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"이온 플레이팅" 검색결과 61-80 / 115건

  • [공학기술]기계공학실험(마이크로 표면 측정)
    까지 일부를 이온화, 이온이나 여기입자, 중 성입자 등을 공작물에 부착 시킨다. PVD 의 종류로는 진공증착, 이온 플레이팅, 스패터링이 있다. 이들 공정도 처리온도가 600도 ... 보다 낮기 때문에 처리 공정에서의 변형을 억제 할수 있 다. PVD 중에서도 공업 적으로 적용이 풍부한 것은 이온 플레이팅이다. 이온 플레이팅은 증발 한 입자를 이온화 하고 , 전압 ... 에 따라 가속하여 공작물에 부착 시킨다. 종래의 습식 도금이나 진공증착에 비해 막의 밀착성이 우수하다. 이온 플레이팅의 막은 TIN (질화 탄산)가 거의 전 부였으나 현재에는 여러
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.19
  • thermal evaporation법을 이용한 박막의 제조 레포트.
    Vapor deposition)으로 대별된다. 또한, PVD법은 진공 증착법과 스퍼터법, 이온플레이팅법으로 나눌 수 있다. 그 중 진공 증착법은 진공(10-4Torr) 중에서 고체 또는 ... 고 료)를 증기상으로 만들던 간에 코팅증 피처리물 표면에 생성된 에너지를 가진 이온으로 피처리물 표면을 활성화시켜 접착성을 크게 증가시킨 방법이다. 이들 모든 방법은 10-2~10 ... 에 응용되고 있다.진공증착, 이온, 스프터링, 이온도금 등의 방식은 요구되는 코팅종류에 따라 선택되어지는데, 진공증착은 스퍼터링 방법에 비하여 극히 빠르게 코팅할 수 있으며, 이온
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.15
  • 마이크로 표면측정2
    으로 이용되는 TiN은 Ti의 반응성 이온 플레이팅이나 스퍼터링, PECVD 방법등을 통해 건식법 으로 만들 수 있다. 또한 고분자의 표면을 질소나 산소 플라즈마 등으로 처리하면 고 ... .a) Plasma란?기체 상태의 물질에 계속 열을 가하여 온도를 올려주면, 이온핵과 자유전자로 이루어진 입자들의 집합체가 만들어진다. 물질의 상태인 고체, 액체, 기체와 더불
    리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.06.24
  • DC 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용한 Cu 증착률의 스퍼터링 압력 및 Power 의존성 조사
    를 통하여 기상 및 기판 표면에서의 화학 반응으로 박막을 형성하는 방법이다. 또한 플레이팅 기술은 열 속도보다도 큰 운동 에너지로 가속된 원자나 이온을 증착 입자에 포함시켜 박막 ... 플레이팅(Plating)증착기술로 나누어진다. PVD 기술은 목적하는 박막의 구성 원자를 포함 하는 고체의 타켓을 물리적인 작용(증발, 승화, 스퍼터링)에 의해 원자?분자 ... 이 빈번하게 일어나 효과적으로 이온을 생성시키지 못한다는 것을 의미한다[10].2. Glow dischargeGlow discharge는 기체의 압력이Pa 정도의 진공도를 갖
    리포트 | 37페이지 | 6,000원 | 등록일 2008.01.16 | 수정일 2014.08.20
  • 표면개질
    하에서의 내 마모성 재료로 활용할 수 있다. 예를 들면 피스톤링의 시저 방지 대책으로 습동부에 채용 되고 있다. 그리고 경질 크롬 도금에 비해 이온 플레이팅에의한 CrN 막은 막 ... 증착한다. 스패터링은 증착 물질에 아르곤을 내쳐 날려 버리 는 방법이다.이온 플레이팅은 진공 용기속에 금속을 증발시켜 그 금속은 플라즈마 속에서 이온화하여 공작물에 두텁게 쌓인다 ... 는 현상이다. 이는 막에 치밀성이 나쁘게 되고 박리 등의 원인이 된다. 특히 멀티 아크 방식의 이온 플레이팅 장치 에서는 드롭레트가 일어 나기 쉽다 이 방식은 증발원을 마이너스, 진공
