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"기판세정" 검색결과 1-20 / 423건

  • Si기판 세정조건에 따른 산화막의 특성연구
    한국재료학회 전형탁, 강응렬, 조윤성
    논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05
  • 반도체 공정중 연속적 산화-HF 식각-염기성 세정과정이 실리콘 기판 표면에 미치는 영향
    한국재료학회 박진구
    논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05
  • ITOscribingcleaning A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학
    공정 전과 후에 실시하여 기하 급수적으로 증가하는 오염물을 최소한의 감소시키는 것이 그 주된 목적이다. 따라서 기판(Glass) 세정 공정은 모든 공정 전후에 반드시 행해져야 한다 ... 유틸리티. 양면 세정, 한 면 세정의 대응이 가능. 간단 조작, 세이프티 기능 내장. 등이 있다.쓰이는 분야로는 웨이퍼, 포토마스크(photomask), 유리 기판, 광학 부품 ... 의 세정수지 부품의 표면 개질 접착, 도장, 인쇄, 증착, 땜납 등의 밀착성의 향상 워크 표면의 누레성 개선 등이 있다.[3]◎ITO glassITO Glass는 투명 기판
    리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.03
  • [고분자재료실험] ITO scribing & cleaning 결과레포트 (만점)
    시킨다.2. 실험배경Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 진행한다. 기판(Glass) 세정 공정은 모든 공정 전후에 반드시 행해져야 한다. 불순물 ... 처리 공정으로 세정 된다. ITO의 Coating이 표면 균일도나 유기층과의 접촉특성이 소자의 발광 특성에 커다란 영향을 미치게 된다.ITO 유리기판에 묻어있는 유분 ... 와 UVO Cleaner의 기판 세정 원리에 대해서 토의해보자.RF plasma란 교류 전압을 이용하여 기체에 전기 에너지를 넣어 가스를 이온화 시킨 플라즈마 상태의 결과물을 의미
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21
  • [고분자재료]ITO scribing & cleaning-예비레포트(만점)
    된 목적이다. 따라서 기판(Glass) 세정 공정은 모든 공정 전후에 반드시 행해져야 한다. 반도체 소장 공정 중 웨이퍼 표면 위에 오염되는 불순물의 종류는 크게 오염물 ... g된 절연층과 음극분리 격벽을 부분적으로나마 용해시킬 가능성 때문에 적용하기 곤란하다. 이렇게 초음파 세정을 한 기판을 oven에서 baking하여 잘 건조시킨 다음 ... torr 정도로 유지하면서 UV lamp를 작동시켜 O2 gas가 UV광과 반응하여 발생하는 ozone에 의해 기판세정하게 된다. 세정 공정이 끝난 후 마지막으로 ITO 양극
    리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.01.21
  • 판매자 표지 자료 표지
    반도체 공정기술의 기본요소가 되는 박막증착, 포토리소그래피 공정에 대하여 실험
    되며 그 응용범위가 확대되고 있다 이러한 . 반도체 공정기술의 기본요소가 되는 박막증착 포토리소그래피 , 공정에 대하여 실험해본다.제 2 . 장 이론2-1. 기판 세정2-1-1
    리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.11.12
  • 판매자 표지 자료 표지
    정보디스플레이학과 광전자공학 3차 준비 보고서 리소그라피 장비 종류 및 구동 방법
    하는 공정으로, 증착과 세정 이후의 PR도포, 노광(Exposure), 현상(Develop)까지의 공정을 일컫는다. 추가로 식각(Etching)과 PR 박리까지 포함하는 경우도 있 ... & Spin coating, Spinless 방식이 있으며, spin coating 방식을 기준으로 설명하면 아래와 같이 과정을 나눌 수 있다.Spin coating기판을 Spin c ... hunk 위에 올려 놓고 기판을 회전 또는 정지시킨 상태에서 Resist를 Dispense 한 후 Spin chuck을 고속으로 회전시켜 Resist를 균일한 두께로 Coating
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.01.30
  • 기판 (glass, silicon 등) 클리닝 공정 정리
    주제: 다양한 기판 클리닝 공정에 대한 조사1.Wet cleaning1-1) RCA cleaningRCA SC-1(Standard Clean-1, APM) 세정공정은 암모니아 ... 와 과산화수소 그리고 물을 1:1:5의 비율로 혼합하여 75~90℃ 정도의 온도에서 10~20분 정도 세정을 실시하여 과산화수소와 암모니아의 화학반응에 의해 기판상의 유기오염물질 ... 되는 세정공정으로, 암모니아 대신 염산을 이용하여 기판상의 잔류 금속불순물들을 제거한다.[1]1-2) Piranha cleaningPiranha 세정세정용액으로 황산과 과산화수소
    리포트 | 1페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.10.07 | 수정일 2021.10.29
  • 판매자 표지 자료 표지
    금오공대 신소재 반도체공정 시험 정리
