[박막공학]Capacitively Coupled plasma(CCP)

소개

Capacitively Coupled plasma(CCP)의 정의,원리,특징과 이와관련된 이론에 대해서 정리한 프리젠테이션용 리포트 입니다. 진공학및 박막공학등을 공부하는 핵생에게 유익한 자료라 생각됩니다. 많은 도움되었으면 합니다.

목차

1.RF플라즈마의 정의
2.CAPACITIVELY COUPLED PLASMA(CCP)란?
3.CCP의 원리 및 SOURCE원
4.CCP의 장 단점
5.CCP와 ICP의 비교
6.CCP의 적용 및 응용 예
7.참고 문헌

본문내용

*RF플라즈마의 정의
13.56MHz의 RF가 주로 사용(전파법으로 지정)
저기압 가스에 고주파전압을 인가하며 자유전자가 한쪽 전극에 도달하기 전에 극성이 계속적으로 변화 전자는 전극 사이에 동작 가스 속을 왕복하면서 전자 충돌작용을 일으켜 플라즈마 발생
*RF플라즈마 발생방법
CCP (Capacitively Coupled Plasma)
전극에 전압을 인가하여 방전하는 축전 결합형 플라즈마 발생방법
ICP (Inductively Coupled Plasma)
코일이나 안테나에 전류를 인가하여 방전하는 유도 결합형 플라즈마 방식

*Capacitively Coupled plasma(CCP)의 정의
전극에 파워를 직접 인가하는 방식으로 전극의 표면에 분포되는
전하에 의해 발생되는 축전 전기장에 의해서 플라즈마가 발생하고 유지되는 방법

참고자료

· .http://www.PVDworld.net
· 2.http://www.semipark.co.kr
· 3.산업용 플라즈마 발생 기술및 개발 동향, KISTI, 장용무, 2002년 12월 논문
· 4.경북 대학교 전기전자 공학부 <플라즈마 물리학 강의 자료> 발췌
· 5.http://www.plasmart.com
· 6.필라멘트 글로우 방전 플라즈마와 RF방전 플라즈마에 관한 실험연구,동아대학교 물리학과 논문,1996년