    리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.01.29
  • [공학]전자재료
    puttering), 이온플레이팅(ion plating), 이온주입(ion implantation), 이온빔믹싱(ion beam mixing) 등으로 대별할 수 있다. 최근에 이온이 갖 ... 화하는 아크방전법 등이 있다.3) 이온플레이팅의 특징① 피막과 기판과의 밀착성 및 피막의 치밀성이 양호하다.②TiN, TiC, CrN, CrC, Al2O3, SiO2 등과 같은 특이 ... 한 화합물 피막을 얻을 수 있다.③ 코팅온도가 낮으므로 기판을 변형시키지 않는다.4) 문제점과 개선방안이온플레이팅은 많은 특징을 갖고 있지만 개발된 기간이 비교적 짧기 때문에 아직
    리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.10 | 수정일 2024.01.14
  • 플라즈마의 성질과 응용
    은 Ti의 반응성 이온 플레이팅이나 스퍼터링, PECVD 방법등을 통해 건식법으로 만들 수 있다. 또한 고분자의 표면을 질소나 산소 플라즈마 등으로 처리하면 고분자의 표면에 치수 ... 며, 이를 이용하며 플라즈마를 초고온, 고압의 상태로 압축 하거나, Hyper Velocity로 가속시키는데 이용할 수 있다.2. 플라즈마의 열적 성질플라즈마는 내부에 전자나 이온 ... 화학 반응, 이온이나 전자가 반응에 참가하는 Charged Particle Assisted Chemical Reaction을 통해 보통의 방법으로는 얻을 수 없는 반응이나 공정방법
    리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.10
  • [공학]Chemical Method에 의한 박막증착 중 Electroplating(전기도금) 을 이용한 박막증착
    다. 그서 유기도장을 한다. 용선식·분말식·플라스마식의 용사기가 사용되고 있다.(5) 물리증착-물리증착에 속하는 것에는 진공증착·스패터링·이온플레이팅 등이 있다. 진공증착은 고진공 속 ... 한 아르곤이온을 원료물질의 표적에 가속충돌시켜 표적의 물질을 비산(飛散)시킨 후 이 비산입자를 물품표면에 퇴적시켜 도금층을 얻는 방법이다. 이온플레이팅은 진공에 가까운 저압력 아르곤가스 ... 있는 물품표면 위에 석출시킨다. 진공증착과 스패터링에 의해 반도체 소자나 집적회로가 만들어지고, 이온플레이팅에 의해서 강철의 알루미늄도금과 가스터빈 날개의 내열합금도금이 이루어진다
    리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.11.14
  • [물리]스퍼터링에 의한 박막 증착, 예비보고서
    스퍼터 증착이온빔 증착이온 플레이팅고주파 이온 플레이팅활성화 증착아크 이온 플레이팅이온화 크라스터빔 증착이온빔 증착CVD열 CVD상압 CVD감압 CVD유기금속 CVD광 CVD플라즈마 ... 기판에 응집되어 박막이 형성되나, 스퍼터링에서는 글로 방전에 의해 생성한 이온빔을 과녁에 충돌시킬 때 전달된 운동량에 의해 과녁에서 튀어나온 원자가 기판에 도착하여 박막을 형성 ... 하고과 같은 DC 글로 방전 스퍼터링의 경우 음극에는 -500~1000V의 DC 전압()를 걸어 주고 양극은 접지를 시킨다. 음극과 양이온으로 덮인 플라스마 사이에는 어두운 공간
    리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.03
  • 마이크로 표면
    가 활발히 개척되고 있다.또한 공구의 내마모 코팅, 장식용 코팅, 반도체 소자의 제조시 접점에서 확산장벽으로 이용되 는 TiN은 Ti의 반응성 이온 플레이팅이나 스퍼터링
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.06.24
  • Reactive magnetron sputtering을 이용한 ZnO박막증착