    면 에너지로 세정 ? PR 도포 ? Soft baking ? 마스크 배열 ? 노광 ? 현상 ? Hard baking ? 식각 ? PR 박리 ? 검사 과정을 거친다.기판세정하고 세정 ... 기보다 Uniformity를 높이기 위해 step을 거쳐 천천히 RPM을 올리면서 Coating을 진행한다. 코팅된 PR의 Uniformity는 증착 전 표면의 구조, 기판 세정, 스핀 속도, s ... 층을 형성하여 성능이 꾸준히 유지 된다는 점과 흔하다는 장점이 있다. 또한, 전하 운반자 제어가 쉬워 도핑하기가 쉬우며 산소와 질소에 안정적이므로 기판 물질로 잘 쓰인다. 최근
    리포트 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2024.11.08
  • 기판 건식, 습식 클리닝 공정 정리
    건,습식 기판 클리닝 공정1. 기판 클리닝이란: 클리닝 공정 즉 세정 공정은 각 공정 후에 생기는 많은 오염물 또는 잔류물이 표면에 남게 되었을 때 이를 제거하는 공정이다. 현재 ... 된 RCA 기판 세정 공정이라 할 수 있다. 암모니아인 염기성을 주로 사용하는 SC-1과 염산인 산성용액을 사용하는 SC-2 세정방법으로 나눌 수 있다. RCA 세정 공정 중 SC-1 ... ~15분 정도 사용한다.이 세정법은 유기 오염물 중에서도 포토레지스트와 같은 무거운 유기 오염물을 효과적으로 제거하며 세정기판 위에 화학적 산화막을 형성시키며 기판 표면
    리포트 | 9페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.11.12
  • 과열 수증기를 이용한 세정 시스템 설계 (Cleaning System Design using Supper Heating Steam)
    본 논문은 LCD등에 사용되는 유리기판 가공 과정에서 표면에 발생하는 이물질을 제거하기 위한 세정 시스템을 제안한다. 이 세정 공정 시스템은 알카리 전해수의 화학적 세정과 과열 ... 수증기 시스템의 물리적 세정방법을 사용한 세정, 린스, 건조 공정으로 구성된다. 또한 세정 시스템에서 사용되는 알카리 전해수의 화학적 세정효과를 실험을 통해, 알카리 전해수의 세정
    논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.27 | 수정일 2025.06.04
  • [A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <포토리소그래피> 레포트
    번째, 기판을 준비하는 과정으로 표면을 세정하고 감광제와의 흡착을 높여주는 밀착향상제를 도포하는 공정이다. 이 과정은 소수성인 웨이퍼 표면을 친수성으로 바꾸어 주는 과정 ... 1. 실험 목적Photolithography 공정을 이해하고 Photoresist 물질과 UV light를 이용하여 기판에 미세 패터닝을 할 수 있다.2. 실험 원리 -포토 ... 의 감광제를 회전시켜 균일한 얇은 막을 기판 전체에 도포시킨다.세 번째, 기판 위의 얇은 막으로 형성된 감광제의 solvent를 70% 이상 증발시켜 단단하게 만드는 soft
    리포트 | 7페이지 | 6,000원 | 등록일 2024.09.16 | 수정일 2024.10.17
  • 판매자 표지 자료 표지
    [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가
    가. glass기판세정1) glass(50㎜x50㎜) 기판세정제를 사용하여 깨끗이 세척한다.2) 1차 세척한 glass기판을 증류수를 사용하여 세정제를 완전히 제거한다.3 ... 을 하였다. 세정제를 이용하여 기판을 깨끗이 씻은 후 초음파를 이용하여 세정제까지 완전히 씻어내었다. 그다음 아세톤과 메탄올과 에탄올로 소독한 후 공기블로잉을 하여 말려 깨끗한 상태 ... 원소를 스퍼터 시킴과 동시에 스퍼터 원자는 기판상에 도달하여 박막을 형성하는 원리를 이용한 방법이다. 방전가스는 불활성 기체인 Ar가스를 사용하고 방전용 전력원으로는 직류 전원
    리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22
  • [고분자재료실험]ITO patterning 결과레포트
    pre-bake를 실시한다. Pre-bake된 기판 위의 PR film에 원하는 pattern의 photo-mask를 통하여 UV광을 선택적으로 투과시키어 노광시키고 PR film ... 에서의 etching 공정에 대해 충분한 저항성을 가지게 되며 glass 기판과 PR과의 물리적 접착력도 향상된다.형성된 PR층의 pattern을 통해 선택적으로 제거해 내 ... 한 PR과 남아있는 용매를 4~7% 까지 제거하고 기판과의 접착을 강화하기 위함이다. Oven방식과 Hot plate방식이 있는데 일반적으로 90-100C에서 60~120초 진행
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21
  • 판매자 표지 자료 표지
    [반도체공정실험]Cleaning & Oxidation, Photolithography, Dry etching, Metal Deposition, Annealing(Silcidation)
    beakers, safety gadgets다. 실험 과정1) BOE용액과 DI water를 사용해 Si 기판세정한다.2) E-beam Evaporator를 이용하여 NI을 증착 ... ) - DI 용액을 이용하여 헹군다.3) Spin Dryer - 30분 동안 700rpm 속도로 회전시켜 Wafer 표면의 물기를 완전히 제거한다.4) 세정 용액의 웨이퍼 표면 ... 부착 상태 확인물방울을 떨어뜨려 표면과의 각도를 측정한 후 BOE cleaning전에 측정한 각도와 비교한다. 이 때 세정되는 표면의 특성이 친수성(hydrophilic)인가 소수성
    리포트 | 19페이지 | 5,500원 | 등록일 2022.09.17
  • 판매자 표지 자료 표지
    (삼성전자_SK하이닉스PT면접) 하이브리드 본딩 기술 및 관련 기술에 관하여 PT하시오.
