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diffusion공정 반도체 공정 DIFFUSION 공정 TCAD 기체흡수 결과 기체흡수실험 cmos 공정 cvd
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"diffusion공정" 검색결과 681-700 / 859건

  • 자료 표지
    반도체용어총정리
    )● PR : photoresist(감광제)● diffusion- dopants를 넣는 공정의 한 방법● Ion implantation- dopants를 넣는 공정의 한 방법 ... . diffusion의 대체적 방법으로 쓰이기도 한다.● RTP : Rapid thermal processing(-50℃∼100℃)● Conduction Band● Valence
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.11.02
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    CSTR/기체확산 실험(예비)
    속도가 큰 경우의 공업적 공정에 이상적이다. 보조 장치가 많이 필요하지만 제품의 품질관리를 잘 할 수 있다는 장점이 있다. 또한 석유공업에 많이 이용된다.ⓐ 플러그흐름 반응기 ... (net flux)D ; 확산계수(diffusion coefficient)dC ; 농도차dx ; 거리차비정상 상태에서는 Fick's 2nd law가 사용되고, 1차원 경우에 다음 ... , d2)의 제곱근에 반비례한다.'는 사실을 발견하였다. 이를 그레이엄의 법칙(Graham's law)이라 한다.※ 확산(diffusion) : 기체 분자가 다른 기체 속으로 저절로
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.07.18
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    [공학]Thermal Evaporation법을 이용한 발광박막의 제조
    Thermal Evaporation법을 이용한 발광박막의 제조1. 목적Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕 ... 는 LCD에 비해 응답속도가 빠르고 자체 발광성을 지니기 때문에 시야각이 넓으며, 얇고 가볍다는 장점 때문이다.유기발광소자의 제조에 있어서도 박막제조기술은 가장 핵심적인 공정 기술 ... 고, 코팅 후 건조시키는 용액코팅법보다 공정이 간단하다는 장점이 있기 때문이다.진공증착기(Evaporator)에 대한 개략도를 그림 1에 나타내었다. 이 방법은 Mo, Ta, W
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.22
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    [재료공학실험]thermal evaporation system
    diffusion pump히터에서 오일증기가 상승하여 3단으로 이루어진 노즐로 초음속으로 분출. 이 오일증기가 주변 기체분자들을 아래쪽으로 이동시켜 배기. 벽을 친 오일증기는 응축 ... 다. D.P는 끔8. R.V를 닫고 R.P끄고 power off9. 냉각수를 잠근다.반도체공정에서 evaporation 쓰이는 예일반적으로 박막 증착 공정은 크게 화학 공정 ... (chemical process)와 물리 공정(physical process)의 두 가지로 크게 나뉠 수 있으며 이러한 분류를 그림 5.3.4-1 상세히 나타내었다. 여러 가지 박막 증착 기술
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.03
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    진공의 원리와 진공펌프 및 게이지
    영역을 이 같이 구분하는 이유는 각 진공 영역에 따라 적용되는 공정이 달라지고 , 펌프의 기종 또한 다르게 되기 때문이다 . 진공 영역별로 구분되는 공정 및 펌프의 기종은 아래의 표 ... 베인 펌프 (RUNNING ROTARY VANE PUMP) 최대 진공도는 1+10Torr 정도 고진공이 요구되는 공정에도 다양하게 쓰임 산업 전반에 걸쳐 가장 널리 쓰이고 있는 기종 ... 진공펌프의 종류 10 수봉식 펌프 (LIQUID RING PUMP) 액체가 차있는 상태에서 작동하므로 , 흡입되는 공기에 다량의 수분이 함유되어 있는 공정에 쓰임 . 단점 실린더
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    | 리포트 | 32페이지 | 3,300원 | 등록일 2007.05.25
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  • 자료 표지
    [액체확산, 환경공학실험, 실험] 액체확산
    experiment, we know that diffusion velocity follow a temperature of solution.Through fick`s law, we ... get a conductivity and diffusion coeffcient of a each solution. After we make to differ a temperature ... of same solution, we carry out an experiment. Through diffusion coefficient of each solution, we
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.14
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    No.27 진공공학 기말고사
    해 얻은 Giga DRAM제작에 사용할 수 있는 초미세선(LG반도체)전자부품연구소와 포항가속기연구소가 국내 최초로 제작에 성공한 LIGA공정에 의한 초미세 구조체. 이러한 가공기술 ... 다. 이 물질에 대한 투과력 때문에 X-선을 이용하면 비파괴적 분석이 가능한 것이다. 그리고 방사광 X-선의 높은 강도(Intensity)는 공정 중에 실시간(real-time) 분석 ... 성과로는 LG반도체가 96년 개발한 선폭 0.13 마이크로미터 수준의 4기가 D램용 회로패턴과 98년에 개발한 4기가 D램 CMOS 공정개발, 그리고 0.10 마이크로미터 수준
