"반도체세척과정"의 검색결과 입니다.

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photolithography ito patterning afm 반도체 ITO Scribing 반도체 공정 반도체공정 실험 리소그래피

"반도체세척과정" 검색결과 521-540 / 665건

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특수가공

적 형상다. 이온화 과정에서 탈락된 금속성분은 중성의 금속수산화물을 형성하며 이는 전해질 순환과정에서 필터를 통하여 정제된다. 전해용액에 접촉된 표면에는 얇은 막이 형성되고 표면거칠기 ... 적으로 매끄러운 표면을 유지하므로 불순물의 흡착을 억제 시키며 변색과 세척시 시간을 감소시킬 수 있으며 또한 함유물을 제거하여 변색과 부식에 대하여 저항성을 갖게 한다. EP 공정은 특히 수 ... ㎛ 을 얻는 Polishing 공정 B.A“ 와 Extrude hone 작업 후에 더욱 효과를 얻을 수 있으며 위의 장점으로는 부가가치가 있는 반도체 부품, 위생관, 의료기 등

리포트 | 33페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.05

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[공학]Sputtering을 이용한 시간에 따른 ITO 증착의 특성

, 초음파 세척기, 질소건, 밀착 테이프, 가위관련이론1. PVD(물리적 기상도금)1) 원리 : 금속 또는 금속간 화합물을 증발하여 substrate에 응축 하여 피막 형성2) 용도 ... 의 방출로서 이우 어지는 증착과정2) Ion이 물질의 원자간 결합 에너지보다 큰 운동에너지로 충돌할 경우 이 Ion의 충격에 의해 물질의 격자 간 에너지가 다른 위치 로 밀리게 되 ... 의 증착과정에서 원하는 조성을 얻기 힘들다.4) Organic Material은 Ion Bombardment에 의한 손상을 입기 쉬 우므로 효과적인 Sputtering에 이용될 수 없

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.18

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마그네슘 코팅

목 차1장. 마그네슘 ---------------------- 22장. 도금의 기초 ------------------- 3도금의 단위도금의 과정3장. 도금의 종류 -------- ... , 기능의 분야에서 활용되고 있다. 특히 반도체 제조에 불가결의 기술이다.(장점) 대부분의 금속 소재, 비금속 소재도 처리 가능하고, 장식성이 뛰어난 초 경질피막을 얻을 수 있 ... 다.가) Cleaner / Conditioner에폭시 표면의 기름때라든지 지저분한 물질을 세척화 하고 기판 표면을 "+"상태로 활성화 시켜줍니다. conditioner 시킬 때 계면

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.01

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나노테크놀로지

는 나노 입자를 이용하여, 대기 중의 오염 입자를 제거하기 위한 매개체로 자동 세척 페인트를 개발하였다. 호흡 장애를 유발할 수 있고, 스모그의 원인이 되는 산화질소의 비율을 낮추 ... 은 쉽게 시들고 건물의 벽은 금방 오염되고 금이 간다. 이러한 현상들을 해결하기 위한 해결책으로, 과학자들은 자가 세척 작용, 자가 오염 제거의 특성을 가진 혁신적인 재료를 개발 ... 을 증대시킬 과학 기술 영역이라고 할 수 있다.최근에는 ‘21세기 꿈의 반도체’라 불리는 바이오 칩 기술 분야에 기업들이 앞 다투어 투자하고 있으며, 특히, DNA 칩은 손톱크기

리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.18

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[공업화학실험]무기촉매제조 -광촉매

합성 작용이 엽록서를 촉매로 산소를 발생시켜 숲의 정화작용을 하듯이 광촉매[PHOTOCATALYS]는 말 그대로 촉매작용이 빛에너지를 받아 일어나는 것을 말한다. . 즉, 반도체 ... 은 강우나 물에 의해 쉽게 세척되게 하는 자정성(SELF-CLEANING)을 갖는다.이러한 TIO2광촉매는 태양에너지 또는 형광빛에 의해서도 반응이 일어나며, 「물체에의 정착 광분해 ... 하여 반응에 참여할 수 있게 된다. 그리고 이 경우 전자의 이동으로 인해 전기장(Electric Field)이 형성되고, 이에 따라 반도체내의 표면부분에서는 전자대(Electron