    본딩 기술은 기존의 와이어 본딩 기술과는 다르게, 칩 다이와 패키지 기판 사이에 전기를 전달하는 솔더 볼을 격자 형태로 배열하여 부착하는 방식을 사용합니다. 특히, 이러한 본딩 ... 시킵니다.전기적 특성 개선: 솔더볼이 작아질수록 전기적인 특성이 좋아져서 Signal Loss가 줄어듭니다.다이 활성화 및 세정: 콜렉티브 방식은 검증된 기술로 W2W 하이브리드 ... 본딩과 동등한 다이 활성화 및 세정에 장점이 있습니다.산화물 관리와 캐리어 상에서 재작업 가능: 캐리어 상에서 재작업이 가능하며, 산화물 관리에 이점이 있습니다.단 점비용 문제
    자기소개서 | 5페이지 | 2,500원 | 등록일 2023.10.16
  • 판매자 표지 자료 표지
    [화공기초실험]접촉각
    , 발수성 자동차 유리창세정제 등 이러한 모든 것들이 표면에너지와 관련된 기술이기 때문이다.나. 우리 생활에서 매우 중요하게 사용되어지고 있는 표면에너지를 구하기 위하여 사용된 액체 ... 와 기판의 접촉각을 측정하고 실험에 사용한 기판이 친수성(Hydrophilic)인지 소수성(Hydrophobic)인지 알아보기 위한 실험이다.2. 실험 이론 및 원리가. 친수성과 소수 ... , 유리, PEN 총 3가지의 기판을 준비 한 뒤 접촉각 측정기에 놓고 각각의 접촉각 을 구하게 되면 PEN의 양 측면의 평균 접촉각은 57.221°, 유리의 양 측면의 평균 접촉
    리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2024.04.02
  • ESC(정전척) 시장조사, 시장조사 ppt, 시장조사 발표자료
    반도체 장비 용 ESC 반도체 제조 장치 중 plasma 처리 장치 내부에서 기판 지지 용 / 제품에 따라 무 Sealing 제품 존재 LCD, OLED 용 ESC( 하부전극 ... ) 유리기판 위 회로 설계된 부분 외 DryEtcher ( 건식식각장비 ) 로 식각할 때 유리 기판 지지 용 / 건식식각 장비의 핵심 부품 Electro Static Chuck 소개 ... 원리 _ 기판흡착원리 ESC 흡착 원리 일반적인 콘덴서 (Condenser) 의 구조와 유사 유전층 - Ceramic 용사 코팅 (Al2O3, Y2O3) 도전층 - 금속 용사 코팅
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.11.01
  • 판매자 표지 자료 표지
    [A+레포트] 마이크로리소그래피 실험 Microlithography
    기판까지 흡수 없이 도달할 수 있다. 이러 한 노광이 된 부분과 되지 않은 부분의 흡광도의 차이가 resist의 대비로 나타난다. (위 그림의 점선)각각의 resist는 특정 ... 처럼 형성 될 것이다.그림 7-8 적절하지 않은 파장에 노출된 PR6)감광제 과정 (Resist processing) 세정 (Cleaning)코팅 전에 웨이퍼를 cleaning ... 정법 중 가장 널리 사용되는 방법으로 과산화수소가 근간으로 수산화암모늄, 염산 등을 이용하여 세정한다.- SC1 : (standard cleaning 1, NH4OH : H2O2
    리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.11.16 | 수정일 2021.11.18
  • 난연성 세정제의 합성 및 평가에 관한 연구 (Synthesis and Evaluation of New Nonflammable Cleaning Agents)
    평가를 위하여 가로 60 mm, 세로 40 mm 크기의 스테인리스강 기판에 인발유, 아비에트산, 절삭유, 윤활유를 각각 도포하여 합성한 세정제(1~7)에 넣어 침적한 후 세정력 ... 기존 탄화수소계 세정제는 낮은 인화점으로 인하여 화재, 폭발과 같은 문제점을 가지고 있다. 인화점을 높이기 위해 불소가 포함된 난연성 세정제 7종을 개발하였다. 새롭게 합성 ... 한 세정제를 한국석유관리원에서 국가산업표준 방법으로 분석하여 물성을 측정하고 세정성 평가를 수행하였다. 물성 측정 결과, 인화점이 탄화수소계 세정제보다 높은 것을 확인하였다. 세정
    논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.28 | 수정일 2025.07.04
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2025년 07월 29일 화요일
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