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diffusion공정 반도체 공정 DIFFUSION 공정 TCAD 기체흡수 결과 기체흡수실험 cmos 공정 cvd
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"diffusion공정" 검색결과 801-820 / 859건

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    [직접회로] 이온주입공정
    내부로 확산시켜 주입하는 diffusion공정에 의해서도 이루어진다.이온 주입의 가장 중요한 이점은 주입되는 불순물 원자의 수를 정확히 조절할 수 있다...PAGE:310(14 ... ..PAGE:1이온 주입 공정제1장 서론제2장 이온 주입 장비제3장 이온 주입의 특징 및 응용제4장 비정질에서의 주입 이온의 분포제5장 단결정에서의 주입 이온의 분포제6장 손상 ... 분포 열 확산 후의 불순물 분포..PAGE:9이온 주입 분포를 위해 규격화된 가우시안 분포..PAGE:10* 저온 공정* 균일성 : 똑같은 불순물 농도* 높은 처리량* 간편한 불순물
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    | 리포트 | 52페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.12.22
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    [응용실험] N+P 다이오드 제작
    5) HF(BOE)를 이용하여 SiO2을 제거한다.6) 나머지 PR을 제거7) 1000 에서 20분동안 n+불순물을 Diffusion시킨다.8) 1000um 마스크를 정렬하고 Al ... . Quartz Diffusion Boat에 소스와 Wafer를 함께 세워 두고 furnace 안에 서서히 넣는다.5. 온도를 1000 로 setting front & rear 는 1050 ... power s/w를 ON한다.3 Rotary Pump s/w를 ON한다.4 Oil Diffusion pump On한다.5 forelin valve open한다.6 Leak s/w
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.12.22
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    [자연공학]LED의 모든 것
    화이트 컬러 LED만드는 방법 3가지블루 LED와 특허에 관하여LED의 제조공정회로구성LED 응용분야우리나라 LED의 대표 업체 현황향후 LED의 시장현황 및 동향신규시장 동향 및 ... 는 빛을 굴절, 집광시켜 Back Light 표면에서 휘도를 상승시킴.◈ 확산 시트 (Diffuser Sheet)도광판 상면에 위치하여 도광판 표면으로부터 일정한 방향으로 빠져 나오
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    | 리포트 | 38페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.01.17
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    [화학공학] 나노테그놀로지와 우리의 미래
    , NH2, SO3H 등)을도입하여 유화제없이 자가 유화(Self-Emulsification)되는 시스템·우레탄 분산입자제조에 응용※ Emulsification-Diffusion ... 할 수 있는 새로운 공정·입자의 크기가 균일하고 다양한 이온성 그룹을 고밀도로 입자표면에 도입·모델 콜로이드, 콜로이드 촉매, 표준시료용 콜로이드, 의공학용 나노입자 개발에 응용 ... ※ Heterocoagulation Technique{·입자의 크기와 전하가 서로 다른 두 나노입자소재의 pH를 적절히 조절하여 응집시키는 공정·다양한 Shell 두께와 Multi
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    | 리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.07.22
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    [환경] 환경오염의 해결
    환경오염방지기술- 대기·수질오염방지기술- 소음·진동 방지기술- 폐기물처리 기술- 토양오염·지하수 정화 기술c 청정기술- 저공해·무오염 공정, 자동차 배출가스 저감, 청정물질개발 ... 를 위한 다이옥신 처리 기술은 흡착제, 촉매 등을 사용하거나 공정개선을 통하여 이루어지고 이다. 그 중에 흡착제에 의한 다이옥신 제거는 현재 가장 효율이 좋은 것으로 알려지고 있 ... 및 PAN등을 생성시키며 이로 인하여 스모그 현상을 유발시키는 원인물질로 알려져 있다. VOC는 주로 자동차 도장등 수많은 제조공정으로부터 배출되는데, 특히 고용매력, 고휘발성
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.11
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    [공학재료] 반도체제조과정
    -> SiO2Si + 2H2O -> SiO2 + 2H2이 산화과정은 Si-SiO2 표현에서 확산을 통해 진행된다.2 Diffusion다른 온도의 공정은 IC제작에서 광대하게 사용되어지
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.25
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    [환경공학] 공기부상 반응조에서 반송율에 의한 유기물 제거 향상에 관한 연구
    과 마실 물의 고갈에 따라 폐수처리가 필요하게 되었다.(1)재래식 활성슬러지 공정은 넓은 부지소요와 독성 유입에 대한 취약성, 고액분리 문제 등과 같은 약점을 안고 있기 때문 ... 하였다. Riser의 저부에서 Fine bubble diffuser로 공급한 공기에 의해 유동하여 Riser와 Downcomer 사이에 순환되도록 하였다. 폐수는 반응기의 공기
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.04.01