    면 다루기가 간편하고 밀착성도 크다. 그러나 진공 증착이나 이온 플레이팅에 비하면 대체적으로 형성 속도가 낮기 때문에 막을 두껍게 제작하는 것은 곤란하다.Figure 2. A ... interstitial site가 존재하여, Zn 원자가 이들 site에 침투하여 interstitial Zn이 된다. 보통 각 이온들은 항상 tetrahedral 등방성이 아니 ... 고, con)효과③ 열 발생④ 표면으로부터 이온 또는 중성입자 반사⑤ 이차전자 및 스퍼터 원자의 방출이렇게 타겟에서 이탈된 원자가 진공 상태에서 기판에 도달하여 박막의 성장물질이 되
    리포트 | 57페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.12.06
  • [박막공학]여러가지 박막 제조 공정
    론 스퍼터 증착 ECR 스퍼터 증착 이온빔 증착 * 이온 플레이팅 고주파 이온 플레이팅 활성화 증착 아크 이온 플레이팅 * 이온화 크러스터빔 증착 * 이온빔 증착분자선 에피탁시 ... 과 플라즈마 개념의 이해 필요플라즈마와 글로우 방전플라즈마: 양전하(gas+)와 음전하(e-)가 같은 수로 이온화된 가스 플라즈마를 생성, 유지하는 것은 글로우 방전임. 글 ... 충돌함. 전압을 증가시키면, 전자는 가스 원자를 더욱 이온화 시킴. 전자는 가스 원자에 충돌함으로써 가스 원자를 이온화 함.가스 원자 이온화 과정플라즈마의 생성 과정
    리포트 | 30페이지 | 3,000원 | 등록일 2005.11.16
  • 열처리에대해
    형성? 플라스틱 기판의 금속코팅③ 이온 플레이팅㉠ 원리? 불활성 기체 분위기에서 기판에 부의 고전압을 걸어 이상방전을 일으키면 서 동시에 증발물질을 증발시키거나 가스를 사용하지 않 ... 속리? 불황성 기체분위기에서 수 κV의 고전극간 전압에 의한 이상 방전으로 불 활성 이온이 Target에 충돌하여 Target 물질을 진공중으로 때려 내어 기 판에 응고시킴㉡ 특징 ... ? 장점ⓐ 낮은 온도에서 고융점 물질의 박막화 가능ⓑ 증착 온도범위가 넓어 응용분야가 광범위? 단점ⓐ 코팅의 밀착 강도가 화학증착법이나 이온 프레이팅보다 상대적으로 취약ⓑ 막
    리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.30
  • 마그네슘 코팅
    으로 하여, 금속과 산화물, 등을 가스화 혹은 이온화해 물건 표면에 증착 시키는 것으로. 진공 증착과 스팩터링, ion 플레이팅, ion질화, ion 주입등 여러가지 방법이있고 장식 ... 같은 환원제가 금속이온이 금속분자로 환원되도록 전자를 공급하는데, 이 반응은 촉매표면에서 일어난다. 가장 상용화된 도금제는 구리, 니켈-인 ·니켈-보론 합금이 있다. 전기도금에 비 ... 콜로이드에 포함되어 Pd를 보호하고 있는 Sn(Tin)을 제거하고 에폭시 표면에 Pd Metal이 석출이 되게 만듭니다.라) 무전해 화학도금구리이온, EDTA, NaOH
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.01
  • 전기변색소자물질합성및색변화관찰(예비)
    다. 습식방법은 웨트프로세스인 전기도금법과 무전해도금(화학도금)법이 있다. 건식방법은 드라이프로세스로 진행되는 진공증착, 스패터링, 이온플레이팅 3종류가 있다. 전기도금은 직류전류 ... 성의 향상을 도모하고 있다.◆ 여기서 직류전류를 사용해야 하는 이유전기도금의 원리를 쉽게 설명하자면 용액속에 녹아있는 금속이온 (아연도금을 예로 들자면Zn2+)에 전자를 공급하여 금속상태 ... 을 넣고 두 개의 전극에 전위차를 주면 외부 회로를 따라 전자에 의한 전류가 흐르고 전해질 속에서는 이온에 의한 전류가 흐르게 된다. 전류가 연속적으로 흐르기 위해서는 전극과 전해질
    리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.07.28
  • PACVD
