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  • 판매자 표지 폴리올공법을 이용하여 은 나노 와이어 합성하기
    폴리올공법을 이용하여 은 나노 와이어 합성하기
    1. 실험목적1차원 금속 나노 물질에 대해 이해하고 폴리올 공법을 이용하여 은 나노 와이어를 합성한 뒤 광학현미경과 자외선 가시광선 분광기로 확인해본다.2. 이론ㆍ1차원 전도체-전자 디바이스 분야에 활용-반도체, 디스플레이 등 투명 전도체로 사용-전기 전도도가 한 방향으로 높은 재료-Rod, wire, fuve, cable, belt-전도성 고분자, CNT, 금속 와이어ㆍ은 나노 와이어 합성 실험-1차원 금속 와이어의 합성-모든 금속 중에서 가장 높은 전기 및 열전도율-폴리올 공정을 이용한 은 나노 와이어 합성ㆍ은 나노 와이어-직경이 수십 나노미터인 가늘고 긴 금속 와이어로 굽힘성이 좋음-은 나노 와이어 간의 junction으로 높은 전기 전도도를 가지고 우수한 전기적, 기계적, 광학적, 열적 특성을 가짐-빈 공간을 통해 대부분의 빛 통과: 높은 광투과율(Ag는 전이금속 중 하나로 높은 전기전도율과 열전도율을 가진다. 여러 개의 결정 면을 가지고 있어, 반응성 차이를 이용하여 이방성 성장을 유도한다.)ㆍ은 나노 와이어 합성법-Hard template method:단단한 공유결합을 가진 template를 이용하여 Ag NW의 형태 및 길이 조절:Ag NW의 크기를 균일하게 조절하여 와이어 간의 응집을 방지:Hard template제거로 인해 추가적인 정제 필요-> Ag NW 손상 발생-Soft template method:분자간 약한 결합을 가진 template를 이용하여 합성:다양한 형태로 합성, 간단한 장비, 쉬운 합성법, 구조적 안정성이 낮음-UV lrradiation method:UV를 이용하여 질산은을 분해 시킨 후 합성하는 방법:UV에 불활성인 모든 금속에 사용가능:UV와 접촉되는 반응물만 합성-Hydrothermal method:고온, 고압 조건에서 Ag 염을 분해시켜서 성장시키는 방법, 대량 합성이 가능하고 비용이 비쌈ㆍ은 나노 와이어 합성법- 폴리올 공정-금속 나노 입자 및 와이어 합성에 사용되는 대표적 방법-말단기가 알코올기(-OH)인 물질이 금속 염을 환원시켜 나노 크기를 가진 금속 입자를 형성하는 과정-Ethylene glycol(EG)이 고온에서 탈수소화 반응으로 Acetaldehyde로 분해-Acetaldehyde의 산화반응으로 Ag+을 Ag입자로 환원1) AgNO3에서 Ag+이온들이 EG의 산화환원 과정을 통해 Ag0의 핵 형성2)Ag0핵들이 Ostwald Ripening에 의해 cluster 형성3)Cluster들이 모여 multiple twinned particles구조를 가진 Ag seed 형성(Ag끼리 (1,1,1)면으로 뭉침)4)Ag seed가 와이어로 성장ㆍ폴리올 공정에 영향을 주는 요소Solvent: EG, Capping agent: PVP Mw 1,300,000, temperature: 160℃, reaction method: one-pot reaction, halogen ion salts: Bmin FeCl4, Bmin Br, lonic liquidㆍ자외선가시광선 분광기-합성된 은의 형상 예측-은 나노 와이어의 두께 예측Second peak400nm 대: 은 나노 입자360, 370nm 대: 은 나노 와이어First peak 355nm : 은 금속의 고유 피크ㆍ광학현미경: 샘플에 빛을 조사하여 반사/난반사된 상을 확대하여 관찰,대물렌즈 배율*접안렌즈 배율= 샘플의 확대된 배율3. 