법은 가스 크로마토그래피와 더불어 유기 기기분석법 중의 하나로서 중요하며 특히 유기 작용기의 정성과 정량, 고분자 물질의 분석, 반응 기구나 구조의 해석 등에 널리 쓰이고 있다.적외선 흡수의 필요조건첫째 분자를 구성하고 있는 원자나 원자단이 입사광의 에너지와 같은 진동수로 진동할 경우 분자는 이 진동수에 해당하는 광을 흡수하게 되므로 분자 본래의 진동수와 입사광의 진동수가 같아야 한다. 둘째 분자의 진동수는 E=hν를 만족시켜야 한다.적외선 흡수의 필요조건셋째 분자는 변화할 수 있는 전기 쌍극자를 가지고 있으며 분자의 미소 전하를 갖는 부분이 서로 진동을 하게 되면 쌍극자 능률은 변하게 된다. 그러므로 진동에 의한 변위의 결과는 쌍극자 능률이 변화해야 한다. 넷째 진동에 의해 쌍극자 능률이 변화하면 흡수강도가 달라지는데 이 경우 흡수강도는 쌍극자 능률의 변화속도의 제곱에 비례하여야 한다.원리한 분자를 구성하고 있는 원자들의 결합은 서로 움직일 수 없도록 고정된것이 아니라, 스프링과 같이 탄력이 있는 줄에 매달려 있다고 할 수 있다. 이와 같은 분자가 일으킬 수 있는 진동 운동의 진동 방식(vibration mode) 은 다음의 두 가지로 나눌 수 있다. 첫째는, 스프링에 매달린 두 원자가 스프링과 같은 축에서 서로 당겼다가 끌렸다가 하는, 즉 원자들 사이의 결합 길이가 길어졌다 짧아졌다 하는 신축 진동 (stretching vibration)방식이다.원리둘째는, 원래의 결합축에 대하여 원자들의 위치가 변하는, 즉 원자들 사이에 이루고 있는 결합각이 변하는 굽힘(bending) 또는 변형 진동 (deformation)방식이다. 이러한 진동 운동을 일으키기 위해서는 결합의 종류 및 세기, 그리고 결합을 하고 있는 원자의 종류에 따라 고유한 진동 주파수(vibration frequency)에 해당하는 빛 에너지를 흡수해야 한다. 따라서, 분자에 IR를 쬐어주면 이들이 진동을 일으키는 데 필요한 주파수의 빛을 흡수하여, 이 에너지에 대응하는 특성적인 적외선 스펙트럼을 나타내게 된다. 그러므로 이를 분자 구조와 관련지어 해석하면 분자 구조에 대한 정보를 얻을 수 있다. 이와 같이, 적외선 분광법의 기본 원리는 분자의 진동에 바탕을 두고 있다원리따라서, 분자에 IR를 쬐어주면 이들이 진동을 일으키는 데 필요한 주파수의 빛을 흡수하여, 이 에너지에 대응하는 특성적인 적외선 스펙트럼을 나타내게 된다. 그러므로 이를 분자 구조와 관련지어 해석하면 분자 구조에 대한 정보를 얻을 수 있다. 이와 같이, 적외선 분광법의 기본 원리는 분자의 진동에 바탕을 두고 있다진동방식앞에서는 분자의 진동 방식을 단순하게 신축 진동과 굽힘 진동의 두 가지로 나누었지만, 이들은 다시 여러가지 진동 방식으로 세분할 수 있다. 일반적으로, 한 분자가 나타내는 진동 방식은 분자를 구성하고 있는 원자의 수 및 결합 상태에 따라 결정된다. 가장 간단한 이원자 분자 (CO, HCl 등)의 진동 방식은, 먼저 두 원자의 결합 길이가 변하는 신축 진동 방식을 고려할 수 있다. 이원자 분자는 기하학적으로 원자 사이의 결합각을 가지고 있지 않기 때문에 굽힘 진동은 일어나지 않는다.진동방식따라서, 이원자 분자의 진동 방식은 신축 진동에 의한 것 1개뿐이다. 한편, 삼원자 분자 이상의 다원자 분자일 때에는 이원자 분자의 경우보다 비교적 복잡한 진동 방식을 가진다. 우선, 분자가 x,y,z의 3축으로 이루어진 공간에서 일으키는 분자 운동을 모두 고려해 보면, 진동은 물론 회전 및 병진 운동을 포함하고 있다. 분자의 운동 ＝ 진동 ＋ 회전 ＋ 병진진동방식따라서, 진동 방식의 수는 분자의 총 운동수에서 회전 및 병진 운동에 해당하는 것을 제외시키면 얻을 수 있다. 