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"subthreshold current" 검색결과 1-20 / 23건

  • SK하이닉스, SK하이닉스합격자소서, SK하이닉스최종합격자소서, 대기업직무자소서
    Deposition) 반응물 조정을 통한 소자의 소비 전력 개선" 연구 성과를 소개하고자 합니다. 트랜지스터 소형화가 가속화됨에 따라 off current에 의한 전력 손실 문제가 점점 더 중요 ... 해지고 있습니다. 이에 따라, 연구 목표는 subthreshold swing(SS)을 감소시켜 소자의 전력 효율을 개선하는 것이었습니다. 먼저, 관련 논문을 폭넓게 분석하며 이론 ... 하는 방법을 제안하였습니다. Li 이온이 OH기와의 반응성을 높여 Schottky barrier 형성과 subthreshold 영역을 stiff하게 만들어 SS를 줄이는 데 성공
    자기소개서 | 3페이지 | 8,000원 | 등록일 2025.01.13 | 수정일 2025.03.05
  • [서울시립대 반도체소자] 7단원 노트정리 - MOSFETs in ICs
    tructure7-1. (2) subthreshold currentpurp.) lowering increases speed but also I leakage, which means ... TCADmanufacture simulationcircuit simulation ← BSIM model8. Bipolar Junction Transistorpurp.) before MOSFET, currently high frequency & analog applications ... 7. MOSFETs in ICs7-1. (1) scalingpurp.) cost, speed, power consumptiontechnologiesstrained silicon
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.12.31 | 수정일 2022.03.29
  • 반도체공정 Report-1
    32nm technology generationScaling planar bulk CMOS는 고 도핑 채널을 사용하는데 scale이 작아지게 되면서 drain영역 ... ,밑그림 참조) 이는 body, gate 전압과의 차이가 심할수록 발생하게 됩니다.또 channel이 짧아지면서 short channel effect에 의해 saturation상태 ... 에서 pinch off에 의해 channel이 사라져 source에서 나온 전자가 바로 depletion region의 전기장에 의해 전류가 흐르게 되는데 이러한 현상들에 의해
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2021.04.11
  • SK하이닉스 주니어탤런트(주탤) 자기소개서
    하는 leakage current, short-channel effect 등의 문제를 해결하기 위한 새로운 소자 구조의 개발과 이를 실제 양산과 연계시키는 기술 흐름에 큰 흥미를 가지고 있 ... 하며 시나리오별로 전압 조건을 달리 설정하고, 소자의 문턱전압 변화에 따른 subthreshold leakage의 변화를 정리하는 작업을 맡았습니다. 그 과정에서 논문에 나온 수식대로 결과 ... 시뮬레이션 프로젝트에서 확실하게 자리잡았습니다.그 프로젝트는 FinFET 구조의 threshold voltage(Vth) 변화에 따른 leakage current의 민감도를 분석하는 내용
    Non-Ai HUMAN
    | 자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2026.01.12
  • 이중게이트 MOSFET의 문턱전압이하 전류에 대한 게이트 산화막 의존성 (Gate Oxide Dependent Subthreshold Current of Double Gate MOSFET)
    한국정보통신학회 정학기
    논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.27 | 수정일 2025.05.14
  • nonideal transistor theory 요약
    modulation 처럼 높은 드레인 전압은 포화 전류를 증가시킨다. 즉 DIBL은 높은 드레인 전압을 가질 때 subthreshold leakage current 를 증가 ... VLSI 이론 과제전자공학과 12131282 김영호나오게 된 배경우리가 일반적으로 알고 있는 drain current 식 (cutoff, linear, saturation ... 가 일어날 때는 전압에 선형적으로 비례한다.Channel Length Modulation이상적으로 드레인 전류는 Vgs에만 영향을 받아 완전한 current source가 되
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.05.30
  • ITRS 2005 요약
    는 실현 가능하지 않다.6. Implementation of advanced, non-classical CMOS with enhanced drive current and ... 된다.고성능 칩의 경우 칩 정지상태의 전력 소실을 허용 가능한 한계치 이내로 유지하기 위해 높은 subthreshold (하위 임계값) 누출 전류를 처리해야 한다. 한 가지 일반적인 접근 ... 으로 예상된다. gate 길이가 20nm 아래로 훨씬 낮아져 depleted MOSFET는 quasi-ballistic mode에서 작동할 가능성이 높고, scattering 감소
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 22페이지 | 3,500원 | 등록일 2020.12.12
  • 근전도의 생리 및 기본 개념 EMG physiology
    electrode- current flow 의 spatial gradient 가 active electrode 보다 낮은 부분에 위치Recording montage Bipolar ... - detect 되는 waveform 小 = A, B 는 spatial gradient 大 , waveform 쉽게 detect = current source 근처에서는 상대적으로 작 ... Function 1) Maintain cell’s integrity 2) Produce sustain ion concentration gradients and electric charge
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 68페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.10.30
  • 전자회로실험 예비보고서 - MOSFET의 동작 대신호, 소신호 동작 ( A+ 퀄리티 보장 )