실험방법ㆍ시약A Solution: 0.35M PVP (solvent: EG)(PVP는 은이온과 (1,0,0)면에서 결합하여 은끼리 (1,1,1)면으로 뭉칠 수 있도록 도움)B Solution: 0.0007M lonic liquid=>이온의 크기 조절에 도움을 주고 Ag seed 합성에 도움을 준다C Solution: 0.35M AgNO3ㆍ합성기구Magnetic stirrer/bar, Heating medium(mantle), 2-Neck round bottom flask, thermometerMantle: flask 안의 용액을 승온, 교반시키는 기구로 보는 법은 첫 번째가 현재 온도, 두 번째가 설정 온도, 세 번째가 교반 속도다.ㆍ합성순서①Reaction vessel에 EG 200ml, Solution A (PVP) 77ml, Solution B(Bmin FeCl4) 15ml, Solution C (AgNO3) 22ml를 혼합한 후 stirring을 180rpm, 25℃로 15분간 교반한다.②180rpm으로 온도를 100℃로 설정하고 15분간 승온시킨다.③100℃가 되면 10분간 180rpm으로 stirring한다.④180rpm, 온도를 160℃로 설정하여 15분간 승온시킨다.⑤교반속도를 100rpm으로 설정하고, 160℃로 유지하여 20분간 둔다.⑥반응 종료 후 실온으로 Cooling⑦아세톤으로 정제한다. (Ag NW 5ml+정제수 5ml+아세톤 40ml->상층액 제거->정제수 5ml 분산)4. 실험결과-합성 과정에서 색상 변화 관찰1)은 나노 입자 형성사진①-④까지 보면 색이 노란색에서 빨간색으로 변한 것을 볼 수 있다. 이러한 이유는 온도가 100℃가 되면 EG의 탈 수소화 반응으로 인해 Acetaldehyde로 분해된다. Acetaldehyde는 Ag+을 환원시키고 Ag+는 전자를 얻어 은 나노 입자가 형성된다.2)Seed 결정 생성온도가 100℃에서 160℃로 올라가면 시멘트와 비슷한 색깔로 변한다. Acetaldehyde의 산화반응으로 인해 은 이온이 은 입자로 환원되면서 cluster들이 형성되고 cluster들이 모여 Ag seed가 형성된다. (이때 Ag끼리는 (1,1,1)면으로 뭉친다.)3)은 나노 와이어 성장사진⑥-⑦에서 펄감을 보이는데 이를 통해 은 나노 와이어가 성장하는 것을 확인할 수 있다.그 뒤로 쿨링을 진행하는 이유는 상온에서 냉각을 시키게 되면 온도가 천천히 떨어지게 되고 그 동안 와이어가 계속 성장하거나 핵, cluster와 같은 다른 불순물이 생길 수 있기 때문이다.ㆍ합성된 은 나노 와이어 현미경 관찰:ㆍUV spectrophotometer: SPR 스펙트럼 확인:흡수 피크의 위치를 확인하여 합성된 은 나노 와이어의 직경을 예측Second peakAgNW diameter355-360nm15-18nm360-365nm18-25nm365-370nm25-30nm370-375nm30-35nm375-380nm35nm 이상5. 고찰-정제를 해야하는 이유아세톤을 넣어주면 은 나노 와이어끼리 뭉치는데 이를 제외한 불순물을 아세톤으로 정제한다. 이렇게 하는 이유는 은 와이어 표면을 PVP가 감싸주고 PVP와 아세톤이 친하지 않아서 PVP끼리 섞이려는 성질이 있기 때문이다. PVP는 은 나노입자의 (1,0,0)면에 흡착하여 (1,1,1)면으로만 은 입자가 흡착하도록 도와줘 은 나노 와이어 성장을 유도해주기 때문에 정제함으로써 은 나노 와이어를 더 잘 관찰할 수 있다. 