"마그네트론 스퍼터링 (magnetron sputtering)"의 검색결과 입니다.

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evaporator 스퍼터링 Cr ITO 증착 rf magnetron 반도체 공정 대학원 컨택 메일 RF-magnetron sputtering

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"마그네트론 스퍼터링 (magnetron sputtering)" 검색결과 221-240 / 399건

플라즈마 가스와 RF 파워에 따른 NiO 박막의 우선배향성 및 표면형상 변화

한국재료학회 류현욱, 최광표, 노효섭, 박용주, 권용, 박진성

Non-Ai HUMAN
| 논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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CIS,CIGS

도DC sputtering systemRF sputtering systemmagnetron sputtering system태양광발전의 경제성을 향상시킬 수 있는 저가, 고효율 ... 과 스퍼터링법장점단점간단한 구조 저렴한 구성대면적화의 어려움 진공장치 내부의 심각한 오염 양질의 박막 제작이 힘듬미국의 국립재생에너지연구소 19.5%의 에너지변환효율스퍼터링 기술의 모식

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 23페이지 | 15,000원 | 등록일 2010.12.22 | 수정일 2022.08.12

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무기합성 및 분석화학 실험 결과보고서(제올라이트)

밀도를 얻을 수 있다는 큰 장점을 지니고 있다. 현재 상용화되어 증착 공정에서 많이 사용되는 마그네트론-스퍼터링의 경우 입자의 이온화율이 10%를 넘지 못하는데 반하여 ICP ... .6394.1262.772Al2O325.00213.82311.44912.16712.526SiO256.00125.50222.97924.14624.847lime stone0.68848 ... 코일을 스퍼터링 장치 내부에 삽입하여 실리콘 기판 위에 금속물질을 증착하였는데 이때 금속의 이온화율이 기존의 스퍼터링법보다 월등히 증가하는 것이 발견되었다.내부 삽입형 ICP

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| 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.11 | 수정일 2022.09.29

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R.F. sputtering 방법에 의해 c-BN 표면처리된 316L 오스테나이트계 스테인리스 강의 내마모특성 향상

한국재료학회 이광민, 정세훈, 박성태

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| 논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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마그네트런 스퍼터링법으로 증착한 투명전극용 Al도핑된 ZnO의 공정 분위기에 따른 구조적, 전기적, 광학적 특성비교

한국재료학회 임근빈, 이종무

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| 논문 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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CIS,CIGS

system마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)이란 발생된 플라즈마를 영구자석에서 발생하는 자속(flux)에 의해 기판에 형성시키는 방법이다. 이러한 집진 ... 태양전지의 흡수층 제작 방법은 동시증착(co-evaporation)법, 스퍼터링(sputtering)법, 전착(electro-deposition)법, 유기금속 기상성장법 ... 박막의 불균일과 손상발생,박막이 UV나 이온 등에 직접노출 인가된 전원이 직류(direct current,DC)일경우 직류스퍼터링법(DC sputtering)라 하며 일반

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| 리포트 | 18페이지 | 15,000원 | 등록일 2010.12.22 | 수정일 2022.08.12

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RF 마그네트론 스퍼터로 증착된 In2O3 박막의 질소분위기 열처리에 따른 특성변화

한국재료학회 공영민, 이영진, 허성보, 이학민, 서민수, 김유성, 김대일

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| 논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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Cosputtering법으로 증착한 ZnO박막의 Al도핑농도가 미세구조 및 물리적 특성에 끼치는 효과

한국재료학회 임근빈, 이종무

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| 논문 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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메모리 소자에의 응용을 위한 SrBi2Nb2O9 박막의 성장 및 전기적 특성

한국재료학회 강동훈, 최훈상, 이종한, 임근식, 장유민, 최인훈

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| 논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조 예비

