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"펄스레이저 증착법" 검색결과 21-40 / 78건

  • SrBi2Ta2O9 강유전체 박막의 전류-전압 특성 (Current-Voltage Characteristics of Ferroelectric SrBi2Ta2O9 Thin Films)
    한국물리학회 배상보, 김환민, 김일원
    논문 | 9페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.13 | 수정일 2025.03.28
  • 부산대학교 기계공작법실습 보고서 용접2
    REPORT과목기계공작법실습분반004학과기계공학부학번이름제출 일자1. 자동용접기의 종류를 조사하라자동용접이란 조작자가 상시 조작하지 않아도 연속적으로 용접이 진행되는 장치를 사용 ... 해야 한다. 용접 결과에 영향을 미칠 수 있는 많은 요소로는 아크 길이, 용접 전류의 펄스 주파수, 용접속도, 불활성 가스, 모재, 필러 재질, 용접 준비 상태, 열전도도가 있 ... 에 주로 의존하고 있다. 국내의 용접로봇 기술향상을 위해서는 용접기의 고도화 기술뿐만 아니라 용접 모니터링 기술, 레이저 센싱 기술, 용접지그 개발 등 주변 기술의 개발이 병행
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.11.12
  • PLD 사전보고서
    하여) 진공 챔버 내부의 대부분의 다른 표면상에 증착될 수 있다.▶ 펄스레이저증착 (Pulsed Laser Deposition, PLD)펄스레이저증착(PLD: Pulsed Laser ... Deposition)은 물리 증착법의 하나로, 표면에 박막을 형성하는 기술이다. 진공관 안에서 고강도 펄스레이저 빔이 침착시키고자 하는 물질의 타겟을 쬐도록 하여, 물질이 증발 ... 은 것)에 발생할 수 있다.기본적인 설정은 다른 증착법들에 비해 간단하지만, 레이저를 타겟으로 한 상호작용과 필름 성장의 물리적 현상은 꽤 복잡하다. 타겟에 laser pulse
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.06.01
  • 레이저 공학 레포트 (응용분야, 레이저 거리 센서)
    로4. 동위원소분리(1) 원자법 (2) 분자법 (3) 레이저 가속레이저 거리 측정기이와 같이 다양한 레이저의 응용분야 중, 레이저 거리 측정기(LRF : Laser Range ... 레이저레이저란, LASER(Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation)의 약자로, 전자기파를 증폭하거나 발진하는 장치이 ... 는데 그 분야마다 방법과 대상에 따라 몇 가지씩 세목으로 나누어 활용 가능한 아이템을 소개하겠다.• 전자 반도체 산업분야1. 레이저 CVD(화학증착)에 의한 박막형성(1) 결정성장
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.11.15 | 수정일 2018.11.22
  • ZnO Nanorod 합성 사전보고서
    에 의한 발광시 380 nm의 파장을 가지는 UV 발광을 일으켜, 자외선 영역에서는 발광 특성을 나타낸다. 증착박막 내에 산소 결핍 등의 결함이 존재할 경우 n형 반도체의 특성을 나타내 ... 게 되며, 황색 및 녹색 영역에서 발광을 나타낸다.▶ 졸겔 법 (Sol-gel process)알콕시드 등을 가수분해하여 얻어지는 졸에서 겔을 거쳐 유리나 무기 산화물 분체를 조제 ... 하는 방법. 졸을 탈수·탈용매한 후, 용기에 넣고, 기판에 도포하여 섬유상으로 방사하는 등의 방법으로 건조 겔로 하여 이것을 소결한다. 졸겔 법의 장점은 종래 법으로는 얻을 수 없
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.06.01
  • 플라즈마 응용
    , 용접, 증착에 사용하는 전자빔 가공, Xe관의 방전을 이용하여 루비나 유리를 여기하고 전자빔 가공과 마찬가지로 사용하는 레이저광 등 가공방면에 있어서 방전가공, 방전성형의 응용 ... 부터는 핵융합 연구에 플라즈마가 이용되면서 큰 발전을 이루었고, 산업계에서는 1960년까지 플라즈마에 대한 대부분의 관심을 가스 방전레이저와 램프 개발에 두었다가 점차 반도체 분야 ... 을 전기집진이라고 한다. 그림은 cottrell 집진장치를 도시하였는데 접지한 집진전극인 평행 평판전극(+) 사이에 가느다란 선전극(-)을 매달고 양전극 간에 직류 또는 펄스 전압
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 8,000원 | 등록일 2019.06.23
  • [실험레포트] 온도변화에 따르 저항 변화 측정
    ), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser MolecularBeam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition) 등이 있다. 이 방법 ... 가 저항이 된다.● PVD전극을 형성시키는 방법에는 물리적 증착법인 PVD방법이 있다. PVD방법은 전극 형성법중에 가장 좋은 방법으로 압력이 높아지면 끓는 점이 높아지는 것을 이용 ... 한 방법이다.PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation),열증착법 (Thermal evaporation
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.12.05
  • 판매자 표지 자료 표지
    thermal evaporator(서머 이베퍼레이터), E-beem evaporator(이빔 이베퍼레이터) 조사 레포트