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    | 리포트 | 30페이지 | 5,000원 | 등록일 2007.11.28
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  • 자료 표지
    액체확산 결과 레포트
    시계이론적 배경● 확 산-diffusion확산이란, 혼합물 중에 상대적으로 휘발성이 큰 물질의 이동이 있는 것을 말한다. 확산 이 일어나는 주된 원인은 확산되는 물질의 농도차이 ... 산업 공정에서 중요하다. 강이나 호수 에서 공기에 의한 산화나 혈액 속에서 염의 확산과 같은 자연적인 확산의 예도 있다. 액체 분자는 기체 분자보다 더욱 촘촘히 밀접해 있기 때문
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.25
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  • 자료 표지
    이온주입
    는 어떤 후속 고온 공정을 거쳐도 가우시안을 유지 ▶ Irvin의 곡선을 사용하여 극점이 표면에 위치한 경우의 면저항을 알아볼 때 사용한다.Junction Depth and Sheet ... Nitridation(RTN)등의 방식이 있다 ▶ Transient Enhanced Diffusion(TED) - 이온주입으로 발생한 실리콘 결정손상이 확산계수를 일시적으로 5배에서 10배
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    | 리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.18
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  • 자료 표지
    사회복지정책의 가치와 이론에 대해서
    (2)형평: 공정한 처우(fair treatment)를 의미, 개인의 업적, 공헌, 능력 및 기여에 따라 사회적 자원을 분배 (3)사회적 적절성:사회복지급여의 수준이 신체적, 정신 ... 을 충분히 반영하지 못함 -사회안정에 위협되지 않으면서 사회복지정책의 혜택을 받고 있는 집단은 설명불가⑤ 전파이론(Diffusion theory):확산이론 -국가간 교류로 사회복지 ... 과 갈등을 정부가 공정하고 종합적인 입장에서 조정한 결과로서의 균형 -정책의 내용과 형태는 이익집단 구성원의 수, 능력, 재원, 조직력, 지도자의 리더쉽, 정책결정자에의 접근가능
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    | 리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.01.13
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    [공학] 도장공사
    페인트가 묻지 않도록 미리 칠할 곳의 주변, 바닥, 매입등 기구, 감지기, 디퓨저 등은 적당한 보양을 해야 한다.칠이 끝난 후에는 칠면에 오염, 손상을 주지 않도록 주의하고 손상 ... 고, 직사광선을 피한다.4)칠공정과 견본품각 단계의 칠 겸본과 칠 종류가 다른 것마다 칠 견본을 체출하여 빛깔, 광택 등에 대해 담당원의 승인을 받아야 한다.5)칠 배합 및 배합장소칠 ... 갈기1)연마재료연마재의 입도, 연마포, 연마지, 내수연마지는 규격에 합격한 것으로 한다.2)연마지갈기각 공정의 연마지 갈기는 밑층 칠의 칠막이 건조한 다음 각 층마다 하는 것
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    | 시험자료 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.03.05
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  • 자료 표지
    [실험자료]원자층 단위 증착(ALD) 공정의 기본 원리
    1. 실험의 목적원자층 단위 증착(ALD) 공정의 기본 원리를 이해하고 직접 실험을 통하여 박막을 만들어보고 그 특성을 분석하여 실제 연구에 응용할 수 있는 기본적인 능력을 배양 ... 하는 데에 본 실험의 목적이있다.2. 이 론▲ 화학기상증착(CVD:Chemical Vapor Deposition)공정1) 개 요반응가스간의 화학반응으로 형성된 입자들을 웨이퍼표면 ... 에 증착하여, 절연막이나 전도성 막을 형성시키는 공정이다.두가지 이상의 Gas를 동일 화학 반응로(Chamber)에 불어넣어 특정한 화합물을 생성 시켜 그 반응 화학물이 Wafer
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.07
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    [재료과학][재료과학]소결
    스와 치밀하게 결합한다. 치밀화의 메카니즘은 grain boundary diffusivity 혹은 carrier phase로 transport의 강화와 관계있다고 가정. ... - Brophy et al.은 W의 소결에 Ni의 첨가로 강화된다.- CaF는 Na의 첨가에 의하여 Ca의 격자 확산이 감소한다고 기대하고 그 공정 boundary/carrier phase ... 를 증가시킨다. (boundary diffusivity의 dopant effects) 대부분의 ionic과 metallic materials는 particle size가 충분히 작
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    | 리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.10.05
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    [반도체공정] 산화막 공정( Oxidation Process )