정제하지 않는다면 와이어로 성장하지 못한 파티클이 더 많이 생겨 은 나노 와이어의 수율이 좋지 않을 것이다.-은 나노 와이어의 활용도를 제안은 나노 와이어는 굽힘성이 좋아 잘 끊어지지 않고 와이어 간의 junction으로 전기 전도성이 있고,광투과율이 좋아 투명전기소자 및 투명디스플레이 분야에 활용하기 좋을 것이다. 와이어의 길이가 길면 junction이 많아져서 전기전도도가 좋아지고 두께가 얇아질수록 광투과율이 좋아지는 특징을 잘 살려 유용하게 사용할 수 있을 것이다.-새로운 분석 장비를 이용한 분석결과예측X-ray diffraction을 이용하여 은 나노와이어의 결정을 분석할 수 있다. 분석 결과 fcc구조를 가진다는 것을 알 수 있었다. 또한 은 나노구조물은 (1,1,1)/(2,0,0)의 비율이 높을수록 나노와이어 형태의 성장이 잘 이루어졌다고 분석할 수 있어 비율을 통해 얼마나 은 나노 와이어 합성이 잘됐는지를 알 수 있다.-실험을 통해 배운 것 및 실습으로 생긴 의문점실험을 통해 마이크로피펫의 사용법을 배울 수 있었다. 용액을 취할 때 1st stop까지 누른 후 채취할 용액에 피펫팁을 담그고 천천히 올리고 용액을 옮길 때 2nd stop까지 버튼을 눌러 용액을 끝까지 빼낸다. 이때 피펫을 기울이지 않고 팁은 끝부분만 만져야한다. 실험하면서 피펫팁에 용액이 남아있었다. 이러한 실수가 없었다면 은 나노 와이어의 길이 합성이 더 잘되었을 것이라 생각한다.실험 때 메탄올 30ml와 은 나노 와이어 15마이크로리터를 희석한 뒤 슬라이드 글라스에 은 나노 와이어를 건조시켰다. 건조시킨 은 나노 와이어를 광학현미경을 이용해 분석하고 메탄올을 추가로 넣어 희석한 뒤 자외선 가시광선 분광기로 투과된 파장의 강도를 분석한다. 이때 왜 메탄올을 베이스라인으로 해야하는지 궁금했다. 알아보니 파장 분석할 때 메탄올의 피크까지 나와 은 나노 와이어의 파장을 보기 힘들기 때문에 베이스라인을 메탄올로 맞춰 메탄올의 피크를 없애주는 것이다.6. 참고문헌-조현아. “자성이온액체를 이용한 은 나노와이어 합성 및 특성에 대한 연구.” 국내석사학위 논문 국민대학교. 2016. 서울-김용희. “폴리올 법에 의한 은 나노와이어의 합성 및 성장 메커니즘에 관한 연구.” 국내석사학위논문 국민대학교. 2016. 서울
    공학/기술| 2023.08.03| 7페이지| 1,500원| 조회(143)
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  • 판매자 표지 염기 촉매의 양에 따른 MSN의 크기 차이 실험
    염기 촉매의 양에 따른 MSN의 크기 차이 실험
    1. 실험 목적염기 촉매의 양에 따른 MSN의 크기 차이를 확인할 수 있다.2. 실험 방법①50ml vial에 weighing ( DI water: 30ml, CTAC: 3g, TEOA: 300,/600/1200ul)②Hot plate에서 95-97도까지 가열③TEOS 2.25ml 넣고 2hr stirring (stirring RPM: 800)▷염기촉매에 의한 말단기 변화로 응축하고 나노입자가 형성되면서 뿌옇게 변함④Flacon tube에 옮겨 담고 centrifuge 11000rpm, 15min run▷계면활성제가 아직 제거되지 않은 나노입자 침전⑤상층부 버리고 DI water, EtOH 20ml에 분산 후 centrifuge 11000rpm, 15min run▷계면활성제가 제거된 나노입자 침전 또한 아직 미쳐 제거하지 못한 불순물을 제거하기 위해⑥상층부 버리고 EtOH 20ml 분산 후 보관전구체는 어떤 화학반응을 통해 특정 물질을 만들 때, 최종 물질이 되기 직전의 단계의 물질을 말한다. 