금속피막 형성에 이용되고 있는 sputter gun이 있고 전자빔 증착장치와 동일한 용도로 이용되고 있다. Planar magnetron형 고속 스퍼터링 장치에서는 in-line ... 에서의 플라즈마 밀도를 높인 planar magnetron형의 스퍼터링장치가 개발되었다. 이런 형의 타게트는 막의 형성속도를 수배로부터 약 10배까지 증가한다. 이 형의 변형으로서 주로 ... =4)의 일반식에서 보여준 유기 Oxy-silane의 열분해로막을 형성하는 방법도 잘 이용된다. 그중에서도 TEOS,가 잘 이용된다. TEOS의 열분해 온도는 728~840°C이

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| 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.08

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RF 마그네트론 스퍼터링 방법으로 SiO2/Si(100) 기판위에 성장시킨 ZnO 박막의 구조 및 광특성

한국재료학회 한석규, 홍순구, 김효진, 이재욱, 이정용

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| 논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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원통형 스퍼터링 장치로 제작한 Ti 및 Al 박막구조

한국재료학회 오창섭, 한창석

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| 논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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ITO Glass

되고 있다.3. ITO 박막 제조ITO 박막의 제조는 Chemical vapor deposition, DC/RF Magnetron sputtering, Evaporation ... , Spray pyrolysis, Pulsed laser deposition 등이 있는데, 가장 많이 사용되는 방법은 DC/RF Magnetron sputtering이다.* Magnetron ... 시킴으로써 sputter yeild를 높이는 방법이다.1) DC Sputtering : 직류전원을 이용한 Sputtering 방법이다.장 점단 점? 구조가 간단하며, 가장 표준적인 s

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.17

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산소플라즈마 전처리된 Polyethylene Naphthalate 기판 위에 증착된 ZnO:Ga 투명전도막의 특성

한국재료학회 김병국, 김정연, 오병진, 임동건, 박재환, 우덕현, 권순용

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| 논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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스퍼터링 장비(펌프,게이지,Sccm)

예비보고서 (4/27)윤영훈주제 : RF-magnetron sputtering을 이용하여저온증착 ZnO 및 고온증착 ZnO 박막의 증착 및 분석1. 오일로터리 펌프, 터보 펌프2

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| 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.18

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RF-magnetron Sputtering Process를 이용한 a-축 우선 배향된 PLZT(x/0/100)박막의 제조

한국재료학회 박명식, 강승국, 노광수, 김동범, 조상

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| 논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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반사방지막코팅

성 .Magnetron sputtering 24 Target 의 뒷면에 영구자석이나 전자석을 배열 함으로써 전기장에 의해 (RF 또는 DC)target 로부터 방출되는 전자 ... 를 target 바깥으로 형성되는 자기장내에 국부적으로 모아 Ar 기체원자와의 충돌 을 촉진시킴으로써 sputter yield 를 높이는 방법 이다 .RF Magnetron ... Sputtering 25 RF sputtering 은 금속 이외에도 비금속 , 절연체 , 산화물 , 유전체 , 등 의 sputtering 이 가능하며 주로 13.56MHz 의 고주파 전원

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| 리포트 | 39페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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실리콘 박막 태양전지 전면 전극용 ZnO : Al 투명전도막의 표면형상 및 산란광 특성

한국재료학회 김영진, 조준식, 이정철, 왕진석, 송진수, 윤경훈

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| 논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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R.F Magnetron Sputtering법으로 제조한 TiO2 박막의 특성

한국재료학회 추용호, 최대규

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| 논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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Sputtering 방법을 통해 증착한 Cu/Ti 박막의 후열처리 온도에 따른 Cu-silicide형성과 비저항에 미치는 영향의 특성평가실험

금속 원자 한 개 승화시 필요한 에너지: 3~5eV)→ 대부분의 에너지가 열로 방출, 일부 에너지만이 스퍼터링에 이용.(3) 스퍼터율(sputter yield)스퍼터율: 하나의 양 ... 1. 실험목표Silicide 형성 기구 이해(kinetic, themodynamic)제조 방법(sputtering)의 이해응용 내용 이해(반도체 metallization)2 ... 과 고체 표면과의 반응.① 이온반사② 전자방출: 2차전자(secondary electron)③ 이온주입④ Radiation damage⑤ 스퍼터링(2) 스퍼터링 원리스퍼터링 과정

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.26

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