만약, n개의 원자로 구성된 분자라면 총 운동수, 즉 자유도(degree of freedom)의 총 수는 3n 개가 된다. 여기서, 비직선형 다원자 분자일 경우에는 회전 및 병진 운동에 의한 자유도가 각각 3개 이기 때문에, 기본 진동 방식은 (3n-6)개가 된다. 그러나 직선형 분자는 x,y,z 축의 어느 한 축에 모든 원자가 놓여 있기 때문에, 놓여 있는축을 중심으로 회전은 불가능하다. 그 결과, 2개의 회전 자유도를 가지므로, 이 경우의 진동방식은 (3n-5)개가 된다.진동방식그러므로 삼원자 분자에서 비직선형 분자 (H2O, SO2등)일 때의 진동방식은 (3×3-6) 에서 3개가 된다. 신축진동이 굽힘 진동보다 크며, 신축 진동에서도 비대칭이 대칭이니 경우보다 크다그림 5 분자 진동의 형태 그림 5 분자 진동의 형태 ( +는 앞쪽 , -는 뒤쪽 )적외선 분광법의 응용물질의 구조 확인 각 화합물의 작용기에 대한 특성적인 스펙트럼이 얻어지므로, 이를 확인하면 그 구조를 확인할 수 있다는 것은 이미 설명하였다. 합성에서 방응 물질을 알고 있을 때 생성물질의 확인은 여러 개의 흡수띠를 해석하지 않아도 반응 물질의 어떠한 흡수띠가 없어지고 새로운 것이 나타나느냐의 여부로 생성물을 예상할 수 있다. 전혀 미지의 단일 시료일 경우에는 IR스펙트럼만으로는 확인이 곤란하므로, 확인에 도움을 줄 수 있는 여러가지 실험적 자료를 얻는 것이 좋다. 가령, 원소분석과 분리량을 측정하여 그 결과로부터 분자식을 구하고, 끓는점, 녹는점 , 선광도 및 특수한 시약과의 반응성 등과 같은 물리 화학적 성질을 측정, 비교함과 동시에, NMR, UV-Vis 및 MS 등의 스펙트럼을 함께 이용해야 할 것이다.반응 속도 및 반응 과정의 연구반응 물질 및 그 중간체, 그리고 생성 물질에 특성적인 흡수 피크를 나타내는 작용기가 있을때, 이들에 의한 흡수 피크의 소멸 및 생성 과정을 추적함으러써 반응의 완결 및 속도, 그리고 그 메커니즘을 측정할 수 있다. 예를 들면, 2가 알코올을 산화시켜 케톤의 C＝O 피크가 중가할 것이다. 또, 1가일코올이 산화될 때 알데히드를 거쳐 산이 생성되는지, 아니면 직접 산으로 반응이 진행되는지의 여부도 확인 가능하다. 이와 같은 반응의 진행 과정에서 반응 물질과 생성 물질의 농도를 시간에 따라 측정하면 바응 속도의 측정이 가능하다. 이 때, 반응 물질과 생성 물질의 농도는 두 물질의 특성 흡수 피크의 세기로 구할 수 있다.수소 결합의 검정최근에 생체 내 단백질 및 핵산의 입체적 구조와 생체 내에서의 다른 물질로 상관 관계를 추정하는 데 많이 이용되고 있다. 분자 내에 존재한 -OH나 -NH등은 대부분이 전기 음성도가 큰 원자들과 수소결합을 하고 있으며, 이러한 경우 0-H의 신축 진동 운동에 의한 흡수 피크를 관찰함으로써 용이하게 알 수 있다. 즉, 수소 결합을 하지 않는 유리 O-H나 N-H의 경우 비교적 흡수 세기가 큰 예민한 피크로 3650 ～ 3590㎝-1 및 3500 ～ 3300㎝-1에서 각각 나타나지만, 수소 결합을 하는 경우 -OH나 -NH의 신축 진동의 흡수가 낮은 파수 쪽으로 이동하며, 흡수 피키의 강도가 감소하고 둔하게 나타나는 것이 특징이다. 또, 이들 수소 결합은 물질의 물리적 상태, 시료의 농도, 측정 용매, 측정시의 온도 등 여러가지 인자에 따라 변화하므로 필요한 조작 조건이 요구된다.정량 분석 및 순도 측정미반응의 원료나 부산물이 혼합되었을 경우, 이들의 순수한 흡수 스펙트럼과 혼합물질의 스펙트럼을 비교한다면, 각각에 의한 흡수 피크가 서고 겹치지 않은 부분에 모두 존재할 것이므로 혼합물의 단일 성분을 추정할 수가 있다.{nameOfApplication=Show}