    되는 유속에 의해 지배되는 증착법 이라고 풀이하였다. 이온플레이팅도 스퍼터링과 비슷하게 플라즈마를 사용한 증착공정이지만 스퍼터링과는 달리 보통 증착하고자 하는 물질을 증발법으로 기상 ... discharge를 이용하는 물리증착과정의 총칭이라 할 수 있다. Mattox는 이것을 ion-plating 이라 명명하고, 증착전이나 증착과정중에 고에너지의 이온으로 형성 ... 화한 뒤 reactive gas나 불활성 기체들과 함께 이온화하여 음의 전압이 가해진 기판으로 가속하므로 기판의 표면이나 코팅 막은 생성된 이온들과 이온화 과정 중에 생성된 높
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.04
  • e-beam 증착법
    법(2극 직류 또는 고주파), 반응성 스퍼터링, 이온 플레이팅법 등이 있고, 플라스틱 표면에의 피막 등에 사용되고 있다.(1) 증발방식증착 물질의 증발 방식에는 저항 가열, 전자빔 ... 가열, 이온빔 가열, 레이저 가열, 고주파 유도 가열 등이 있으며, 앞의 2개의 방식이 주로 잘 사용되고 있다.○저항 가열 ○저항 가열에 사용되는 가열체 재료는 증착 물질의 증발
    리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.29
  • [공학] 전자 제품의 증착부품 설계시 고려사항
    . Physical Vapor Deposition)(1) 이온 플레이팅(lon Plating)1) 원리 : 진공 용기내에서 금속을 증발시키고 기판(모재)에 음극을 걸어 주어 글로우방전이 ... 증착1. 개 요가스반응 및 이온등을 이용하여 탄화물, 질화물 등을 기관(Substrate)에 피복하여간단한 방법으로 표면 경화 층을 얻을 수 있는 것으로써, 가스반응을 이용한 C ... .V.D와진공중에서 증착하거나 이온을 이용하는 P.V.D로 대별되며 공구등의 코팅에 이용된다.2. C.V.D(화학증착법. Chemical Vapor Deposition)(1) 원
    리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.05.15
  • [자성재료]영구자석과 희토류자석의 특성과 응용
    ProblemSolutionCoating in the low temperatureION PLATING아크 이온 플레이팅(arc ion plating : AIP) 원 리 증발된 Ni 원자 ... ) Process Application of rare earth magnet Future plan ReferenceFUTURE PLAN온도계수가 크다내식성 떨어짐Ni을 이온화 시켜 증착 ... 들이 방전에 의해 형성된 플라스마 속에서 이온화되며, 모재에 걸린 전기장(음극)에 의해 가속되어 시료인 모재에 증착된다. 장 점 우수한 밀착성 표면 형상도 우수 색상- 은백색
    리포트 | 28페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.17
  • Electroplating
    처리가 어렵다.(3) 진공도금용기 내를 진공으로 하여, 금속과 산화물, 등을 가스화 혹은 이온화해 물건 표면에 증착 시키는 것으로. 진공 증착과 스팩터링, ion 플레이팅, ion ... 이다. 많은 물질이 공기 중에서는 실온일지라고 서서히 산화된다. 산화반응은 일반적으로 큰 발열이 수반되는 발열반응이다.2) 환원(reduction)의 정의원자,분자,이온 등이 전자 ... 은 일반적으로 전자를 버리려고 하는 경향이 비금속에 비해 크다. 금속이 전자를 잃고 양이온이 되려는 경향을 이온화 경향이라 하고, 이것을 상대적 세기의 순으로 나열한 것을 이온
    리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.27
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2025년 10월 10일 금요일
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