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.12.28

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삼투압에 따른 적혈구 변형 관찰 및 혈액형검사

하는 해수담수화 나 반도체 세척용이나 화학약품 제조공정 등에 사용되는 초순수제조용으로 많이 사용되 었으며, 요즘에는 정수기의 필터로도 많이 사용된다.※ 해수를 식수로 사용하는 원리 - 역 ... 과정과 Pappenheimer body가 존재한다. 때때로 소수 세포에 혈색소처럼 염색되는 봉입체가 존재한다. 이것은 과다한 α-chain의 침전물이다. 유핵적혈구도 존재한다. 순환

리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.03.29

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인간생존과 환경교육 문제에 관한 소고, 환경교육과 인간생존

도 없고 동성도 없으며 불에 타지도 않고 화학적으로 매우 안정한 물질로서 냉장고, 에어컨 등의 냉매, 드라이클리닝 용제, 반도체나 정밀부품 세척제, 스프레이와 같은 분사제 등에 이용 ... 으로부터 인간 생활에 쓸모 있는 자원을 보다 효율적으로 생산할 수 있는 능력, 곧 생산성을 높이는 과정이다. 산업화의 길은 일반적으로 농업에서 제조업으로, 제조업 중에서도 경공업보다는 중 ... 하고 운영하는 과정에서 자원이 고갈되고, 환경이 파괴되고 오염된다.특히, 우리나라의 산업은 에너지를 많이 사용하고 오염 물질을 많이 배출하는 중화학 공업을 중심으로 하고 있다. 따라서

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.04

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현대푸드시스템.ppt

) ▶운영현황 ① 산업체현대자동차(전공장), 기아자동차(전공장), 현대모비스, 현대중공업, 현대삼호중공업 현대제철(인천,포항,당진), BNG스틸(창원), 하이닉스반도체, 한국야쿠르트 ... →커팅→소분→금속탐지→BOX포장→급냉→냉동보관⇨배송▶사후 관리야채 가공입고/검수→탈피→다듬기→보관→세척→커팅→소분포장→출하대기고 보관▶▶▶▶야채 가공센터(138.6평) 양파탈피 ... ↓ 현장개선 단계 ↓ 실천력향상 단계사례분석을 통한 관리 -자주위생 관리구축특수관리영업팀장/스텝영업팀 관리자의 역할 소집단, 전사운동 실시부진점 특별관리위생마인드 향상과정 중점관리

리포트 | 44페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.10.15

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국제환경문제

규제나 환경정책이 다른 나라에 영향을 미침으로써 발생하는 국제환경문제이다.Ⅳ. 지구차원의 주요 환경문제1. 오존층의 파괴1930년대부터 에어콘 및 냉장고의 냉매, 반도체 등 전자제품 ... 의 세척제로 사용하기 시작한 프레온가스와 소화제로 사용된 할론은 대기에 방출되어 유해 자외선을 흡수하는 오존층을 파괴하게 되었었다. 특히, 1980년 후반의 관찰에 의하면 남극지역 ... 이나 법률을 입안하는 과정에 직접 참여하기보다는 지구적 차원의 행동을 필요로 하는 문제를 의제화시키고 이러한 의제의 논의를 간접적으로 지원하는 역할을 담당한다.1) 국제 연합 환경 계획

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.21

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[공학기술]S.E.M (주사전자현미경) 의 대하여.. (사진많아요^^)

이나 구성원소의 분포, 정성, 정량등의 분석을 행하는 장치이다.금속등의 도체, IC, 산화물등의 반도체, 고분자재료나 세라믹등의 절연물의 고체, 분말, 박막시료가 될수 있다. 주로 2차 ... 를 얻을수 있다. [용도]금속, 광물, 무기물, 세라믹, 시멘트, 유리, 프라스틱, 고무, 석유, 도료, 의생물, 반도체 IC, 집적회로,전자부품등의 형태관찰, 혹은 품질관리에 2차 ... 되어 충분히 진공을 뽑게 된다. 이 모든 과정 즉 밸브를 여닫는 일련의 과정은 경통 또는폄프에 장착된 진공 게이지 (Vacuum Guage)에 의해 자동적으로 이루어 진다.?전자 광학계

