"DC플라즈마"의 검색결과 입니다.

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RIE 스퍼터링 진공증착 pvd magnetron sputtering 플라즈마 원리 evaporator 반도체 공정

"DC플라즈마" 검색결과 461-480 / 536건

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[재료공학] 박막 제조법

플라즈마(plasma)의 기초가 발표되면서 스퍼터링을 일으키는 기체 방전에 대한 조건들을 이해할 수 있게 되었다. 또한 진공 펌프를 포함한 진공 기술의 발전으로 인해 스퍼터링은 널리 ... 는데, 진공증발시 주로 사용하는 방식은 270 도 Bent-Beam Transverse gun 방식(그림2(b))으로 진공실의 공간을 줄일 수 있는 장점이 있다. 플라즈마 전자빔 방식은 불 ... 활성 가스를 채운 원통형 실린더를 음극으로 하여 장비사이에 글로우 방전을 발생시켜 형성된 플라즈마내의 전자를 구멍을 통하여 추출하는 방식으로 Hollow cathode gun 방식

리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.03.27

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[반도체 제조공정] 반도체 제조공정

하는 방법인 반면, 스퍼터링은 플라즈마를 형성한 다른 기체의 운동에너지를 이용해서 도금물질을 기화하는 방법이다.스퍼터링은 진공 중에서 불활성 기체(주로 Ar, Kr, Xe 등)의 글 ... 이 전도체일 경우에는 DC 바이어스를 사용할 수 있지만 부도체인 경우에는 공간전하(Space charge)가 축적되는 것을 막기 위해서 RF(13.56MHz)나 Pulsed DC ... 을 형성한다. 이러한 공정을 반응성 스퍼터링(Reactive sputtering)이라고 한다. DC diode, RF diode, triode, magnetron, modified

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.11

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[직접회로] 생기교육자료 ETCH

..PAGE:1ECDEETCH1. ETCH 장치 ROADMAP2. ETCH 장치 개요2-1 ETCH 장치 MAKER 기술동향2-2 ETCH 장치의 구성요소2-3 PLASMA ... SOURCE3. ETCH 공정 ROADMAP4. ETCH 공정 개요4-1 DRY ETCH / WET ETCH 개요4-2 PLASMA 원리4-3 ETCHING MECHANISM4-4 ... CHAMBERRequirement● LOW DAMAGE● LOW POLYMER● HIGH DENSITY PLASMA● COO 확보● THROUGHPUT● FOOTPRINT● CONTAMINATION FREE

리포트 | 62페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.12.22

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[sputter]sputter 종류와 mechanism

binding energy,: energy loss)□ Sputtering의 종류● DC 스퍼터링 (2극 스퍼터링)DC 스퍼터링은 diode 스퍼터링 또는 cathode 스퍼터링이 ... 라고 하며, 증착 속도는 기체의 압력과 전류 밀도에 의존한다. DC 스퍼터링 시스템의 장치는 기본적으로 아래 그림과 같다.이 장치는 장치와 조작이 간단하다는 장점이 있는 반면 낮 ... (radioacti링을 간단하게 나타낸 회로도이다. 플라즈마의 발생 및 oscillating power source를 사용하므로 부도체 재료를 스퍼터링할 수 있고 낮은 압력에서도 사용 가능

리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.02.26

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디스플레이 시장 기술 변화

-Twisted Nematic)이 있으며 능동 매트릭스 방식에는 TFT(Thin Film Transistor) 등이 있다.2.3. PDPPDP는 Plasma Display ... 에는 방전구조에 따라 AC구동형(간접방전형)과 DC구동형(직접방전형)이 있는데 AC구동형은 메모리기능을 실현할 수 있는 것과 메모리기능을 갖지 않고 리플래시형(논메모리형)의 동작을 하는것 ... 이 있으며 DC구동형은 리플래시방식과 셀프스캔방식이 있다.3. 주요 Technology의 변화Display Performance에 영향을 미치는 주요 Technology를 아래

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.09

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[반도체공정] 스퍼터링

gasSputtering 이론(1)스퍼터링이란? 플라즈마(Plasma)상태에서 이온화된 양이온 가스(Ar+)가 타겟에 강하게 충돌하여 momentum transfer에 의한 타겟물질이 기판위에 증착 ... 되는 원리를 이용한 물리적 증착방법의 하나 스퍼터링 방법 다이오드 DC 스퍼터링 다이오드 RF 스퍼터링 Triode 스퍼터링 Magneteon 스퍼터링스퍼터링의 원리Sputtering ... 을 Magnetron sputter 장비를 이용해서(400V, 350mA) Ar gas(75sccn)를 주입해서 플라즈마 상태에서 Al을 시편에 증착시킴PR ApplicationPR액

