LCD 제작 공정

소개

LCD 제작 공정 입니다.

목차

1. TFT Fab. Process
2. Patterning
3. Color filter process

본문내용

TFT-LCD는 백라이트에서 나오는 일정한 빛을 각 셀에 있는 액정의 배열을 조절하여 빛의 밝기를 조절한다. 백라이트 자체는 백색광이므로 액정 배열을 변화 시켜 빛의 양을 조절 하지만 색을 구현하기 위한 R, G, B로 만들기 위해서 Color Filter가 중요한 역할을 하게 된다. 이러한 Color Filter 는 TFT-LCD패널의 상판에 위치하며 TFT 공정과는 별도의 공정을 통해 만들어 진다.

patterning은 그 하나만으로도 정밀하고 복잡한 공정이다. TFT-LCD 패널을 만들기 위해서 적어도 이 공정을 여러번 거치게 된다. 물론 그때 그때 동일한 증착 재료와 공법을 사용하는 것은 아니지만 개략적인 공정은 비슷하다.

Deposition Reference 1


PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
반도체나 절연막의 deposition

진공을 이루는 Chamber 내부에 증착에 필요한 gas를 주입하여 원하는 압력과 기판 온도가 설정되면 RF(Radio Frequency) power를 이용하여 주입된 gas를 Plasma 상태로 분해하여 기판위에 증착하는 공정이다. 증착에 필요한 조건은 진공상태, RF power, 기판온도, 반응 gas, 반응 압력 등이다. 증착되는 물질은 절연막과 반도체막으로 나눠지며, 절연막으로는 게이트 절연막, 보호막, etch stopper막이 있다. 반도체막으로는 활성층을 이루는 비정질 실리콘(a-Si:H)과 접촉 저항층을 이루는 도핑된 비정질 실리콘막(n+ a-Si:H)이 있다.

참고자료

· 없음