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"리소그라피" 검색결과 81-100 / 131건

  • 판매자 표지 자료 표지
    의용초음파 초음파 트랜스듀서의 종류
    )를 만드는 것이다. ① 모형제작 기술(리소그라피), ② PVD(물리적 증착), CVD(화학적 증착), LPCVD(저압식화학적 증착), PECVD(플라즈마 화학적 증착) 같은 증착
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.27
  • 레이저 과학과 발전방향
    , 털 제거 등)화학작용레이저 유기 화학반응, 엑시머 레이저를 이용한 화학처리반도체 프로세스(레이저 CVD, 반도체 가공, 리소그라피)이온화 작용우라늄 동위원소분리, 원자의 연골
    리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.04.07 | 수정일 2021.04.01
  • [203] 디스플레이 제조장비인 노광기
    출제상황: 노광기의 기술적 과제는 정밀도를 높이는 것이다. 기판 대형화에 따라 마스크도 동일한 크기로 커지는데, 8세대 디스플레이 원판에 소요되는 마스크는 석영 소재 특성상 끝부분이 처지기도 하고 파손 위험도 높다. 이 때문에 마스크 제작비용과 개발기간 지연이 문제되어..
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.03.02
  • 기술개발사업과 나노핵심기반기술, 디자인기반기술, 기술개발사업과 산업디자인기술, 민군겸용기술, 기술개발사업과 환경기술, 환경기술실증화사업, 기술개발사업과 우주개발사업, 평가관리
    구조 제어기술, EUV?X선 광 리소그라피 공정 기술, 스핀정보를 이용한 신호 증폭 및 메모리 소자 기술3. 나노기초연구지원사업1) 사업목적 및 성격○ 나노분야에 있어 미래기술
    리포트 | 14페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.04.12
  • 포토리소그래피(photoresist)
    은 Photoresist의 기본적인 특성과 정의를 알고 리소그라피 공정을 이용해 Develop Time이라는 변수를 두어 패턴 형성의 정도를 분석하는 실험이었다. 리소그라피 공정
    리포트 | 13페이지 | 5,000원 | 등록일 2008.11.30
  • SiO2 박막의 식각 및 PR 제거 실험 예비
    이라 한다. 리소그라피는 광원에 따라 optical, e-vbeam, X-ray, ion beam lithography가 있다.- 리소그래피의 과정은 아래와 같다.① 실리콘 결정
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.08.07
  • Photolithography
    Contents질문 시간PR 형성 공정Photolithography란?12노광 공정3현상 Hard Baking4Photolithography 공정정리56PhotolithographyPage 11. Photolithography 공정Photo (광)Litho (돌)Gra..
    리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.08.14 | 수정일 2018.01.17
  • PDP (플라즈마 디스플레이 판넬)의 제조방법
    층의 포토리소그라피 패턴 형성이 가능해졌고, 안료의 입자지름을 선택하는 것에 따라 형광체층의 두께를 용이하게 변경할 수 있게 되었다.대표청구항활성광의 조사에 의해 점착성이 변화하는 조성물
    리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.11.18
  • 판매자 표지 자료 표지
    의용 초음파 트랜스듀서의 종류
    )를 만드는 것이다. ① 모형제작 기술(리소그라피), ② PVD(물리적 증착), CVD(화학적 증착), LPCVD(저압식화학적 증착), PECVD(플라즈마 화학적 증착) 같은 증착
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.19
  • 반도체 공정 기술-lift off
    가능하다. 또한 이 공정에 의한 금속막의 형성은 그 금속이 습식이나 건식방법에 의해 식각되기 어려운 경우에 주로 이용되는데, 1960년대에 전자선 리소그라피의 출현과 더불어 개발
    리포트 | 2페이지 | 5,000원 | 등록일 2008.01.10 | 수정일 2017.03.21
  • 나노기술의 발달과 그에 따른 고찰
    는 것이며, 리소그라피(lithography)와 에칭(etching) 등의 방법이 사용되고 있다. Top-down 공정의 좋은 예는 다음과 같다. 1m의 끌로부터 1mm의 끌
    리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.06.20
  • 21세기와 NT(나노테크놀로지)
    나가는 방식 Bottom Up 예 ) 반도체 리소그라피 미세화 나노 구조 재료Nano Technology 의 역사 2 부NT ( Nano Technology) 역사 연 도 내 용
    리포트 | 25페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.11.12
  • Lithography
    LithographyContents1. Introduction 2. The Photolithographic Process 3. Etching Technique 4. Photomask Fabrication 5. Exposure Systems 6. Exposure Sour..
    리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.01.18
  • [재료공학실험, 반도체]Lithography
    harpness가 높다는 점이다.그 밖의 리소그래피 종류1.Eletron Beam Lithography (전자빔리소그라피)E-beam Lithograph는 반도체 웨이퍼 위에 전자에 예민 ... 한다. 전자빔 리소그라피는 미세 구조 시대의 감광막 형상, 크게 자동화 되고 정밀하게 제어되는 동작, 광학 노광이 가지는 것보다 훨씬 큰 초점심도, 마스크 없이 반도체 웨이퍼 직접 패 ... 은 다층 코팅 되어야만 하는 어려움이 있다.3.X-ray Lithography (X선 리소그라피)X-ray Lithograph는 반도체 웨이퍼 위에 감광(X-ray) 성질을 가지
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.28
  • [공업화학실험]박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거 결과
    박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거■ 실험목적여러 가지 전기 및 전자기기에 사용되는 반도체 소자의 제조공정은 박막재료의 세 가지 공정으로 나눠 지 는데 첫째로 증착공정 둘째로 마스크의 패턴형성 그리고 셋째로 식각공정으로 나눠진다. 이러한 공정 가운데서 중요한 공정은 ..
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.25
  • 인쇄전자소자
    printing이나 기타 다른 여러 직접 인쇄법을 통해서 전자회로를 다른 패터닝 방법 없이 기판에 직접 인쇄하여 제작하는 개념을 바탕으로 하고 있다. 이에 따라서 기존의 포토 리소그라피
    리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.12.24 | 수정일 2020.08.11
  • 광결정에 대하여
    리소그라피 기술을 바탕으로 다소 용이하게 얻을 수 있는 1D, 2D 광결정에 비해 다소 복잡하다. 3D 광결정의 경우 Si과 Ⅲ-Ⅴ족 반도체 물질을 기반으로 2D 광결정 제조를 반복 적층
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.14
  • PDP의 기술동향
    의 Matsushita는 업계 최초로 감광성 페이스트를 이용한 포토리소그라피 공법을 이용하고 있으며, 삼성SDI 및 LG전자는 Sandblasting 공법과? Etching 공법을 라인
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.30
  • [공학]반도체란!
    Particle 및 금속성 불순물 검사검사에 합격한 제품이 포장되어 출하반도체 웨이퍼 - 박막성장 - 리소그라피 - 페키징 - 외부 회로 연결반도체 소자 제작430 nm전자소자
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.05.14
  • 부품소재산업 발전 방안
    의 경우 작동에 필수적인 모터 및 감속기 시장규모의 급성장이 예상되며 나노관련기술의 경우 반도체 나노소자, 금속나노소자, 나노 리소그라피 기술 등에서 혁명이 가속화될 전망이
    리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.11.10
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2025년 10월 11일 토요일
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