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    [폐수처리] 폐수처리용 고분자응집제의 특성 및 현황
    ----------------------------- 1II. 폐수처리 공정 --------------------------------------- 31. 폐수의 특징 ------ ... --------------------------------- 32. 폐수처리 공정단계 ---------------------------------- 63. 응집처리의 필요성 --- ... - 침전하여 floc을 형성하도록 하는 물리적 단위조작과 응집 보조제나 침강 보조제를 사용하는 화학적 조작을 하게 된다.Ⅱ. 폐수처리공정1. 폐수의 특징폐수는 집수, 처리 및 처분
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    | 리포트 | 37페이지 | 10,000원 | 등록일 2004.11.09
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    반도체 제조 공정
    1. 단결정 성장 방법단결정 성장은 실리콘 웨이퍼 제조를 위한 첫번째 공정입니다. 고순도의 일정한 모양이 없는 폴리 실리콘이 고도로 자동화된 단결정 성장로 속에서 단결정봉 ... 의 공정 기술에 한계를 가져와 선택적 박막 증착법과 같은 새로은 공정 기술의 개발을 요구하고 있다. 이중 선택적 단결정막 성장 기술은 최근 다양한 novel Si device 구조 ... 에 응용 가능성이 시사되면서 크게 주목받고 있다. 선택적 단결정막 성장을 공정에 안정적으로 적용하기 위해서는 단결정막 성장 과정에서 절연층 표면에 핵의 형성을 억제해야 하며 그 과정
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    | 리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2003.04.19
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    반도체에 사용되는 용어정리
    /==============================================================================1. 공통용어2. PHOTOLITHOGRAPHY3. ETCH4. DIFFUSION / IMPLANT5. DEPOSITION6 ... 43°C의 성질을 갖고 있는 화합물이다. 반도체 공정에서 표면 Cleaning 또는 Nitride Acid(HNO3), Hydrofluoric Acid(HF) 등과 함께 세정 ... 공정 등에서 Uniformity 등을 좋게 하는 완충 용액으로 사용된다.Active Element전자부품을 능동소자와 수동소자로 나누어 생각하는 경우가 있는데, 능동소자는 비선형
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    | 리포트 | 18페이지 | 무료 | 등록일 2000.11.29
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    수소 적용 기술
    하ing Process, SR), 3) PO와 SR 공정을 조합한 Autothermal Reforming 공정이 있다.현재 수소 제조를 위한 다양한 기술들이 연구되고 있으나 결국 ... , PO)②수증기 개질법(Steam Reforming Process, SR)③PO와 SR 공정을 조합한 autothermal reforming 공정물의 전기분해 방법-KOH ... 공정이 필요-석유에서의 수소 제조 코스트의 3배 정도광화학반응에 의한 방법-물을 직접 전기분해하여 얻음-경제적 청정한 기술생물학적 발생법-시스템이 간단-재생산 가능한 바이오매스
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    | 리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2003.06.19
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    [에너지] 연료전지
    )5. 전극 (Electrode)6. 막전극접합체 (Membrane and Electrode Assembly)7. 기체확산층 (Gas Diffusion Layer)8. 분리판 ... (Bipolar Plate)9. PEM Fuel Cells Stack★ 개질장치의 원리 및 특성1. 당사 개질기 성능결과2. 제어 시스템3. 공정흐름도4. 주유 구성부품5. 시스템 ... 공정 설명6. 운전7. 개질기 도면★ 연료전지 시스템1. 연료전지 시스템 구성2. 당사 2KW LNG RPG SYSTEM의 외형 및 흐름도3. 가정용 연료전지 코제너레이션 시스템4
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    | 리포트 | 16페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.02.14
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    [환경미생물] 생물막처리공법
    생물막 처리공법의 개요생물막법은 여재의 표면에 형성된 생물막(Biofilm)과 폐수를 접촉시켜서 폐수중의 오염물질을 제거하는 공정이다. 하천의 바닥에 있는 자갈의 표면은 세균 ... 과 반복접촉 정화시킨다.정화기구 해명상 중요한 점은 비산 플록과 공정막과의 비율이다. 대표적인 처리 공법상 생물체의 고정 및 비산상태는 와 같으며, 살수여상에서는 고정생물막이 100%인 ... 하며, 관리공정이 많다- 부하변동에 의해 조업불능이 되는 경우도 있다- 활성슬러지법에 비해 관리공정이 적고 비교적 조업이 용이하다- 부하변동에 의해 처리성능은 저하되나 조업불능
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    | 리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.26
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    [재료공학] OTFT관련 유전체종류
