[서울시립대 반도체소자] 6단원 노트정리 - MOSFET

소개글

ㄱㅇ교수님이 과제로 줄곧 내주곤 하시는 노트정리입니다!
손글씨로 내야 하지만 제가 악필이어서... 워드 파일로 변환했습니다.
약자를 많이 사용했습니다!
예시: definition -> def. , condition -> cond. , purpose -> purp. , proof -> pf. , confer -> cf. , electron -> e,
어떤 내용이든 정의, 조건, 목적 등의 항목들을 기준으로 정리하고자 노력했습니다

목차

1. MOSFET
1) intro
2) MOSFET basics
3) MOSFET performance factors
4) High Frequency performance
5) MOSFET noise
6) MOSFET application

본문내용

MOSFET
6-1. intro
structure
STI[Shallow Trench Isolation]: oxide dielectric separating each MOSFET

CMOS [Complementary ~ ]
purp.) alternating operation prevents short circuit during V transition & can save power
ex.) CMOS inverter

manufacturing process
사진 공정: 만들려는 패턴과 동일한 PR을 남김
photo lithography
soft bake
UV exposure to mask (quartz - chrome): photo imaging, pos PR / neg PR
develop: 현상액에 담가 PR의 약한 부분 제거
hard bake
식각, 도핑
남은 PR 제거
etching: dry (gas plasma) / wet (solution)
deposition → STI
CMP[Chemical Mechanical Planarization]
n well 형성, 도핑 (implies PR)
oxide & poly Si & PR
CVD & etching without PR → sidewall spacer oxide
금속 전극 만들기. oxide 덮고 반복.

참고 자료

없음