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.07.09

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lithography

막 및 표면간의 접착도를 향상 시키기 위한 열처리 및 화학약품처리 Di water는 세척과 공정 전반에 사용Clean wafersCoat with photoresistHMDS ... 를 통해 자외선 영역의 빛을 조사함으로서 mask상에 형성된 미세회로 형상(pattern)을 coating된 PR에 전사하는 과정 마스크에 들어있는 패턴을 감광막 위에 전사시키는 공정 ... 으로 마스크를 웨이퍼 위에 정렬시킨 후 자외선을 사용하여 Pattern이 define 되도록 마스크를 통해 노출 시키는 것.Develop photoresist현상? 노광 과정을 통해

리포트 | 39페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.01.18

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전기전도도법

전기전도도법1. 분석법의 기본 이론전기전도도는 전자의 흐름(ex 금속)이나 하전을 띤 물질종의 운동(ex 전해질 또는 반도체)으로 설명할 수 있다. 전해질의 전도도에는 음이온 ... 의 양극으로의 이동과 양이온의 음극으로의 이동이 포함되며, 이때 전자는 전극표면에서 이온으로, 또는 이온에서 전극표면으로 이동되므로 전류가 흐르게 된다. 고체 반도체에서는 격자그물 내 ... . 가장 흔한 형태는 면적이 1㎠인 백금전극이며, 표면에 고체가 쌓이지 않도록 수직으로 세운다. 전극표면에 처리는 매우 중요하다.전극은 산성세척용액으로 깨끗이 씻어야 하며, 증류수

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.01.21

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[A+레포트][화학공학기초실험]양이온 교환_결과레포트

들로 이루어져 있다.바닷물중의 소금을 제거하여 해수담수화나 반도체 세척용이나 화학약품제조공정등에 사용하는 초순수제조용으로 많이 사용되며 요즘에는 정수기의 필터로도 사용된다.(2 ... 의 1.5 M HCl 용액으로 처리한다.이 혼합물을 15 - 20 분 간격으로 저어주고, 수지가 가라앉도록 놓아둔 다음 산용액을 따루어 낸다. 이런 과정을 몇차례 되풀이하여 따루어 낸 ... 부피로부터 미지의 NaCl 용액의 농도를 구한다.사진2.4 NaOH를 넣어 붉은색이 되는 지점까지의 과정2.실험 결과 및 토의①NaCl농도 구하기컨디셔닝HCl양 50ml, 미지시료

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.16

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spin coating를 이용한 ZnO박막 증착

0. 서 론Ⅱ-Ⅳ족 산화물 ZnO는 hexagonal wurtzite 결정 구조를 가지며 약 3.3eV의 넓은 광학적 밴드갭을 가지는 반도체 물질이다. ZnO 박막은 아주 강한 ... 과정을 거쳐 박막을 형성 하는 방법으로 물질의 얇은 박막으로 코팅되어진 평면인 물체로 구성된 장치에 많이 사용된다. 여기에 코팅재료로 쓰이는 물질들은 어떠한 용매에 용해가 되 ... 과 같 크게 4가지 과정으로 나누는게 가장 일반적이다. Fluid Dispense, Spin-up, Stable fluid outflow and Evaporation dominated

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.25

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[인간과환경]오존층의 파괴와 대책

, 반도체나 정밀 부품 세척제, 스프레이와 같은 분사제 등에 이용되는 물질이다. 이 중에서 현재 세계적으로 전자부품, 정밀기계 부품의 세정제로서 1,1,1-TCE 또는 CFC-113 ... 되 된다.(ClO + O --> Cl + O2)혼자 남게 된 염소분자는 다시 오존 분자의 산소를 떼어내 위 과정을 되풀이한다. 이런 과정이 되풀이되면서 CFC는 연쇄반응을 일으켜

