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"parasitic capacitance of source-drain" 검색결과 1-20 / 305건

  • Silicon on insulator
    시킬 수 있었다.SOI 소자의 경우 source/drain과 substrate간의 junction이 없으므로 junction capacitance가 크게 주는 것을 알 수 있고, 아울러 ... 로 인해 일이나는 short-channel effect를 제거하기 위해서는 channel length 축소 시 비례하게 source, drain의 junction depth를 줄여 ... aspect ratio가 감소하지 않도록 하는 것이 중요한데, 이를 이루는데 SOI 구조는 매우 효과적이다. SOI의 경우 source, channel, drain으로 구성
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.09.11
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    Semiconductor Device and Design - 8_
    metals for the net in which parasitic capacitance is important. 2. Increase the spacing of all the ... which lower parasitic capacitance required. This is shielding. 4. Avoid too much parallel routing of ... symbol and truth table3. Layout of the full-adder ■ full-adder schematic3. Layout of the full-adder
    리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.22 | 수정일 2023.06.25
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    Semiconductor Device and Design - 6,
    : source- drain Current flow : drain- source2. Operation Principle of Fet Vgs Vth : Channel ... . In CMOS processes, these transistors can create problems when the combination of n-well/p-well and s ... ubstrate results in the formation of parasitic n-p-n-p structures. Triggering these thyristor-like
    리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.22
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    성균관대학교 고급반도체특강 Homework 4
    as the “split C-V” technique, with the capacitance measured between the gate and source-drain and ... (1) Explain the principle of the split C-V method to extract the effective mobility by using sc ... later adapted to mobility measurements. To understand the split C-V technique, consider below figure.
    리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2025.07.31
  • 소오스-그레인 기생용량을 개선한 박막 트랜지스터 제조공정 (The Fabrication of a-Si:H TFT Improving Parasitic Capacitance of Source-Drain)
    한국정보통신학회 허창우
    논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.26 | 수정일 2025.05.27
  • Latch up in CMOS report
    되며 substrate들은 P-N-P-N, 즉, thyristor 구조를 가지게 된다. Gate, Drain Source만 동작해야 하지만 모든 반도체 소자에는 parasitic c ... 에서 나타나는 parasitic bipolar transistor에 의한 비정상적인 drain I-V characteristic이 나타난다. Figure 2에 보이듯, 정상적인 ... Cross section of CMOS invertor Fig.2 Lateral NPN Fig.3 Thyristor I-V characteristic curve- Latch up
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.02.21
  • MOSFET scaling down issue report
    throughNMOSFET의 경우 substrate와 source, drain의 junction부분에서 depletion region이 생성된다. P-N junction에 의해 생성되는데 c ... band tunneling되어 drain쪽으로 이동하면서 leakage current가 발생한다.Fig.7 GIDL mechanism and I-V curve5. Reverse s ... 한다. 이 현상은 source와 drain의 Ion implant 중 만들어진 Si의 damage points와 channel에 도핑된 Boron 사이의 상호작용 때문이
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.02.21
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    인하대학교 나노집적반도체소자 MOSCAPACITOR 설계 및 분석
    는 material간의 접합면의 roughness 때문에 발생하는 scattering mechanism으로 IL/High-k와 Metal/High-k 접합면에서 발생합니다.RSRS ... SEQ Table \* ARABIC 5 300K기준 각 TiN/HfO2/SiO2/p-Si과 TiN/SiO2/HfO2/p-Si stack별 +0.0001C/cm2와 -0.00001 ... 는 않고 여러 capacitance값들은 동일하게 나타나지만 oxide layer들의 stacking 순서에 따라 다른 효과를 나타냄을 확인할 수 있었습니다. 위 표에서 각각
    리포트 | 50페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.01.07 | 수정일 2024.06.12
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    서울대학교 전자학 및 계측론 (현 중급물리실험 2) BNC 광속 측정 보고서 (A+)
    omponents, we constructed well-known circuits. We observed the frequency dependence of RC high pass and ... dependence of carbon resistors was observed, and found parasitic inductance of and parasitic capacitance ... which is a real number.The third characteristic of a series RLC circuit is the Q-factor. As defined
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2023.11.17
  • 전자재료물성 실험 및 설계2 하()()교수님 A+ 예비 및 결과레포트
    기 위해 log scale로 변화하여 보면, 밑과 같은 그래프가 나온다.이 기울기의 역수는 drain current가 10배변할 때 필요한 값으로 개념적으로는 SS값 이라고 부른다 ... 가 너무나 큰 값이어서 mos부분에서 semiconductor부분의 substrate가 si이 아닌 경우 또는 source, drain의 도핑의 정도를 약하게 한 경우가 아닐까 예상해볼 ... 한다osfet의 구성요소)- https://news.skhynix.co.kr/post/silicide(pn접합의 정의)- https://eunkyovely.tistory.com/8
    리포트 | 55페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.12.21
  • 반도체 공정 레포트 - high-k(학점 A 레포트)