    산화막 공정( Oxidation Process )1. 실 험 목 적반도체 재료로서 실리콘의 장점의 하나는 산화 실리콘(SiO2)을 형성하기 쉽다는 점이다. 산화층은 반도체 소자 ... 제조에 있어서 표면보호, 확산 마스킹, 유전체의 역할 등 주요 기능을 한다. 본 실험에서는 열산화법중 습식산화법을 통하여 산화물 박막의 제작 공정의 진행순서 및 기본원리를 이해 ... 에 이러한 두께를 얻으려면 900℃에서 1200℃ 정도의 산화온도가 필요하다. 온도는 적당한 시간에 공정할만큼 높아야하며 결정 결함을 주지 않을 만큼 낮아야 한다. 상한선인 1200
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.13
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  • 자료 표지
    사회복지정책의 발달론과 전개과정, 사회복지정책 발달론
    )9. 기타 이론1) 수렴이론(Convergency Theory)2) 확산이론(Diffusion Theory)3) 위인론과 엘리트론(Great man Theory&Elite ... 정의의 개념변천으로 봄.?David Miller-법정정의: 범죄와 형벌의 적용에 관한 원칙과 공정한 재판, 항소권 등의 법적용에 관한 원칙과 같은 것.-사회정의: 사회적 이득
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    | 리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.11
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  • 자료 표지
    [공학]ccd와 coms
    out put을 내는 경우(ADC 내장)를 말함.그 외 특징을 살펴보면 CCD의 경우 공정이 CMOS에 비해서 상대적으로 어렵고, CMOS의 경우 random access가 가능하나 ... CCD는 불가능한 점등이 있다.1990년대 후반 및 최근에는 CMOS 공정기술의 발달 및 signal processingalgorithm의 개선등으로 인하여 기존의 CMOS ... Image Sensor가 가지고 있던 단점들이 극복되기 시작하였으며 또한 선택적으로 CCD 공정을 CMOS Image Sensor에 적용, 제품의 질이 기존에 비해서 월등히 개선
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.31
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    반도체 lithography process (노광공정)
    (Photo Acid Generator)이 강산(H+)이온을 발생시키는 단계와 PEB(Post Exposure Bake) 공정시 열에너지에 의하여, 기 발생된 강산이 촉매역할을 하 ... 하여 dangling 결합을 이루게 된다. 따라서 외부로부터의 열에너지 또는 수분(H2O) 인가 시에 Si group이 쉽게 out-diffusion, 즉 desilylation되므로 s
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    | 리포트 | 62페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.12.04
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    반도체공정(CVD)
    < IC Technology & Fabrication >소속 : 재료공학부학번 : 1996013900이름 : 최 류 탄1999년도에 제작된 반도체 CVD공정에 관한 수업내용이 ... 기 때문에 나노기술이 적용되고 있는 오늘날의 반도체공정과는 다소 거리감이 있다고 생각했지만 3학년 전공수업시간에 배운 반도체물성을 다시 한번 정리할 수 있었다는 점에서 이번 전공 ... formation technique: thermal oxidation evaporation 에 대한 공정과정 설명2. materials deposited by CVD* silicon
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.10.13
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    [OLED]표준광원 색좌표 진공펌프
    같이 구분하는 이유는 각 진공 영역에 따라 적용되는 공정이 달라지고, 펌프의 기 종 또한 달라지기 때문이다.진공 영역별로 구분되는 공정 및 펌프의 기종은 아래의 표와 같다.진공영역 ... 진공도 범위적용되는 공정진공펌프의 기종저진공(Rough Vacuum)대기압~1 Torr진공 흡착 이송, 인쇄기 자동급지, 진공농축 반응기, 분말 충진, 진공성형, 진공포장건식 로타리 ... 펌프 (TURBO MOLECULAR PUMP)◎ 확산 펌프 (DIFFUSION PUMP)◎ 이젝타펌프 (STEAM EJECTOR/GAS EJECROR)◎ 흡착 펌프
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.15
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  • 자료 표지
    고분자전해질 연료전지 및 직접메탄올 연료전지 성능 실험과 분해조립
    제거 공정을 거친후 연료전지에 주입하여야 한다.Alkaline⑤ PEMFC : Polymer Electrolyte Membrane Fuel Cell (고분자 전해질형 연료전지 ... .Flow Field : Bipolar Plate 위에 형성이 되어 있는 유로를 의미하며, Stack 내부에서 Gas가 흐르는 통로가 됨.Gas Diffusion Layer
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    | 리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.09.17
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2025년 11월 22일 토요일
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