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기기분석 ESCA분석법

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최초등록일 2008.01.27 최종저작일 2007.10
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기기분석 ESCA분석법
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    소개

    기기분석 ESCA분석법

    목차

    □ 서론
    □ 원리
    □ 장 치
    □ Spectrum 분석
    □ 결론
    □ 참고 문헌

    본문내용

    □ 서론
    - 고체의 표면은 여러 가지 현상을 분자구조적인 측면에서 설명하는데 매우 중요하다. 물질 표면의 중요성에 비하여 표면의 구조 및 결합 상태를 밝힐 수 있는 실험 방법은 많지 않다. 1960년대 후반에 고안된 전자분광 화학 분석법 (ESCA, Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)는 고체 표면의 구조 및 결합 상태 등을 직접 관찰할 수 있는 한가지 방법이다.
    - 표면이란 일반적으로 다른 상과의 계면을 이루는 한상의 경계면을 말한다. 화학분야에서 자주 다루는 대부분의 표면은 고체-기체 또는 액체-고체의 계면이고 보통은 진공 문제로 고체 부분을 주로 다루고 있다. 일반적으로 표면은 한 개의 원자단 두계보다 더 많은 원자단으로 생각할 수 있는데, 그 이유는 표면 영역을 시료를 취하는 만큼의 부피로 정의하고 있기 때문이다. 따라서 다른 측정장치로 같은 물질을 보았더라도 실제적으로는 시료의 다른 표면을 측정한 것으로 볼 수 있다. 표면의 분광학적 장치의 방법은 하나의 빔(일차빔 또는 입사광)이 표면에 입사되고 표면층 내에 얼마간의 깊이를 통과한 빔(이차빔 또는 반사광)이 분광계에 의해 측정, 분석됨으로써 이루어진다. 다음에 제시된 표1.은 그러한 입사광과 반사광이 광자(photon), 전자(electron), 이온(ion)과 같이 그 종류와 조합에 따라 다양한 표면 분광학 장치가 있음을 보여주고 있다.

    - 전자분광 화학 분석법은 20여년까지 전만 해도 화학 분야 보다는 물리학이나 금속재료과학의 연구에 많이 활용되었으나, 최근 10여년 동안 ESCA는 특히 고체표면과 계면의 구성원소나 그의 화학 결합상태를 밝혀내는 전자 분광법의 하나로 금속, 촉매, 반도체 소자 재료, 세라믹스, 박막, 고분자 피막 등의 연구에 널리 이용되면서 새로운 연구분야로 각광받고 있다. 이 분석법은 최초에는 X-선을 이용한 광전자 분광법이므로 그 측정 원리에 근거하여 X-선 광전자 분광법(X-ray Photoelectron Spectroscopy)이라고 더 많이 불려지고 있다.
    □ 원리

    참고자료

    · - 고분자과학과 기술(한국고분자학회, 2001), ECSA(XPS)를 이용한 고분자 물질의 표면분석, 김영만
    · - 제7회 고분자 기기분석(한국고분자학회), ECSA, 이호인
    · - 제9회 고분자 기기분석(한국고분자학회), ECSA, 진인주
    · - 화학공학(한국화학공학회, 2003)
    · - 최신분석화학(2002), 김강진 옮김
    · - 경북대학교 공동실습관
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