    의 지수 함수인 문턱아래 전류가 된다. 트랜지스터가 차단 스위치로 사용될때 이상적으로는 드레인과 소스사이의 전류가 없어야 하지만, 미약한 역전류(inversion current ... )가 있어서 가끔 문턱아래 누설(subthreshold leakage)이라고 부른다.선형 영역트랜지스터가 켜지고, 채널이 형성되어 드레인과 소스사이에 전류가 흐르는 것을 허용한다. 모스 ... 소자를 씨모스펫(cMOSFET, complementary MOSFET)으로 분류한다. (또한 일반적으로 nMOSFET, pMOSFET, NMOS FET, PMOS FET, nMOS
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.12.03
  • Nonohub MOSFET
    는 drain current Id를 감소시키고, 이로 인해 MOSFET의 동작 speed가 감소한다. 또한 scaling down에 따라 subthreshold current ... doping을 2e17 cm-3으로 증가하고 tox는 10nm로 감소두 경우의 특성에 대해 Vth, subthreshold current, ID 등의 관점에서 비교하시오.Vth의 경우 c ... 에 대해 Vth, subthreshold current, ID 등의 관점에서 비교하시오.Log scale로 graph를 그려서 subthreshold current를 관찰한 결과, c
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.08.18
  • 삼성전자 면접 자료 (반도체, 물성, 숏채널)
    -off(Vt 감소하는 것), Sub-threshold current 증가,- 소자가 작아진 상황 자체의 의미로 볼 때, 같은 공간에서의 소자 밀도를 높일 수 있음- S-D 간의 간격 ... 1. SCE(short channel effect)소자가 미세화 되면서 S-D간 간격이 좁아지고 이에 따라 소자특성이 변하는 현상장단점 모두 있음대표 현상 : Vt roll ... potential energy- drain induced barrier lowering and punch-through- surface scattering- velocity s
    Non-Ai HUMAN
    | 자기소개서 | 20페이지 | 5,000원 | 등록일 2018.10.26 | 수정일 2024.06.01
  • [영문 전기.전자공학 학부 졸업논문] 0.3V에서 동작하는 터널링 트랜지스터 개발
    ), but also requires a low subthreshold swing (SS) to obtain a small off-leakage current. In the c ... of carriers. One of the switching mechanisms that can achieve a subthreshold swing less than 60mV ... doping concentration was lowered (Figure 4.3). And the value of the leakage current was same as the
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.18
  • 실험14 mosfet특성
    만, 미약한 역전류(inversion current)가 있어서 가끔문턱아래 누설(subthreshold leakage)이라고 부른다.2)Triode영역(&)트랜지스터가 켜지고, 채널 ... 의 터미널로 구성된다. 이것들은 각각 bipolar 트랜지스터의base,emitter,collector와 같다. MOS 트랜지스터의 source와 drain이 실리콘 표면에 만들 ... Semiconductor Field Effect Transistor)또는 MOS 트랜지스터는금속막,산화막,반도체영역으로 구성된 트랜지스터의 일종이다.MOS 트랜지스터의 source
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.03.29
  • 판매자 표지 자료 표지
    MOSFET_최종
    가 될 것이다 (subthreshold current 무시)matlab를 사용해 ID-VG 그래프를 그려보면at saturation () Vd=-10V일 때 VG가 -0.895V~ ... accepting a personal obligation to our profession, its members and the communities we serve, do hereby c ... in making decisions consistent with the safety, health and welfare of the public, and to disclose
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 41페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.07.12
  • 플레쉬 메모리 동작 원리
    voltage에 영향을 받지 않는다.3. 채널 길이 L이 감소하면 subthreshold current Idst는 선형적으로 증가한다.4. subthreshold current ... . Vds가 증가하면 threshold voltage Vt는 감소한다.3. 채널 길이 L이 감소하면 subthreshold current Idst는 급진적으로 증가한다. ... 를 통해 BL에 연속해서 연결되어있는 string 구조를 이룬다. Small "on" cell current 에 의하여 느린 sensing 속도를 보이며, page buffer
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.22
  • [4주차] Transistor 트랜지스터 실험 예비레포트
    적으로는 드레인과 소스사이의 전류가 없어야 하지만, 미약한 역전류(inversion current)가 있어서 가끔 문턱아래 누설(subthreshold leakage)이라고 부른다 ... 트랜지스터는 gate, source, drain 3개의 터미널로 구성된다. 이것들은 각각 bipolar 트랜지스터의 base, emitter, collector와 같다.MOS ... 의 일종이다.MOS 트랜지스터의 source와 drain은 실리콘 표면에 생성되며 gate의 양쪽에 배치 되게 된다.반도체 영역은 대부분 트랜지스터 역할을 하기 위해 표면이 단결정
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.28 | 수정일 2016.04.06
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2026년 02월 26일 목요일
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