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"저온플라즈마" 검색결과 701-720 / 1,024건

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  • No.61 탄소강의 열처리에 따른 미세조직변화와 강도 변화
    ), 염욕침탄(Salt Bath Carburizing), 가스침탄(GasCarburizing), 플라즈마침탄(Plasma Carburizing), 진공침탄(VaccumCarbur ... 은 내마모성을 위하여 150∼200℃의 저온템퍼링을 행한다.(2) 기계구조용 합금강기계구조용합금강의 탄화물은 M3C형의 複合탄화물이므로 오스테나이트에 고용하기쉽다. 여기서 M은 금속 ... 처리가 행하여지고 있다. 그러나 SCr계와 같이 템퍼링연화저항성이 작은 강종은 약간 낮은 온도에서 템퍼링한다. 침탄용강은 역시 150∼200℃의저온템퍼링을 행한다. 일반적으로 저온
    리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.12.24
  • MEMS 사례발표(DLP)
    의 mask에 SiO2를 플라즈마로 증착하는 plasma-etched를 이용하여 가공된다. 이후의 포장공정에서, 희생된 layer는 plasma-ashed 로 air gap을 형성 ... (Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), 유기 EL(Organic Electro Luminescent Display), VFD ... , TV,캠코더 뷰파인더 등고온 다결정 실리콘(HTPS) TFT-LCD저온 다결정 실리콘(LTPS) TFT-LCD다결정 실리콘(x-Si)MIM(Metal-Insulator
    리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.07.06
  • [전자재료]CVD란?
    하거나, 복잡한 성분의 화합물 반도체 제작, 텅스텐 이미터 소자의 제작등이 응용 되고 있다.최근에는 전기 방전에 의해 형성된 플라즈마를 이용한 저온도 증착법인 플라즈마 화학기상증착 방법과 같
    리포트 | 1페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.01.08
  • 절삭가공 정리
    을 무르게 함PVD 코팅 - 모든 표면에 고르게 증착되지 않고 방향성을 가짐 : 절인의 날카로운 상태 유지 가능Plasma CVD 코팅 - 비교적 저온에서 증착 가능- CVD(화학 ... 이 저하된다.2. 코팅 방법은 아래와 같이 구분할 수 있으며, 보통은 500℃ 이하의 저온에서 가능한 PVD 코팅이 주로 사용된다.CVD 코팅 - 고온으로 인해 열처리된 고속도강 ... 절삭 특성이 우수하고, 크레이터 마모에 강함 연속형 칩이 발생하는 강재,합금 주철 등에 주로 사용2. K 계열: 저온 강도가 강하고 여유면 마모에 강함 고온에 약한 단점 불연속형칩
    리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.17 | 수정일 2015.11.03
  • ion plating (이온도금)
    1. Ion Plating(이온 도금)의 정의증발된 입자가 플라즈마 속을 통과하면서 이온화하고 스퍼터와 같은 고에너지를 가지고 도금이 되므로, 도금속도도 크고, 밀착도 좋 ... 은 피막을 석출시키고자 할 경우에 많이 이용된다.이온 도금 ⇒ 직류 이온화, 고주파 이온화, 복합법; 증발된 입자가 플라즈마 속을 통과하면서 이온화하고 스파터와 같은 고에너지를 가지 ... )내에 아르곤 등의 가스를 주입하여 약 10 torr의 고진공 상태에서 플라즈마를 일으켜, 증착물질과 가스를 이온화하여 증착될 물체에 높은 에너지를 가지고 증착하게 하는 일종
    리포트 | 20페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.06.09
  • 초전도 재료
    전자 플라즈마를 일정한 공간 내 가두기 위해 강자계 필요Company Logo Josephson 효과 1 직류 Josephson 효과 2 교류 Josephson 효과Company ... 하고 해명Company Logo 고온 초전도체 • 저온 초전도 - 극히 낮은 임계온도 (max 23K – Nb3Ge) - 냉매로서 액체헬륨이 필요 헬륨은 고가로서 자원이 한정 ( 액체
    리포트 | 23페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.02.15
  • 금속의 열처리
    O31000℃피막온도CVD고온CVD저온CVD광CVD플라즈마CVD열CVDCVD( Chemical Vapor Depositon) : 반응성 가스 간에 화학반응을 일으켜 생성 되는 고체 ... ~600200~600300~600처리 온도(℃)염욕 중의 열화학 반응열화학 반응열화학 반응열화학 반응플라즈마 반응플라즈마 반응처리 방법※범례 ; ◎ : 탁월 ○ : 우수 △ : 보통Vw}
    리포트 | 50페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.10.29
  • 흡착실험결과