리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.22

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PVD & CVD

Deposition(CVD)로 분류될 수 있다. PVD는 CVD에 비해 작업 조건이 깨끗하고, 진공 상태에서 저항열이나 전자beam, laser beam 또는 plasma를 이용하여 고체상태 ... 아,처리물과 마주보는 표적재료 표면(다이오드 상태)에서 무거운 불활성 가스인 아르곤 가스가 글로우 방전에 의해 플라즈마를 형성하고 음극인 표적재료 표면에 아르곤 이온이 충돌하는 이온 ... 을 이용)에 의해 증기상을 반드는 방법으로 어느 재료의 표적재료도 사용할 수 있는 장점이 있으며, 일반적으로 DC방법을 사용하나 비전도성 표적재료인 경우는 AC과정인 RF전위를 이용

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.10.13

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[진공과학] 진공증착

3) 레이저 증발4) 아-크 증발2. 플라즈마 보조 PVD(Plasma Assisted PVD)1) 활성화 반응 증발(Activating Reactie Evaporation)2 ... ) 스퍼터링(Sputtering)① DC 과정가) 다이오드 스퍼터링(Diode Sputtering)나) 삼극 스퍼터링(Triode Sputtering)다) 자기 스퍼터링 ... C다.Plasma CVD : RF Glow Discharge에서 전기 에너지에 의해 반응을 촉진시켜 박막형성을 행하는데, 이 과정에서는 열을 필요로 하지 않으므로 저온화가 가능

리포트 | 11페이지 | 4,000원 | 등록일 2004.11.14 | 수정일 2015.09.25

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[모니터] LCD 모니터에 대하여

의 정어갈 차세대 디스플레이로 각광을 받고 있는 평판표시장치입니다PDP의 종류PDP는 인가전압에 따라 AC구동형과 DC구동형으로 분류합니다.a. AC Plasma Display전극 ... 해야 할 전극 사이에 전압이 높은 펄스 전압을 인가하여 방전시키는 Refresh 방식이 있습니다.b. DC Plasma Display전극이 방전공간에 노출되어 직류전압으로 구동 ... topper막이 있다.② Sputtering 공정 (증착공정)Sputtering은 RF power나 DC power에 의해 형성된 plasma 내의 높은 에너지를 갖고 있는 gas

리포트 | 25페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.06.10

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스퍼터링 증착

의 출, 광자 발생 그리고 화합물 형성이 있을 수 있다. 플라즈마를 유지하는데 가장 중요한 역할을 하는 것은 이차 전자이다. 플라즈마 내에서 이차 전자는 추가적인 이온화를 일으키 ... 고 플라즈마의 광학적 발산의 color, intensity 는 target 재료, gas의 종, 압력, excitation 등의 특징으로, discharge 내의 구성요소들의 존재 ... 는 특성 스펙트럼 파장의 조사로 알 수 있다.3) 스퍼터링 과정타겟(cathode) 쪽에 음전압(dc or rf)이 걸리게 되면 타겟에 걸린 전압과 같은 에너지를 갖는 s

리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.03.26

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[신소재] 카본나노튜브와 플러렌에 대하여

으로 합성할 수 있는 CVD법(chemical vapor deposition)이 크게 부각되고 있다. CVD법은 열 CVD법, DC 플라즈마 CVD법, RF 플라즈마 CVD법, 마이크로 ... 파 플라즈마 CVD법으로 구분할 수 있다. 이러한 CVD방법은 기존의 전기방전법이나 레이저 증착법에서는 불가능한 카본나노튜브의 수직배향합성 가능할 뿐만 아니라 저온합성, 고 순도 ... )의 뒤를 이어서 LCD(liquid crystal display), LED(Light emitting diode), PDP(plasma display panel), FED

리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.09.10

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박막에 대해서 ...

에 있어서 가장 많이 사용되는 스퍼터법으로 2극 스퍼터법과 마그네트론 스퍼터법이 있다.RF 또는, DC 방식의 2극 스퍼터법은 구조가 간단하다는 장점이 있지만, 막 형성 속도가 낮 ... 다. 마그네트론 스퍼터 방식은 타겟표면에 평행한 자계를 인가시킴으로서 음극(타겟)근방의 전자를 가두어 고밀도 플라즈마를 생성시키는 방식이다.따라서, 고속으로 막증착이 가능하고, 2

리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.04.22

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[박막증착]박막증착

(Evaporation)SputteringDC, RF, DC Magnetron, RF Magnetron,Bias, ReactiveIon Plating◎ 무전해 도금전기를 사용하지 않고 화학반응 ... 면, 브라운관의 경우 왼쪽에서 오른쪽, 위에서 아래로 전자 빔을 주사하여 화상을 그려내지만, 플라즈마는 전면이 동시에 발광한다. 1초 동안에 60회, 위에서 아래로 화상의 고쳐쓰기 ... 발생계수의 특성을 가져 방전 플라즈마의 구동 및 유지전압을 낮춰주는 역할을 한다. PDP의 상판과 하판사이는 방전기체가 300~400 Torr 정도로 채워진다. 방전기체는 주로