이 실험에서 수화된 실리카를 이용해 MSN을 합성하는데 수화되기 직전의 물질이 TEOS다. TEOS는 물을 추가하면 이산화규소로 쉽게 전환되며 생성된 실리카는 수화된다.염기 촉매(TEOA)에 의해 전구체의 말단기가 -CH2-CH3(alkyl group)에서 si-OH(silanol group)으로 바뀌는 가수분해가 일어나면서 음전하를 띠게 된다. 또한 si-OH(silanol group)끼리 공유결합하면서 응축된다. 마이셀 구조를 하고 있는 계면활성제와 중합반응이 일어나면서 실리카 나노입자를 형성한다. (계면활성제는 마이셀을 형성하여 MSN을 합성하기 위한 template의 역할을 한다.)①②③은 나노입자 형성과정④⑤⑥은 순수한 나노입자를 얻기위한 washing 과정3. 실험 결과:4. 고찰:1) MSN합성 과정을 Sol-gel 반응을 중심으로 설명염기 촉매(TEOA)에 의해 전구체의 말단기가 -CH2-CH3(alkyl group)에서 si-OH(silanol group)으로 바뀌는 가수분해가 일어나면서 음전하를 띠게 된다(물에 들어가면 si-OH는 음전하를 띤다.) 또한 si-OH끼리 공유결합하고 Si-O-Si가 연결되면서 gel 상태가 된다. 음전하를 띄는 silicate들은 양전하를 띠는 마이셀 구조를 하고 있는 계면활성제에 달라붙으면서 MSN이 합성된다.2) TEOA의 양이 증가하면 MSN의 크기가 작아지는 이유를 설명염기 촉매 양이 많아지면 PH가 높아지고 가수분해 반응이 더 활성화된다. 따라서 si-OH 그룹의 활성도가 높아지면서 Si-O-Si 연결을 이루려는 경향이 강해지고 음전하를 더 많이 띠게 된다. 그렇게 되면 양전하를 띠는 계면활성제에 더 빠르게 달라붙게 되어 MSN이 더 크게 성장할 시간을 주지 않게 된다. 성장할 시간이 부족하기 때문에 MSN의 크기가 작아진다.3) 같은 입자를 측정하더라도 DLS 결과값과 TEM 결과값이 다른 이유를 설명DLS는 Brown motion을 하고 있는 입자에 광원을 조사하여 크기 분포를 분석한다. 현탁액 속에서 입자의 Brown motion은 레이저 광이 여러 강도로 산란되도록 한다. 이때 주변의 현탁액 입자와 기능기도 같이 brown motion하기 때문에 실제 크기보다 더 크게 측정될 수 있다. 또한 입자들이 상호작용하면서 응집된 상태가 있을 수 있기 때문에 더 크게 측정된 값을 얻을 수 있다.4) 나노 입자 합성 방법을 조사하고 설명MSN은 나노-생의학 분야 특히 약물전달시스템에서 많이 다루고 있다. 균일한 크기의 MSN입자와 기공 크기는 특히 세포와의 상호작용을 균일하게 제어하는데 매우 중요하다. 기공 크기가 균일해야 약 전달체로서 약을 정확하게 싣고 전달할 수 있기 때문이다. 기공의 크기가 균일한 MSN을 합성할 수 있는 방법에는 고분자 Bead-Templating이 있다. 유기 합성 기술의 발달로 인해 다양한 크기의 고분자 Bead를 수십 nm부터 수마이크로미터에까지 균일하게 합성할 수 있게 되었다. 또한 이런 합성 기술은 유기물을 주성분으로 하고 있기 때문에 고분자 Bead를 template로 사용해 MSN을 합성하고 300-500도의 고온에서 고분자만을 깨끗하게 골라 태워서 제거할 수도 있다. 