"리소그라피"의 검색결과 입니다.

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반도체 공정실험 포토리소그래피 리소그라피 공정 나노임프린트 photoresist 3DP 폴리젯 공정

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"리소그라피" 검색결과 101-120 / 131건

OLED실험 예비레포트

다. 위 그림은 광을 이용한 광학리소그라피 기술로서, 마스크와 감광성 물질을 이용하여 우리가 원하는 substrate에 patterning을 한다. 마스크는 광원과 감광성 물질 사이

리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.01.16

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반응기 제작을 하여서 염소기체 생성실험

위에 지름이 100-500 마이크로미터인 마이크로 채널을 제작해 왔다. 이 방법은 일반적으로 이용되는 광리소그라피법에 비해 가공한계나 가공 정밀도는 뒤떨어지지만, 100 마이크로

리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.07.05

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나노바이오의 기술의 원리와 역사 및 향후 방향

는 방법.ex)리소그라피(반도체 집적회로 만드는 기술 x선이나 전자빔 이용): 반도체의 크기가 15년마다정도로 작아질 수 있는 계기가 되었고, 현재는 회로폭이 30nm가 한계.

리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.19

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dna칩

다. 올리고칩은 미국 애피메트릭스가 컴퓨터 제작에 쓰이는 포토리소그라피를 이용해 유리판 위에 수십만 개의 올리고뉴클레오타이드를 붙여 만들었다. 이 칩에서 각각의 올리고는 20∼25개

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.01.31

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광감성 포토레지스트를 이용한 패턴형성

UV 노광시간과 Develop time이라는 변수를 두어 Patterning의 정도를 분석한다.[Theory]1. Lithograpy광전자 화공소재 실험 -상온 각인 리소그라피 기술

리포트 | 16페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.11.30

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[공학]나노임프린터 공정과 연구동향

어 보이기도 하였다.● 나노기술과 정보저장STM과 AFM 리소그라피 (lithography)를 이용한 반도체 신기술에 대한 연구는 정보저장기술분야에 새로운 활력소를 불어넣 ... 를 비롯한 메모리반도체업체와 인텔 등 마이크로프로세서업체들이 0.18㎛에 기반한 제품 생산을 착수한 수준이다. 그러나 나노리소그라피는 지금까지의 공정과는 근본적으로 기술적인 출발점

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.09.21

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나노기술

아서 작게 만드는 방법 예)리소그라피 -대단히 정확하나 가격이 너무 비쌈 -균일하게 작게 만들기가 어렵다 -물리학자나 공학자들이 많이 쓰는 방법3. 나노제작기술 (계속)(2

리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.03.30

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나노란 무엇인가?

, 센서(바이어, 환경감시, 방위산업 등)…영국원자 분자 조작기술, 3D 나노기술, 나노 조립기술, 나노 리소그라피 양자기능소자, 나노 칩, 스핀트로닉스, 전자광자학, 나노구조화 액정

리포트 | 27페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.02.13

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[나노테크날리지] 나노프린팅의 연구동향

를 일렬로 움직여 IBM 글자를 만들어 보이기도 하였다.●나노기술과 정보저장STM과 AFM 리소그라피 (lithography)를 이용한 반도체 신기술에 대한 연구는 정보저장기술분야 ... 를 바꿔왔다. 최근에는 삼성전자를 비롯한 메모리반도체업체와 인텔 등 마이크로프로세서업체들이 0.18㎛에 기반한 제품 생산을 착수한 수준이다. 그러나 나노리소그라피는 지금까지의 공정 ... 나노리소그라피 기술을 이용하여 PMMA라는 고분자 박막에 반도체의 집적회로를 구현함으로써 나노리소그라피를 통한 대량생산의 가능성을 보여준 것이다. 나노기술을 이용하여 반도체

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.04.22

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PDP 기술개발 동향

이 소요되기 때문에 경제적인 공정으로 대체하기 위한 연구가진행이 되고 있다. 일본의 Matsushita는 업계 최초로 감광성 페이스트를 이용한 포토리소그라피 공법을이용하고 있

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.05.22

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특수가공

가공의료, 계측 등의 기타분야관련기술-절단 -용접 -표면처리 -천공 -마킹-절단,트리밍 천공 -표면 texturing -포토리소그라피 -클리닝 -마킹 -UV큐어링-스텐트 가공 -근시

리포트 | 39페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.05.03

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[공학]플라즈마 (PLASMA)

은 기술에 플라즈마를 이용한다. ● Lithography : 플라즈마의 광 에너지를 이용 ⇒ X선 방출 ○ 리소그라피는 리소(돌) + 그라피(인쇄술)의 합성어 ○ 일정한 빛에 민감

리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.07.07

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[반도체공학]반도체 공정

리소그라피, 전자 빔 라소그라피, x-레이 라소그라피 방법으로 구분한다.○ 마스크- 전자빔 서리를 이용해 설계된 회로 패턴을 유리판 위에 그려 넣어 마스크를만든다.○감광막- 먼저

리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.04.05

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신 과학기술 ( 나노 기술)

광통신용 광소자 기술, 실리콘 나노 점의 전광소재 / 소자 원천기술 등정보저장테라급 초고밀도 자기 정보저장 매체기술 등정보표시,재료 및 공정차세대 리소그라피 원천기술, MEMS

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.04.20

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Nanotechnology의 현재 동향

기도 하였다. 이러한 초저온에서 원자를 움직여 글자를 만드는 기술이나 STM과 AFM 리소그라피 (lithography)를 이용한 반도체 신기술에 대한 연구는 정보저장기술분야에 새로운 ... 업체들이 0.18㎛에 기반한 제품 생산을 착수한 수준이다. 그러나 나노리소그라피는 지금까지의 공정과는 근본적으로 기술적인 출발점이 다르며, 이 기술이 실용화 할 수 있는 기술 역시

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.11.24

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[반도체공정] Photoresist 및 OF

의 제한적인 해상도 한계를 연장하고자 광학적 기술을 응용하여리소그라피 광원의 파장이 소자의 최소 선폭보다 길게 되는 기술1997년 0.25μm 세대부터 사용100 nm 선폭 공정

리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.19

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[반도체공학]박막증착

박막을 형성하는 공정, 리소그라피를 통해 패턴을 박막 위로 전사하는 공정, 박막 위에 전사된 미소기계를 가공하는 공정, 그리고 미소기계 소재의 물성을 조절하기 위한 전·후 처리

리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.12.23 | 수정일 2025.01.21

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[디지털문화]6T현황과 문제점 및 글로벌화 전략

핵심 요소기술–스핀 정보물질 이용 전자소자, 나노튜브 전자광소자 개발 –EUV, X선 리소그라피기술 개발나노기반기술–나노센서 및 나노소자의 고밀도정보저장장치 개발, 양자역학

리포트 | 65페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.11.24

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[MEMS 공학] 마이크로 머시닝 방법

하는 가공법으로서 종래부터 반도체 미세 패턴(pattern)가공 등 마이크로머시닝에 가장 먼저 적용된 가공기술로 볼 수 있다. 이러한 반도체 에칭법에는 포토리소그라피(photo

리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.30

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[행정학과] 차세대 반도체

~’07년 정부 800억 원)과 나노급 반도체용 EUVL 리소그라피 차세대기술개발(‘03~’12년 정부 200억 원) 등에 대한 지원을 지속적으로 확대하고, 연구기획단에서 발굴

리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.06.03

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