리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.04.20

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[공학기술]우리나라 위성통신 종류와 서비스

를 조사하는데도 유용한 자료로 활용될 것이다. 이온층 측정시스템과 고에너지 입자검출기를 탑재하여 지구 이온층의 플라즈마 분포와 우주 공간의 방사선 입자와 같은 우주 환경에 대한 연구 ... .* 발사무게(위성체 무게) : 약 1460kg(652kg)* DC 전력 : 1.6kW* 위성수명 : 10년* 중계기 수 : 통신용(Ku-벤드) 12기(36 MHz), 방송용(Ku ... 위성 보유국 대열 합류.)* 위성수명 : 10년* 발사무게 : 약 1460kg(652kg)* DC전력 : 약1.6kW* 중계기 수 : 통신용(Ku-벤드) 12기(36 MHz), 방송

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.07.10

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[공학]탄소나노튜브의 합성과 응용 (Synthesis and Applications of Carbon Nanotubes)

으로 주입되면 열이나 플라즈마 등으로부터 에너지를 받게 되어 분해되는데, 이 때 원하는 물질이 기판 위에 도달하여 막을 형성하는 기술이다. CVD법을 이용하여 CNT를 성장하기 위 ... 다. 흑연 crucible의 온도는 보통 약 600℃이며 Ar분위기이다. DC전류를 3-20A, 20V 미만에서 인가하면 직경이 2-10nm, 길이가 0.5μm 이상의 MWNT

리포트 | 24페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.06.04 | 수정일 2019.10.23

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[응용화학] 나노테크놀러지

이 0.34 nm인 균일한 단중벽 탄소나노튜브를 얻을 수 있다. 이렇게 합성된 단중벽 나노튜브들은 대부분 다발의 형태로 나타난다.4-3. 플라즈마 화학기상증착법(Plasma ... 다. 플라즈마 방식은 두 전극 사이에 인가되는 직류 또는 고주파 전계에 의하여 반응가스를 글로우 방전시키는 방법이다. 일반적으로 플라즈마 CVD에서 반응가스 방전에 사용하는 전원은 DC ... Enhanced Chemical Vapor Deposition)플라즈마 CVD의 장점은 전기방전법이나 레이저증착법에 비해서 비교적 저온에서 탄소나노튜브를 합성할 수 있는 장점이 있

리포트 | 10페이지 | 10,000원 | 등록일 2004.10.31 | 수정일 2024.09.10

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탄소나노튜브

결합되어 다발(bundle) 형태를 이루고 있는 것을 보여주는 TEM 사진이다.{2)플라즈마 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor ... 합성에는 CH4, C2H2, H2 등이 반응가스로 사용된다.Ren 그룹에서 C2H2 가스와 NH3 가스를 혼합가스로 사용해서 660 이하의 온도에서 유리기판위에 DC 플라즈마방법 ... Deposition)플라즈마 CVD의 장점은 전기방전법이나 레이저증착법에 비해서 비교적 저온에서 탄소나노튜브를 합성할 수 있는 장점이 있다. 플라즈마 방식은 두 전극 사이에 인가되는 직류 또는 고

리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.03.09

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[Display]Display 현재 기술 및 향후 전망

비중증대, 부품의 공급 부족 심화 등으로Cost 절감과 Time-to-Market실현을 위해 부품소싱 능력이 중요한 사업 성공요인으로 부각2. PDP(Plasma Display ... 가 DP에서는 구성부품, 재료에 약간의 차이가 있다. PDP는 AC형, DC형 모두 2장의 유리 기판에 다양한 층을 만들어 넣어 접합하고, 안에 가스를 봉입한 구조를 하고 있다. 보 ... 다.2)DC형 PDP의 구조그림 DC형 PDP의 구조전면 기판에는 전자를 방출시키기 위한 음극이 형성되어 있다. 후면 기판에 는 전면 기판의 음극과 반대로 방전을 일으키기 위한

리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.12.11

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용접의 종류와 특징

(5)플라즈마 아크 용접법(2) electro gas welding (6)Laser beam welding(3) 전자 beam 용접 (7)Thermit Welding(4)초음파 ... 는 원 사용 → 교류용접 → 양극, 음극이 교대로 변환 → 극성 무관- 직류 용접과 극성-> 정극성 (Dc Straight Polarity : D(SP) : 용접봉(-), 모재 ( ... +)-> 역극성 (Dc Reverse Polarity : D(RP) : 용접봉(+), 모재 (-)→ 보통 전자의 충격을 받은 양극쪽이 음극보다 발열이 크므로정극성 : 용접봉의 용융

리포트 | 49페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.07

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D.C Magnetron Sputterimg 으로 증착한 Cu 박막 결과 보고서

재료공학실험ⅢVol.01, No.1, 2003, pp.01～03D.C Magnetron Sputterimg 으로 증착한 Cu 박막 결과 보고서한국항공대학교 항공재료공학과요 약DC ... (Ar:O2)은 pure Ar에서 70:30으로 하였고 Plasma Power는 100W로 유지하였다. 증착 후 α-step로 박막의 두께를 4-point probe를 이용하여 표면 ... 에서 우수한 특성을 나타내었다.AbstractWe deposited Cu thin film on corning 1737 Glass substrates using DC magnetron

리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2003.07.17

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