이러한 장점 때문에 고분자 Bead를 활용한 MSN의 합성에 관한 많은 연구가 수행되었다. 그러나 일반적인 고분자 Bead의 표면은 실리카 원료와 상호작용할 수 있는 매개체가 없기 때문에 미리 고분자 Bead의 표면을 실리카와 상호작용이 잘 이루어지는 기능기를 첨가해줘야만 한다. 이 방법은 다소 처리 과정이 불편하다. 하지만 고분자 Bead를 매우 균일한 크기로 합성할 수 있기 때문에 이를 활용하여 만들어진 MSN의 경우에도 기공의 크기가 매우 균일하다는 장점이 있다.또한 실리카의 중합 촉매로서 염기촉매인 암모니아 대신 다른 유기 아민을 활용하는 방법도 있다. TEA(Triethanolamine)와 같은 유기아민을 사용하거나 실리카의 원료를 다양화시키면서 실리카의 가수분해 및 중합 반응 속도를 제어해 MSN의 크기와 동시에 균일성까지 제어할 수 있을 것이다.5. 참고문헌-https://kosen.kr/info/kosen/760764(코센리포트-MSN의 합성 동향)-https://patents.google.com/patent/KR20200118642A/ko(대한민국특허청-다공성 실리카 나노 입자 및 이의 제조 방법)
    공학/기술| 2023.08.03| 5페이지| 1,500원| 조회(297)
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  • 판매자 표지 PDMS를 이용한 Micro pyramid 제작
    PDMS를 이용한 Micro pyramid 제작
    1.실험 제목-PDMS를 이용한 Micro pyramid 제작실험 목적-Si(100) wafer의 anisotropic한 성질을 이용하여 마스터를 제작한다.-마스터로 PDMS Micro pyramid를 제작하고 빛의 변화를 관찰한다.2. 이론적 배경1)마스크로 포토 공정포토 공정은 PR이 도포된 웨이퍼 위에 포토마스크를 통과한 광원을 쬐어줌으로써 원하는 패턴을 만들어 내는 작업이다.-Exposure 과정은 빛을 이용해 웨이퍼에 회로를 그려넣는 노광을 말한다.-Develop 과정에서 빛을 쬐어 변성된 PR을 제거해줌으로써 원하는 패턴을 가진 과자틀이 만들어지게 된다. 웨이퍼 위에 균일하게 입혀진 PR은 빛에 어떻게 반응하는가에 따라 positive 또는 negative로 분류된다. posivie 타입은 노광되지 않은 영역을 남기고 negative 타입은 노광된 영역만 남겨 사용한다.①Positive PR (빛을 받아 분자결합이 약해진 부분의 PR을 Developer를 이용해서 제거한다. 또한 현상액에 대한 용해도가 변화하는데, 빛을 받았을 때 용해도가 올라가는 물질을 말하기도 한다.)②Negative PR (빛을 받아 분자결합이 강해진 PR을 제외한 다른 부분을 제거한다. 또한 빛을 받았을 때 용해도가 내려가고 경화된다.)2) #4 식각 공정에 대한 설명•Wet etching: etchant를 이용해 식각하며 화학적 반응을 이용한다.-등방성 식각: PR의 열린 부분을 기준으로 모든 방향으로 식각이 발생-비등방성 식각: 특정 방향으로만 반응이 잘 일어남웨이퍼를 액체에 담갔다 건지는 방식으로 비용이 적게 들고 간단하다. 이러한 방식은 식각 속도가 매우 빠르고 담그는 방식의 특성상 화학적 식각밖에 쓸 수 없으므로 선택비가 높다는 장점이 있다. 하지만 방식의 특성상 식각이 등방성이 강할 수밖에 없다. 웨이퍼를 액체에 담그면, 액체는 자유롭게 움직이며 물질들과 반응한다. 이로 인해 PR 뒷면의 원치 않는 부분까지 빠른 속도로 깎아버리기 때문에 정밀도가 떨어진다는 단점이 있다. 