공학/기술| 2004.11.04| 22페이지| 1,500원| 조회(1,372)

적외선분광법, 적외선, 분광법, IR, infrared spectrometr

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[신소재] New Glass(유리재료)

New GlassNew Glass란???재래의 판유리나 병유리와는 달리 특수한 성질을 발 휘하는 고성능 유리 의 총칭. 인공 합성원료를 이용하여 특수 제조공정으로 제조 되는 신소재로서, 고기능성 유리 또는 파인글라스 (fine glass)라고도 한다. 매우 투명한 광섬유용의 유리, 레이저를 발진하는 유 리, 포트 마스크나 광자기는 디스크의 기판, 결정화 유리 등을 일컫는다.New Glass의 원리유리는 비결정(아모퍼스)이라는 특징을 가지며 유리의 투광성, 용매성, 형태, 조성제어성 등의 특성이 여러 분 야에서 활용되는데 뉴글래스는 기존의 유리소재와는 달리 공업적으로 조성제어와 고순도화를 꾀하므로서 본래의 유리가 갖는 특성을 비약적으로 향상시켜 많은 기능을 얻을 수 있게 한 것이다. 종래의 유리가 산화물계 천연원료인데 대해 뉴글래스 는 사산화규소, 금속앨코레이트, 칼코겐화물, 할로겐화 물 등 고순도의 합성원료를 사용, 조성단계에서의 정제 를 필수조건으로 한다.New Glass (1)광섬유광섬유를 여러 가닥 묶어서 케이블 로 만든 것을 광케이블이라고 하며, 그 사용이 늘어나고 있다. 광섬유는 합성수지를 재료로 하는 것도 있으나, 주로 투명도가 좋은 유 리로 만들어진다. 광섬유는 외부의 전자파에 의한 간 섭이나 혼신이 없고 도청이 힘들며, 소형·경량으로서 굴곡에도 강하며, 하나의 광섬유에 많은 통신회선을 수용할 수 있고 외부환경의 변화에 도 강하다.New Glass (2)포토크로믹유리자외선을 조사하면 착색되어 어두워지고, 자외 선을 제거하면 본래의 상태로 되돌아가는 성질 이 있어 자동변색의 자외선 차광 안경의 렌즈로 서 널리 애용되고 있다. 보통의 착색유리의 착색과는 달리 착색의 메커 니즘이 전이금속이온이나 금 ·황화카드뮴의 콜 로이드 등 이른바 착색제에 의하는 것이 아니고, 격자결함에 의해서 생기는 착색 중심에 의한 점 에 특징이 있다.New Glass (3)석영유리다른 성분을 함유하지 않고 거의 규산무수물 로 이루어진 유리를 석영유리라고 하는 데, 기계적 강도, 내화 학성이 풍부하므로 화 학기구 등 특수한 방면 에 쓰인다.New Glass의 응용기능별 응용분야는 광학, 자기, 전기.전자, 열, 기계,화 학, 생체 적용분야 등 많은 분야가 있다. 광학적 응용으로는 투광성, 포토크로믹, 레이저발진, 광메모리, 광선택투과 등의 각 특성을 이용, 광에 의한 정보처리(광도파로,광IC)나 정보전달(광파이버), 정보 축적(광메모리, 광자기메모리), 정보표시(LCD, EL,CRT) 등의 다양한 응용이 가능하다. 또 정보뿐이 아니고 에너지전달 파이버에 의한 레이 저가공이나 레이저유리를 사용한 고체레이저로 핵융 합 장치구성도 가능하다.New Glass의 미래21세기에는 유리의 개념도 바뀐다. 깨지지 않는 유리, 탄성을 가진 유리도 등장할 지 모른다. 이른바 '뉴글래스'가 탄생할 것이다. 이 중에서도 비선형 광학 유리는 2010년에 실 용화될 뉴글래스 중의 선두 주자다. 이 신소재 는 빛으로 작동되는 고속의 광 스위치로 광컴퓨 터의 실현을 앞당길 핵심 부품이다.{nameOfApplication=Show}

공학/기술| 2004.04.02| 8페이지| 1,000원| 조회(1,089)

광섬유, 유리, 포토크로믹, 석영유리, New Glass

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