    첫번째의 경우 SiO2가 생기면서 EOT가 증가해 High-k 물질을 사용하는 이점이 사라지게 된다. 두번째의 경우 실리사이드가 만들어져 source 와 drain이 short ... 이 가해졌을 때 source와 drain 사이 실리콘의 전기적 특성을 변화시킴으로써 source와 drain 사이에 전류가 흐를 수 있도록 한다. 즉 트랜지스터 ... 에서 dielectric은 절연체의 역할과 source와 drain 사이 전류를 제어하는 역할을 한다.[사진1] Dielectric의 유전분극 모습Dielectric을 condenser의 극 판 사이
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.12.29
  • 2021 반도체공정1 중간&기말고사 보고서
    S 있는 공식이다.EOT = th*(ks/kh) = th*(3.9/kh)Punch through에 대해 서술하시오.MOSFET에서 source와 drain의 junction ... rier, Interface scattering, Punch through와 같은 SCE가 발생하게 된다.Blanket-field oxide process에 대해 서술하시오.초기 ... damascene process, copper dual damascene process 둘로 나눌 수 있으며 single damascene process인 tungsten plug
    시험자료 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2025.04.21 | 수정일 2025.10.29
  • 반도체 전공정 면접 대비 자료
    -정의: M,O,S순서로 적층한 구조. -원리: gate에 전압 인가 -> 유전체 분극 -> 캐리어 이동 -상태: acc(VLDD -punch through: Drain에서 확장 ... tunneling에 의한 누설전류 증가. 따라서 high k 물질 도입해 두꺼우면서 충분한 capacitance. 이때 Poly Si 사용하면 전자산란으로 mobility 감소 -Hfo2 ... . 배선 등에서는 KrF, Arf아직도 사용 -만드는법: Sn 방울에 co2 laser(LPP). Mo/si multi-layer를 반사식 마스크-층마다 보강간섭 유도 -G line
    자기소개서 | 16페이지 | 3,500원 | 등록일 2024.10.01 | 수정일 2024.10.15
  • 판매자 표지 자료 표지
    [전자공학응용실험]4주차_3차실험_실험12,13 소오스 팔로워, 공통 게이트 증폭기_예비레포트_A+(영어)
    principle of the source follower is examined, and the voltage gainand characteristics of the amplifier ... the source terminal. Since the drain terminals are common, they may be referred to as a common drain ... are confirmed through experiments.② Examine the operation principle of the common gate amplifier is
    리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2024.12.22
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    [A+]광운대_물리전자2_요약과제_TH06(Chapter 6)
    hanges, the relationship between the drain current () and the drain-source voltage () also changes ... ) Saturation Region (>, >-)[4]As rises above the threshold, the drain-side of the channel becomes fully ... purpose of in Fig. 6-2(a) and 6-2(b)?- 6-2(a) -is the gate voltage (with respect to the source) and serves
    리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2026.01.04 | 수정일 2026.01.06
  • [서울시립대 반도체소자] 6단원 노트정리 - MOSFET
    cattering increase → surface mobility decreaseMOSFET body effectdef.) increase of ← (@ P-substrate)s ... ol.) 새로운 capacitance가 직렬 연결되는 형태body effect coefficient얇게 → gate 가깝게 → gate 영향 증가두껍게 → source, body ... ← strong E fieldlong channel modulation: pinch-offdef.) disappearance of inversion layer채널 내 E field
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2021.12.31 | 수정일 2022.01.24
  • Drug Safety Associate 국내&외국 제약사 취업 및 이직 합격을 부르는 영문 이력서 및 자소서 핵심 문장(한국어 포함)
    product complaint각 전화 마다 가능한 의약품 부작용 및 제품 불만 사항을 평가했습니다Performed daily review of safety reports that are ... 했습니다.Verification of accuracy and consistency Identify and select routine cases for processing, determining ... Drug Safety associate영문 이력서 및 자소서 핵심 문장(한국어 포함)Analyzed cultures using molecular-based and
    Non-Ai HUMAN
    | 자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.01.23
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    [반도체실험] MOS capacitors and transistors
    가. Source와 p-substrate는 ground 되어 있고 gate와 drain에는 각각 Vg, VD를 걸어준다. Vg>VT 조건 하에서 oxide 아래 channel ... (inversion layer)이 형성된다. Metal-oxide-semiconductor를 가로지르는 점선으로 된 사각형은 MOS-cap(C-V curve의 capacitance ... 하나만큼의 두께를 가진 얇은 막을 증착시키는 공정으로, self-saturating chemisorption을 이용한다. Chemisorption은 chamber로 주입해준 gas
    리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2025.02.03
  • Two stage Op-Amp Compensation 설계 보고서
    하고 step response에서의 안정도를 확인한다.2) 설계 목적회로 소자의 값들을 변경하여 capacitance를 최대한 작게 설계하면서 feedback system이 안정 ... 와 같다. capacitance는 전류로 충bullet방전되므로 천천히 충전 되었다가 천천히 방전된다. 따라서 step response가 입력되었을 때 그림 2와 같은 파형이 출력 ... 며, 전류원과 differential Amp, Common source의 회로가 결합된 형태이다. 회로가 DC 동작을 하면 주파수가 0이기 때문에 C의 임피던스는Z _{C} ={1
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.03.03
  • 말라리아와의 전쟁과 그에 따른 치료약 개발-영문 & 한글 번역본
    is a leading cause of death in many countries.It occurs mostly in tropical and subtropical parts of ... world's malaria cases and 90% of malaria deaths occur there. Even though the causes of malaria in this ... tiny parasites. These parasites reside in the bodies of Anopheles mosquitoes. Thesedeadly parasites c
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2023.12.24
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2026년 02월 12일 목요일
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