또한 틈이 너무 작으면 표면 장력으로 인해 식각액 자체가 PR 틈으로 침투하지 못하게 된다.•Dry etching: 플라즈마를 이용해 식각하며 물리.화학적 반응을 이용한다.기체를 이용하는 식각 전체를 포괄하며 포토마스크가 도포된 웨이퍼를 기체에 노출시키는 식각 방식이다. 플라즈마 식각, 스퍼터링, 반응성 이온 식각(RIE, Reactive Ion Etching) 등을 포괄하는 명칭에 가깝다.3. 실험 방법1) si wafer patterning & develop①oxide가 증착된 wafer에 positive PR을 Spin coating한다.②Hot plate를 120℃로 맞추고, 1분간 soft bake를 진행한다.③원하는 패턴이 있는 마스크 아래에 wafer가 위치하도록 조정하고, UV로 노광한다.④Developer 용액에 1분 20초간 담가 develop한다.⑤Hot plate를 125℃로 맞추고, 1분 30초간 hard bake를 진행한다.2)oxide etching①패터닝이 된 wafer를 BOE(buffered oxide etchant)에 11분간 담가 oxide를 etching한다.②Acetone->IPA->DI 순으로 남은 PR을 제거한다.3) si etching①TMAH(Tertramethylammonium hydroxide) 25wt%를 hot plate에서 70℃로 가열시킨 뒤, 10분간 담가 silicon을 etching한다.②HF(Hydrofluoric acid):DI=5:1에 5분간 담가 남은 oxide를 제거한다.4)PDMS Micro pyramid 제작①PDMS와 Curing agent를 10:1의 비율로 10분간 섞는다. 이때 다량의 기포가 발생한다.②기포 제거를 위해 데시케이터에 넣고 30분간 진공을 뽑는다.③기포가 제거된 PDMS를 마스터에 붓는다.④오븐을 90℃로 맞추고 10분간 굳힌다.⑤굳은 PDMS와 마스터를 분리한다.4. 실험 결과1)microscope image를 보고 각 부분이 어떤 물질에 해당하는지 유추1번 after develop 때는 네모 패턴 안이 oxide이고 겉의 노란색이 PR이다. develop 후에는 PR만 제거된 상태기 때문이다.2번 after PR strip 때는 노란색 네모 안에는 silicon이고 겉에는 oxide이다. oxide etching 후 PR strip까지하면 아래 그림 같은 모습이 나오기 때문이다.3번 after oxide strip 때는 노란색 네모 패턴과 겉에 둘 다 silicon이다. si etching 후 oxide strip까지 하면 아래 그림과 같이 나오기 때문이다.2)SEM image를 보고 해당 이미지의 etching에 대해 설명Wet etching으로 (100) si wafer을 사용해서 실험했는데 (100)은 anisotropic하게 55.7도를 이루며 etching 되었기 때문에 단차가 생기고 길이의 차이가 생겼다.3)샘플에 빛을 조사했을 때 어떤 현상이 발생했는가피라미드 패턴 안에서 빛이 충돌하고 패턴이 빛이 공기 중으로 바로 방사되는 걸 방지한다. 따라 벽에 샘플을 대고 빛을 조사하면 샘플에 있는 네모 패턴 모양을 그대로 볼 수 있다.5.고찰1) oxide를 etching할 때 BOE, strip 할 때는 HF를 사용했다. 두 물질의 용도를 나누어 사용한 이유는?HF는 독성이 강하고 SiO2를 녹일 수 있기에 습식 세정에 사용되어 웨이퍼 표면의 산화물을 제거하는데 사용된다. 