나노임프린트-soft nano lithography

소개

나노임프린트-soft nano lithography
1. Soft Nano imprint Lithography 기술의 장단점
Soft Nano imprint Lithography는 딱딱한 재질이 아닌 연성의 재질인 PDMS 몰드를 스탬프로 사용하여 원하는 조성의 화학물질을 기판상에 전이시킴으로써 원하는 형상의 패턴을 형성하는 기술이다. 딱딱한 재질과는 달리 연성의 PDMS 몰드는 기판상에서 별도의 압력을 가하지 않고서도 자발적인 균일 접촉(conformal contact)을 이루면서 패턴을 전사할 수 있으며 Master stamp의 degrading을 방지할 수 있음은 물론, 비구면에 패턴 형성이 가능한 것과 같은 많은 장점들을 가진다.
Soft lithography는 photo lithography가 가진 여러 가지 단점(precise alignment, continuity, isolation , uniformity 의 필요성) 때문에 대체 기술로 각광을 받고 있는 것은 사실이다. 실제로 이 방법을 사용하면, micro electrode의 전극배열, biosensor, micro analytical system의 간단한 제조를 할 수 있다. 또한 간단한 display 기기, 광학 기기, 기초적인 micro electronic 기기도 현재 이 방법으로 만드는 것이 현실화되고 있다.

목차

1. Soft Nano imprint Lithography 기술의 장단점
2. Soft nano imprintLithography 공정시 유의사항
3. Nano imprint Lithography 기술이 앞으로 해결해야 할 요인
4. PDMS의 대체물질

본문내용

1. Soft Nano imprint Lithography 기술의 장단점

Soft Nano imprint Lithography는 딱딱한 재질이 아닌 연성의 재질인 PDMS 몰드를 스탬프로 사용하여 원하는 조성의 화학물질을 기판상에 전이시킴으로써 원하는 형상의 패턴을 형성하는 기술이다. 딱딱한 재질과는

2. Soft nano imprintLithography 공정시 유의사항

1) 중력, 접착력, 모세관 힘이 elastomeric한 형태에 가해짐으로써 형태가 바뀌거나 defect가 생길 수 있으므로 유의한다.
2) Patterning된 형태의 비율이 나머지

3. Nano imprint Lithography 기술이 앞으로 해결해야 할 요인

Nano imprint Lithography 기술은 딱딱한 재질의 패턴이 형성된 몰드를 열가소성 고분자의 박막에 접촉시키고 고분자의 유리전이온도 이상의 조건에서 고분자 박막에 유동성을 가하면서 높은 압력으로 눌러서 원하는 형상의 패턴을 고분자 박막상에 형성하는 기술이다. 이 기술은 수 nm수준의 패턴까지도 형성이 가능한 우수한 패턴 형성 능력을 가지고 있지만 극단적으로 높은 압력이

4. PDMS의 대체물질

Soft Lithography는 기본적으로 스탬프의 나노구조를 폴리머에 각인하여 기판에 전사하는 것으로서 패턴된 고분자 박막은 다음의 세가지 정도의 용도로 사용될 수 있다.
1) 식 식각을 위한 마스크

참고자료

· 없음