    -PZT나 BZT 등 상당수의 강유전성 물질에 흔한 특성이다-을 보이는데다 공정온도가 너무 높아 F램 제조에 장시간이 걸리고 제조단가가 치솟는 기존 소재들의 단점을 모두 극복한 것 ... loss가 작은 장점을 보유하고 있다. 강유전체와 상유전체를 포함하여 가장 널리 연구되고 관심을 모으고 있는 물질이 BST일 것이다. 고집적 반도체 공정에 이용되려면, step c ... ov물이다. 이물질의 생성은 Thermal Diffusion과정, 고주파 sputtering, CVD법 등이 있다.◎ BPSG (BOROPHOSPHO-SILICATE-GLASS
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    | 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.07.18
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    [화학공학 사전보고서] 이온교환
    수r)를 합성하고 희망하는 관능 기를 화학적인 반응에 의해 도입하여 여러 종류의 이온교환수지를 합성하는 방 법으로써, 기초고분자의 모체 생산공정과 관능기 도입공정이 분리되어 있으므 ... )과 공중합체 구조의 차이에 따라서 술폰화 반응이 지배를 받는 확산설(diffusion control)이 알려져 있다.Wiley 등은 DVB를 가교제로 사용한 공중합체에 있어서 술폰화
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    | 리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.09.03
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    [공학실험] 양극희생실험
    , 절연체, 금속 등 여러종류의 시료에 대하여 분석이 가능하기 때문에, 반도체공정 및 기술 개발등을 비롯한 여러 분야에 널리 이용되고 있다.photons이 물질에 입사될 때, 원자 ... 펌프 (ROOTS PUMP)-수봉식 펌프 (LIQUID RING PUMP)-터보 분자 펌프 (TURBO MOLECULAR PUMP)-확산 펌프 (DIFFUSION PUMP)-이젝타
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.02
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    [진공 및 증착기술] 진공, CVD 및 PVD
    로운 인스턴트 커피, 식품 포장, 네온사인 등 일상생활에 관련된 것 등 많은 것들이 진공공정과정을 통하여 만들어진다.각종 진공관련 산업이 급속도로 발달함에 띵라 진공제작 기술도 많 ... -8-7-6-5-4-3-2-10123sorption★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★★blower★★★★★★★★★★★★★★★★★oil diffusion
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    | 리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.11.22
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    Measurement of Wettability(물방울각 측정)
    산화공정과 건식 산화공정으로 나눌 수 있다. 일반적으로 산화막은 건식 산소를 사용할 때보다 습식 산소를 사용할 때 더 잘 성장함을 알 수 있다.2) Diffusion이 공정은 Si ... Measurement of Wettability ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━1. Purpose일반적인 반도체 공정에 대하여 개략적으로 알아보고, 세정 공정의 중요 ... 성과 세정 공정시 wettability의 정의에 대해 알아보고 측정 목적과 방법에 대해 알아본다.그리고, 웨이퍼 표면의 wettability를 측정함으로써 반도체 웨이퍼 표면의 특정
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    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.05.09
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    [재료금속] Gate Oxide(게이트옥사이드)
    Gate Oxide최근의 반도체 소자의 급격한 발전과 놀랄만한 속도는 소자의 집적화와 그에 따른 공정의 발전에 기인한다. transistor에서는 channel의 거리를 줄이고 ... 이나 antimony등의 slow diffusing dopant species를 이용하여 1차원적인 doping profile을 더 steep하게 형성한 well을 일컫는다.4
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2003.10.22 | 수정일 2017.07.17
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    [전자회로] 모스캐패시터
    전압으로 n-type인 경우에는 역방향 전압으로 쓰이며, 전도상태와 비전도상태 사이에서 제어되는 스위칭작용을 시키는 데 매우 적합해서 디지털회로에서 유용하게 사용된다. 또한 공정 ... 형 기판에 확산 또는 주입(공정)으로 이루어지며, 얇은 산화물층은 Si표면으로부터 Al금속 게이트를 분리시킨다. 드레인-기판-소스의 결합은 직렬로 서로 반대방향으로 된 p-n접합 ... 에서 1시간 30분 동안 oxcidation을 했는데 열산화법이 아닌가 생각이 된다. 그리고 우리가 사용한 Furnce는 먼저 실험인 pn junction에서 anneling 공정시
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    | 리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.11.02
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