또한 웨이퍼를 수령하고 공정에 들어가기 직전에도 습식 세정을 하여 산화막을 strip할 때 자주 사용된다. BOE는 NH4F: HF=6:1로 희석한 etchant다. NH4F는 etch rate를 HF에 비해 etch rate를 1/20 정도 늦춰주는 완충제 역할을 하면서 etching의 균일성을 높인다. 따라서 정밀하고 일정하게 oxide를 etching할 수 있기 때문이다.2) micro pyramid가 응용되고 있는 사례 또는 어떻게 응용할 수 있는가?마이크로피라미드 니들을 이용한 여드름 패치가 사용되고 있다. 끝이 뾰족한 피라미드 구조로 니들이 경화된 각질을 통과해 수분과 만나 녹아 흡수되어 피부 고민부위를 진정시켜주는 것이다. 마이크로피라미드 니들은 길이가 짧아 주사 시 고통이 없고 조직을 최소한으로 침투하기 때문에 외부의 감염에 대한 위험을 최소화할 수 있다. 이런 장점을 생각해보면 마이크로피라미드 니들이 피부에 가장 큰 약물전달의 장벽인 각질층을 효과적으로 투과하여 약물전달효과를 높일 수 있을 것이다. 또한 전피층 상부에 풍부하게 존재하는 모세혈관과 림프관으로 인해 약물의 빠른 흡수 및 효과를 기대할 수 있으며, 약물이 피부로 직접 투여되므로 간초회통과효과를 피하여 생체이용률을 높일 수 있을 것이다. 또한 니들의 크기와 디자인에 조금씩 변화를 준다면 환자마다 다른 피부 투과도와 순응도에 적응할 수 있을 것이다.또한 마이크로 피라미드 구조로 고체산화물 연료전지의 효율을 높이는데 사용하고 있다. 일반적으로 고체 산화물 연료전지는 750℃ 이상의 높은 온도에서 작동된다. 그렇기 때문에 기계적 성능 저하, 값비싼 내열재료 사용의 문제로 작동온도를 600℃이하로 낮춰야한다.온도를 낮추기 위해 고분자-세라믹 복합체로 구성된 기판에 마이크로미터 크기의 피라미드 모양을 새겨 넣어 3차원 음극 기판을 제작하는 세라믹 마이크로패터닝 공정을 이용한다. 박막 공정을 통해 3차원 입체 구조를 갖는 멀티스케일 고체산화물 연료전지를 구현한다. 구현한 고체산화물 연료전지는 3차원 입체 구조를 통해 경계면의 면적을 넓혀 이온 전달 성능은 높이고 전극 반응 저항은 줄여 평면 구조의 고체산화물 연료전지보다 50% 이상의 높은 성능을 얻어낸다. 이렇게 얻어낸 작동 온도 500℃ 기준 13W 이상의 출력과 500시간 이상의 장기구동에도 성능 저하가 거의 없는 연료전지를 사용할 수 있다.6. 출처-정인성, “[반도체 전공정 3편] 반도체 패턴을 만드는 포토 공정”, sk hynix newsroom, 2022.10.17,https://news.skhynix.co.kr/post/jeonginseong-column-photo-정인성, “[반도체 전공정 4편] 그려진 패턴을 파내는 식각 공정”, sk hynix newsroom, 2022.11.25,https://news.skhynix.co.kr/post/jeonginseong-column-etching-정재환, “3D 프린팅을 이용한 마이크로니들 제작의 최신 연구 동향”, (학부, 단국대학교, 2021), 379-380p.-김승준, “500시간 구동해도 멀쩡 ‘고체산화물 연료전지’ 제작”, 국가과학기술연구회, 2020.07.15, https://blog.naver.com/nststory2014/222031354029
    공학/기술| 2023.08.03| 6페이지| 1,500원| 조회(167)
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