나노임프린트-soft nano lithography의 이해

소개글

나노임프린트-soft nano lithography의 이해

목차

a. Soft Nano imprint Lithography 기술의 장단점
b. Soft NanoImprint Lithography 공정시 유의해야 할 사항
c. Nano imprint Lithography 기술이 앞으로 해결해야 할 요인
d. PDMS 물질을 대체하기 위해 개발되고 있는 여러 가지 물질에 대하여 조사

본문내용

a. Soft Nano imprint Lithography 기술의 장단점
-나노임프린트 리소그래피는 누르고자 하는 고분자 층에 빛을 조사하여 화학구조를 변형시키는 노광공정과는 달리 열적으로 고분자 층을 유동성 있게 만든 다음 패턴이 있는 주형을 접촉시키고 물리적으로 눌러서 고분자 층에 원하는 패턴을 만들어 내는 방법입니다. 따라서 Electron beam 리소그래피, Extreme UV 리소그래피, X-ray 리소그래피 등의 광자나 전자를 사용하는 리소그래피에 비해 인쇄기법과 비슷한 기계적인 방법을 이용하기 때문에 100nm이하의 정밀한 솔루션을 얻을 수 있고 이를 위한 비용이 저렴할 뿐 아니라 공정자체가
b. Soft NanoImprint Lithography 공정시 유의해야 할 사항
PDMS 몰드를 이용한 Soft Nanoimprint Lithography는 PDMS를 몰드 자체를 만드는 공정이 매우 중요한데, 그 순서는 다음과 같습니다.
ⅰ) 두가지 몰드재료 용액을 10:1 의 부피비로 혼합합니다.
ⅱ) 혼합한 끈끈한 액을 잘 섞어줍니다.
ⅲ) Wafer로 만든 마스터 위에(원래의 패턴) 혼합한 재료용액을 붓습니다.
c. Nano imprint Lithography 기술이 앞으로 해결해야 할 요인
먼저 엘라스토머(PDMS)를 이용한 20nm이하의 고해상도에 적용과정이 실험적으로 검증되어야 합니다. 엘라스토머 물질과 연관된 일그러짐이나 변형이 다루어져야 하고 패턴 전송은 정확한 재현성을 가지고 있어야 합니다. 또한 생성된 패턴과 구조물의 품질이 개선되어야 합니다. 특히 좁은 선들의 패턴은 아직 복잡한 전자기기의 미세패턴 형성기술에서 필요한 수준까지 도달하지 못하였는데요, stamp에서 나타나는 결함의 형성과 분포 그리고 특히 그들의
d. PDMS 물질을 대체하기 위해 개발되고 있는 여러 가지 물질에 대하여 조사
Nanoimprint Lithography

참고 자료

없음