N/P Photoresist and Two different type of bake 2 조 박청웅 , 백진아 , 변원철 , 이영석 , 이승현Content What ’s Photolithography? What ’s Photoresist And N/P Photoresist ? What is Positive Photoresist different from Negative Photoresist ? What ’s Baking? Why does we work Soft-Baking ? Why does we work Hard-Baking?PhotolithographyWhat ’s Photoresist ? Photoresist ? 사진식각 ( Photoetching ) 에 사용되는 감광성 고분자 빛에너지에 의해 분해 또는 가교 등이 일어나 그 용해 특성이 변화하는 물질N/P PhotoresistNegative Photoresist 노광 , 현상 후 열 변형이 일어나지 않음 electro-forming 후 제거가 쉽지 않음 다양한 PR 코팅 높이 노광 에너지 다량 필요 . 노광시간 길어져 작업효율 저하Positive Photoresist electro-forming 후 removing 이 잘됨 유리전이온도 이상의 온도를 가하게 되면 reflow 가 가능 높이가 높은 구조물을 만들기 힘듦 노광시간이 짧아 시간당 많은 수의 웨이퍼 노광처리 가능Photolithography Baking? 감광제를 웨이퍼에 도포하는 공정중에는 도포하기 전ㆍ후에 가열하는 과정이 있는데 , 이를 굽기 (bake ) 라고 한다Soft-BakingSoft-Baking avoid mask contamination and/or sticking to the mask prevent popping or foaming of the resist by N2 created during exposure improve resist adhesion to the substrate minimize dark erosion during development prevent dissolving one resist layer by a following multiple coating prevent bubbling during subsequent thermal processes (coating, dry etching)Hard-BakingHard-Baking Embrittlement of the resist film with crack formation Reflow of the photoresist The need for an improved resist adhesion The need for an improved chemical stability of the resist mask A decreased removability of the stabilized resist after processingThank you{nameOfApplication=Show}
활성탄에 의한 유기물 흡착실험 2-1 조 박청웅 , 백진아 , 변원철Contents 실 험 목 적 이 론 기구 및 시약 실험방법 데이터 분석 참고문헌실험목적 Freundlich 의 흡착 등온선을 이용하여 활성탄의 질량에 따른 흡착 효과의 정도를 알아본다 .이 론 (1/3) 2 개의 상 ( 相 ) 이 접할 때 , 그 상을 구성하고 있는 성분물질이 경계면에 농축되는 현상 흡 착 ? 물리흡착 화학흡착 흡착력 van der waals 힘 화학결합 온도 저온 고온 속도 고속 고속 / 저속 탈착 쉽다 어렵다 흡착한도 다분자층 단분자층이 론 (2/3 ) 무정형 탄소의 집합체 큰 내부표면적 피흡착질의 분자를 흡착 환경 , 수처리 등의 제반 산업분야에서 활용 활성탄 ?이 론 (3/3 ) Freundlich 등온식기구 및 시약 (1/3) 기 구 UV-VIS Spectrophotometer, 시험관 , 교반기 , 마그네틱바 시 약 Phenol 수용액기구 및 시약 (2/3 ) 빛의 세기를 파장별로 재는 장치 . 단색광으로 분해하는 장치와 그 단색광의 세기를 정량적으로 재는 장치로 구성된다 . 주로 반사율과 투과율을 재는 데 쓴다 . UV-VIS Spectrophotometer기구 및 시약 (3/3 ) Phenol 페닐기에 하이드록시기가 결합한 방향족 화합물 페놀은 소화기 , 호흡 , 피부 접촉등을 통해 인체에 흡수될 경우 심각한 장애나 사망에 이를 수 있는 맹독 물질 이다 . 경구를 통해 소화기에서 흡수되는 경우 치사량은 1 ~ 15 g 이다 . 화학식 : C 6 H 5 OH 분자량 : 94.11 g/ mol m p : 313.65K b p : 454.85K 형태 : 무색 결정 ( 노랑 , 분홍 )실험방법 (1/2) 활성탄에 대한 페놀의 흡착 시 , 흡착온도는 25 도로 유지한다 . 200ppm 페놀 수용액을 500ml 플라스크에 250ml 씩 취한다 . 각 조마다 활성탄을 (0.1g, 0.2g, 0.3g, 04g, 0.5g) 을 정확히 측정 후 페놀 용액이 담겨져 있는 플라스크에 첨가하고 2 시간 동안 교반시킨다 . 20 분마다 4ml 의 페놀 용액을 추출하여 시험관에 담아준다 .실험방법 (1/2) 시험관에 담아둔 용액은 UV-VIS SPECTROPHOTOMETER 를 사용하여 흡수파장 270nm 에서 분석하여 abs 를 구한다 . 구해진 abs 로부터 대 농도 그래프로부터 농도를 구한 후 얻어진 데이터로부터 18p (2) 식에 대입하여 n 값과 K 값을 구하여 본다 .데이터 분석 (1/3) UV-VIS SPECTROPHOTOMETER데이터 분석 (2/3 ) UV-VIS SPECTROPHOTOMETER데이터 분석 (3/3 ) Freundlich 흡착등온식참고문헌 naver 백과사전 화학실험노트 http://blog.naver.com/akajay?Redirect=Log logNo=60088055760 www.hwashin.net/up_img/mimg/127_96-1.jpgThank you{nameOfApplication=Show}
photoresist, bake