    AdsorptionResult◎ 결과1) 유도 결합 플라즈마 (ICP : Inductively Coupled Plasma)① 개 요ICP는 아르곤가스를 플라스마 가스로 사용 ... 도가 가장 높은 영역은 중심축보다 약간 바깥쪽(2~4㎜)에 위치한다. 이와 같은 ICP 의 구조는 중심에 저온, 저전자 밀도의 영역이 형성되어 도너츠 형태로 되는데 이 도 너츠 ... 성이 보고된 이AdsorptionResult래 이 분야는 원자 분석에서 가장 중요한 자리를 차지하게 되었다.ICP(Inductively Coupled Plasma)란 고주파 유도
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.08
  • [재료과학]전기도금실험(도금의 종류)
    된다.[2]건식도금①PVD- 진공 증착 ⇒ 저항가열, 유도가열, 전자빔 가열, 플라즈마빔 가열; 증발되는 가스가 많으므로 도금속도는 크나, 증발입자가 가자고 있는 에너지가 열에너지뿐이어 ... 이 튀어 나오는 원리 이용, 시간이 오래 걸림, 반도체 생산시 주로 이용. (직류, 고주파, 반응성 법); 각 입자가 열에너지와 플라즈마에 의해 이온화가 된 가스가 음극에 이끌리 ... , 스퍼터 입자의 수가 적으므로, 도금속도가 느리다.- 이온 도금 ⇒ 직류 이온화, 고주파 이온화, 복합법; 증발된 입자가 플라즈마 속을 통과하면서 이온화하고 스파터와 같은 고에너지
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.07
  • 이온 플레팅_ION PLATING
    입자를 이온화시키는 것은 일단 아르곤 가스등을 플라즈마 화 시키고, 이 플라즈마 층을증발입자가 통과하는 동안 전자에 얻어맞고+이온으로 되어 음극에 이끌려 충돌하게 된다.위의 그림 ... 대전류의 열전자를 달리게 해 금속 및 도입가스의 플라즈마 영역을 형성시켜 더욱 위쪽의 기판에 화합물을 증착시키는 것이다. Ti를 용융하고 N₂가스를 도입하면 기판상에 TiN피막 ... 을 생성할 수가 있다.그림2는 저전압 대전류형 전자총을 이용함으로서 금속을 용해 증발시킴과 동시에 플라즈마 영역을 강력하게 형성시키려고 하는 것이다. 더욱이 기판을 플라즈마 영역
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.24
  • [화학공학]화학공학의 유망 분야- 수소 에너지
    등)을 대체하는 데는 한계가 있음.⑸수소의 제조기술 개발 내용?물로부터수소제조◆전기분해◆저온열분해◆광촉매◆바이오?화석연료로부처수소제조◆수증기개질◆플라즈마개질◆고온열분해?수소정제제조 ... 로부터 수소제조(세계적으로 연구단계임전기분해(SPE, 태양광, 풍력 등 대체전원이용 등)저온열분해(산화물, ,유황화합물, 염화물, 불화물, 요드화물등)광 촉 매(금속산화물 ... , 페롭스카으트, 제올라이트 등)바 이 오(광합성 직·간접, 협기발효, 과합성 발효 등)화석연료로부터 수소제조수증기개질(상용화 되어 있음)플라즈마 개질(반응기, 플랜트 건설) → 미국 상용
    리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.14
  • [반도체공학]플라즈마
    를 공급해줌으로써 가능해졌다.4. 플라즈마의 application- 플라즈마는 수만도 정도의 온도와 109 ~ 1010 /㎤의 밀도를 갖는 저온 글로우 방전 플라즈마와 수천만도 이상 ... 의 온도와 1013 ~ 1014 /㎤ 의 밀도를 갖는 초고온 핵융합 플라즈마로 크게 구별할 수 있다. 이중 공업적으로 이용이 활발한 플라즈마저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 ... 공정에서 플라즈마 식각(plasma etch) 및 증착 (PECVD : Plasma Enhanceed Chemical Vapor Deposition), 금속이나 고분자의 표면 처리
    리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.23
  • [우유][낙농][우유의 역사][우유의 효소와 호르몬][우유의 장점][유당불내증(Lactose Intolerance)][유제품]우유의 역사, 우유의 효소와 호르몬, 우유의 장점, 유당불내증(Lactose Intolerance), 유제품 분석(우유)
    이용되고 있다.5) Lipase지방을 분해하여 glycerol과 지방산으로 가수분해하는 효소를 말한다. 이 효소를 2종으로 분류하였는데 membrane lipase와 plasma ... lipase 이다. 일반적으로 우유의 lipase라고 할 경우는 plasma lipase를 말한다. 우유에 lipaserk 작용하면 지방이 분해되어 유리지방산이 생겨서 우유에 지방 ... 에 따라 치즈의 품질이 결정 되는 것이므로 세균 오염수준이 적은 고품질 원유를 사용해야 한다. 원유는 일단 살균과정을 거치게 되며, 보통 고온살균(72~75℃, 15초)을 하거나 저온
    리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2009.02.20
  • Gas 절단, Plasma 절단이란