    evaporator이 포함된다.그 밖의 PVD의 종류- 스퍼터링 (Sputtering)- 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy)- 펄스 ... 레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition)- MOMBE (Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy)PVD의 특징고경도 (High ... 증착 법 & 전자 증착 법)제출일전공과목학번담당교수이름서론Thermal & E-beam evaporator?진공 증착법은 1857년에 Faraday가 처음으로 행한 방법으로 이
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.05.30 | 수정일 2015.10.04
  • Coating - PVD & CVD Deposition, Sputter, Evaporation
    evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser ... evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레 이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition) 등 ... 에 위치한 증착재료(target)에 높은 출력의 레이저 빛을 모으면 그 펄스증착재료의 온도를 급격히 올려 표면에서 폭발적인 기화 즉, 용발이 일어나게 됩니다. 기판을 증착재료 가까이
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2014.06.23
  • 반도체공정실험 예비보고서(Metal deposition)
    evaporation), 레이저 분자 빔 증착법(L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스 레이저 증착법(PLD, Pulsed Laser ... 의 박막이나 나노 구조를 만들 때 쓰인다. PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착법(E-beam evaporation), 열증착법(Thermal ... 시키면 집중적인 전자의 충돌로 증착재료가 가열되어 증발한다. 이때 윗부분에 위치한 기판에 박막이 형성된다. E-beam Evaporation법은 빠른 증착속도(50A/sec 가능
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2014.09.23 | 수정일 2021.04.11
  • GaN의 식각
    -beam evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착 ... 법 (PLD, Pulsed Laser Deposition) 등이 있다.이 방법들이 공통적으로 PVD에 묶일 수 있는 이유는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체상태가 고체상태 ... 이 보편적으로 사용된다.(2) PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposion)기상증착법(Vapor Deposition)은 크게 두 가지로 분류된다.1
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.05.22
  • Chalcogenide-based memory application(칼코지나이드)
    하는 이원계 이상의 화합물 재료를 총칭하여 좀 더 포괄적 의미를 가지는 재료로 확대되고 있다.외부에서 인가되는 아주 짧은 집속된 에너지(광메모리는 집광된 레이저 광, 전기 메모리는 인가 ... 되는 펄스 전류)에 의해 비정질상과 결정상으로 변화하게 된다. 이때 광 메모리는 비정질상과 결정상과의 광 반사율 차이로 0과 1의 신호를 구분하게 된다. 전기 메모리는 광 메모리 ... 에 사용되는 동일한 소재를 이용할 수 있으며 전기 메모리의 경우 외부에너지, 즉 외부에서 공급되는 펄스 전기 에너지에 의해 열이 발생하고 이때 발생하는 열(온도)에 의해 비정질
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.10.13
  • PVD
    증을 이용 . 13 펄스 레이저 증착법 (Pulse laser evaporation)장점 target 과 film 의 조성이 일치 deposition rate 가 높다 다양한 재료 ... 증착가능 multi layer 와 heterogeneous structure 증착 가능 단점 증착 area 가 좁다 Step coverage 좋지 않음 14 펄스 레이저 증착법 ... 와 증발원 재료가 직접 접촉하는 방식 저항 가열식 진공증착법 (Thermal- heating evaporation) 7구동원리 고융점의 filament, basket 또는 boat
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 77페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24
  • 증착결과 보고서
    evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed Laser Deposition ... 이 커질수록 두께 비()는 감소하게 되어 증착된 Film 두께의 균일도 (Uniformity)는 떨어지게 된다. 이상에서 살펴본 바와 같이 저항가열법을 이용한 진공증착방법에서 증발 ... 에 의존하므로 진공증착 박막실험시 세심한 주의와 관찰을 필요로 한다.3.또 다른 증착 방법기상증착법은 크게 두 가지로 분류된다.PVD (Physical Vapor