리포트 | 13페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.10.24

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[정밀화학]저온 플라즈마 처리를 이용한 나노 은이온 코팅

voltag×2.0cm2의 크기로 미리 반듯하게 잘라 깨끗한 용기에 보관한다.② 반응기 설치 및 작동 과정반응기 내부를 깨끗히 에탄올로 세척한 후에 시편 2장을 유리판 중앙에 놓는다.유리판 ... 를 반응기에 연결시키면 모든 준비가 끝나게 된다.③ 시편 세척 과정O2 와 Ar 의 혼합가스를 600(mtorr), 60W, 5분 동안 저온플라즈마 처리를 함으로써 시편표면의 오염 ... 세기에 들어 요구되는 에너지, 신재료, 반도체 소자 제조, 환경분야 등에서 플라즈마의 이용이 점점 더 늘어날 전망으로 있으며, 이에 따라 다양한 플라즈마의 생성 및 제어, 측정 기술

리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.04.25 | 수정일 2021.03.24

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[오존층][오존층파괴]오존층의 생성, 오존층의 역할, 오존층의 고갈, 오존층파괴 실태, 오존층파괴에 따른 대안과 오존층의 파괴를 막기 위한 방안(오존의 고갈, 오존층파괴 실태, 오존층 파괴를 막기 위한 움직임)

오존층을 파괴하는가를 알아보기 위해 먼저 오존(O3)의 생성과정을 보면 보통의 산소(O2)는 태양의 자외선을 쬐면 산소분자(O)로 흩어지고 또다른 O2 와 결합하여 O3 ... 역할을 한다, 그러나 이 과정에 CFC가 작용한다. 성층권의 자외선에 자유롭게 된 CFC의 염소(Cl)는 오존을 공격하여 일산화염소(ClO)와 산소(O2)로 분리시킨다. 이 과정 ... 등의 다양한 연소과정에서 배출된 탄화수소, 일산화탄소 및 질소산화물 등이 광화학적 반응으로 형성된 것이다.고 농도의 오존은 호흡계질환을 야기시키며, 폐기능에 변화를 가져오는 반응

리포트 | 7페이지 | 5,000원 | 등록일 2008.05.26

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진정한 반도체강국으로 탐방계획서

? Silicon Road, 반도체 산업의 실크로드II. 탐방목적 ? 진정한 반도체 강국으로 가는 길을 찾아...III. 반도체 관련 산업의 각 과정과 우리나라의 현수준1) 채취 ... -제련 단계2) EGS(Electronic Grade Silicon) 생산 단계3) 웨이퍼 생산 단계4) 반도체 생산 단계IV. 탐방대상과 목적1) 규암을 제련하는 과정 (노르웨이 ... Elkem)2) EGS 생산하는 과정 (독일 Wacker)3) Wafer 생산과정 ( 독일 Siltronic )4) 반도체 생산과정 ( 독일 Infenion )5) 반도체 제조

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.05

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[소논문]-오존층 피해의 원인과 대처방안

파 전자제품 세척제, 단열재, 포장재, 플라스틱 발포제, 스프레이 등에 널리 쓰이게 되었다. 하지만 CFC 는 대류권 내에서는 매우 안정된 상태로 존재 하고 있지만 성층원에 올라가 ... 0.2탄산가스CO273440000.4메탄CH41116501[표1] 대기 내 오존농도에 영향을 미치는 기체[그림2]CFCs 의 오존층파괴 과정2.3.1 프레온 가스프레온 가스의 특징 ... 반도체 등의 전자부품이나 정밀 기계의 세정제로 이용되어 왔으나 파괴 년수가 평균 70~550년 정도로 매우 안정한 물질로 공기 중에서 분해되지 않는다. 결국 기류 등에 의해 성층권

리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.02.04

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[학부실험] 재료의 산화실험

은 염산(HCL), 과산화수소로서 제거된다. 세척과정 중에 생긴 100Å~200Å 정도의 얇은 산화 막은 10:1 불화수소(HF)로서 제거된다. 그리고 탈이온수(DI water)도 세 ... 하여 시편의 (Δ, Ψ)실험치를 측정한다.㉡ 이론적으로 시편의 (Δ, Ψ)이론치를 계산한다.㉢ 실험치와 이론치를 비교하는 과정에서 원하는 물리량을 추출해 낸다.● 다층박막의 두께 측정 ... 에 응용을 하다보니 그 신뢰도가 응용분야나 사용자의 숙달정도에 따라 매우 다르다(그림참조). 즉, 적절한 성능을 가진 ellipsometer를 이용하여 표준화된 측정과정을 통해

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.23

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