    절단기(3.3) 산소창3. 프라즈마(Plasma) 절단3.1 개요일반적으로 물질은 저온에서는 고체이고, 온도가 상승함에 따라 액체, 기체로 변해간다. 여기서 더 한층 온도가 상승 ... 을 이용한 산소가스 절단, 프라즈마(Plasma) 절단 등이 있다. 본 장에서는 일반적으로 가장 많이 사용되고 있는 가스절단과 프라즈마 절단에 대하여 주로 기술 한다.2. 가스(Gas ... 하게 되면 기체원자는 격렬한 열운동으로 이온과 전자로 분리되며 이 기체는 전도성을 띠게 된다. 이와 같이 이온과 전자가 혼합되어 전도성을 띤 가스를 프라즈마(Plasma)라 한다
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.03.04
  • 플라즈마를 이용한 표면경화
    플라즈마를 이용한 표면경화 ◆일반적인 금속재료의 표면경화 처리법은 표면에 경질의 물질을 피복하는 코팅법과, 침탄법이나 질화법과같이 금속표면으로부터 다른 원소를 확산침투 ... 시켜 재료표면 그 자체를 경화시키는 확산침투법으로(PDT) 대별할 수 있다.Plasma Diffusion Treatment(PDT)란 plasma의 높은 에너지를 이용하여 C, N, B등 ... 의 원소를 금속이나 강의 표면에 확산.침투시켜 내마모, 내식성등을 부여하는 강의 표면경화 처리 수단으로서 thermochemical treatment라 부르기도 한다.1. 플라즈마
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.21
  • [공학]기초 반도체 공정
    석영이 음극표적재료로 사용 plasma deposition 250 ℃ T 600 ℃ : SiH4 ~400 ℃ SiO2 for passivation doped SiO2 by B2H6 ... and applications◇ Ion Implant의 특징 불순물 주입량 조절 분포모양 조절 측면 퍼짐 감소 저온공정 균일성 간편한 불순물 공급원 . . . ◎ 불순물 주입량 조절 ... plasma can be produced from a gas if enough energy is added to cause the electrically neutral atoms of
    리포트 | 161페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.30
  • [유통전략론] 소매업체의 날씨 마케팅 보고서
    의 안정, 낙천적이고 적극적인 성향, 소비욕구 활성화극단적 고온불쾌지수 상승, 소비심리 위축, 소비자 불만 상승극단적 저온행동의 제약, 소비심리 위축3. 일기 변화에 따른 상품의 매출 ... 다고 한다. 이어 황사기간 동안 특집 방송을 계속해서 편성했다고 한다.LG e-shop도 ‘황사를 이기고 환절기를 건강하게’라는 기획매장을 마련해 샤프 플라즈마 공기청정기(59만8000
    리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.03.07
  • [반도체]탄소나노튜브(carbon nano tube)에 대한 발표 ppt 자료
    법에 비해 고수율, 고품질의 단일벽 탄소나노튜브의 합성이 가능...PAGE:8제 조 방 법플라즈마 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor ... Deposition)- 플라즈마 CVD는 열 CVD에 비해서 저온에서 탄소나노튜브를 합성시킬 수 있는 장점을 가짐.- 양 전극에 인가되는 고주파 전원에 의하여 챔버 또는 반응로 내에 글
    리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.08.25
  • 반도체, 진공펌프, TFT
    더 있으니, '제 4의 물질상태'라 일컬어지는 플라즈마(Plasma)이다.플라즈마는 기체의 특별한 상태로 볼 수도 있으므로 네 가지의 물질 상태 중에서 가장 적을 것이라고 생각 ... 에는 차세대 고선명 텔레비전에서 요구되는 대화면(50인치) 평판 표시장치의 하나인 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel)에 대한 연구가 수해오디고 있고, 장기 ... 를 외부로부터 반응실로 주입하여 이루어지기 때문에, CVD는 다른 반도체 공정과는 구별된다. 인입된 반응가스를 분해하는 데는 열, RF 전력에 의한 플라즈마 에너지, 레이져 또는
    리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.04.01
  • 스템플러
    은 내 피로성, 강인성, 내마모성 등 다른 재료에서는 볼 수 없는 우 수한 특징을 지니고 있으며 금속을 대신하는 플라스틱- 기계적 특성 : 고온이나 저온에서 우수한 stress와 s ... 의 절단(material control)- 프라즈마 커팅(Plasma Cutting), 워터 제트(Water Jet Cutting)▶ 관재, 봉재, 압출물의 절단 ... 방법- 열처리후의 경도 : 소입경도 (HRC 63 이상 HV700): 저온TEMPERING (200℃ 이하온도) 후 (HRC 58~63): TEMPERING온도가 올라감에 따라 경도.
    리포트 | 38페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.09.12
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2025년 05월 20일 화요일
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