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.11.06
  • PVD (Physical Vapor Deposition), 물리 증착법
    다.①Plused Laser Deposition재료를 증발시키는 수단으로서 높은 파워 밀도의 펄스 레이저를 이용하는 박막 형성법을 일반적으로 펄스레이저 증착기술 이라고 한다 ... . 특히 자외역의 레이저를 사용하는 경우를 레이저 에블레이션법 이라 하여 적외역의 레이저를 사용하는 경우와는 구별한다. 펄스레이저 증착기술중 레이저 에블리이션법이 주로 이용 ... )3) 상기 입자들의 기판에의 증착(daposition)4) 기판 표면상에서의 증착입자들의 재배열(rearrangement) 또는 결합상태 변경(modification)고상이나 액상
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.07.05
  • deposition 방법
    (chamber) 안에 위치한 증착재료(target)에 높은 출력의 레이저 빛을 모으면 그 펄스증착재료의 온도를 급격히 올려 표면에서 폭발적인 기화 즉, 용발이 일어나게 됩니다 ... deposition 방법화학 기상 증착법 (CVD) - 저압 화학 기상 증착 (Low Pressure CVD, LPCVD)- 플라즈마 향상 화학 기상 증착 (Plasma ... Enhanced CVD, PECVD)- 대기압 화학 기상 증착 (Atmospheric Pressure CVD, APCVD)물리 기상 증착법 (PVD) - 금속을 진공에서 가열하여 그 증기
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.06.05 | 수정일 2013.12.01
  • 다결정 실리콘 박막 트랜지스터
    시키는 직접 증착법[1,2]과 일단 비정질 실리콘 박막을 형성한 후 이를 열처리를 통하여 결정화 시키는 방법이 있다. 후자에는, 레이저 어닐링(annealing) 방법,[3-5] 고상 결정 ... 방법의 대표주자인ELA 방법이 갖는 가장 큰 장점은 수십 nano-second 동안의 펄스(pulse) 조사(irradiation)되는 자외선 파장의 레이저와 비정질 실리콘 ... 의 자유로운 사용에 제한을 받고 결정화 시간이 많이(>20 hrs) 걸린다는 단점이 있지만, 비교적 큰 결정립과 결정립 크기의 균일성을 얻을 수 있고, 직접증착법에 의해 형성
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 39페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.05.28
  • 전자재료실험 - 열처리 시간에 따른 C-V I-V 특성 분석 결과보고서
    ), 펄스 레이저 증착법(PLD, Pulsed Laser Deposition) 등이 그것인데, 이번 실험에서 사용한 증착법은 전자빔 증착법이다.전자빔 증착법은 박막을 증착시킬 때, 증착 ... (E-beam evaporation), 열 증착법(Thermal evaporation), 레이저분자빔 증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy ... 변화를 이용한 방법을 말한다. 다른 증착법과는 다르게 저온에서 간단히 박막을 증착할 수 있는데, 다음과 같이 여러 증착법이 있다.스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착법
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.01
  • 압전에너지 하베스팅기술
    에피택시 , 펄스 레이저 증착법 등 ) 압전 재료의 증착 MEMS 제작기술압전재료의 식각 습식 식각 : 식각 용액에 웨이퍼를 넣어 화학반응에 의해 식각이 이루어지게 하는것 ... 다 . 단결정이 Czochralski 법과 박막은 액상 에피택시 기술 사용 납 지르코늄 티탄산화물 (PZT) : 가장 널리 사용되는 재료 . 전기 기계적 계 수가 높기 때문 ... 에 마이크로 액추에이터와 미아크로센서 응용에 매우 매력적인 재료 종류 : 석영 , 란탄갈륨규산 , 리튬 니오브 염 , 리튬 탈탄산염 등 압전 재료의 종류증착된 압전박막을 결정화하는 3 가지
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 14페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.12.08
  • [신소재 설계입문] 생체 세라믹 재료를 이용한 인공뼈의 설계 보고서
    , Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법(PLD, Pulsed Laser Deposition) 등이 있다.그림 12. Electron gun PVD ... 하는 증착법으로는 스퍼터링(Sputtering), 전자빔증착법(E-beam evaporation), 열증착법(Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법(L-MBE ... 넓어서 다양한 특성의 박막을 쉽게 얻을 수 있기 때문이다. 이러한 CVD에 해당하는 증착법으로는 열CVD, 플라즈마 CVD(Plasma CVD), 광 CVD, MOCVD
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    | 리포트 | 36페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.06.23
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