[고분자공학실험및설계] OMO 구조에서 상하부 층의 두께 변화에 따른 유연투명전극 연구

소개

OMO 구조 = MoO3/Al/MoO3 구조
도움이 되었으면 좋겠습니다. 감사합니다.

목차

Ⅰ. Purpose

Ⅱ. Principle
1. Transparent Conducting Electrode
2. Instrument to measure

Ⅲ. Experiment

Ⅳ. Result
1. UV-IR-visible Spectrophotometer
2. Confocal Scanning Laser Microscope
3. Two-point Resistance Probe Station

Ⅴ. Discussion
1. UV-IR-visible Spectrophotometer
2. Confocal Scanning Laser Microscope
3. Two-point Resistance Probe Station
4. Determination of applicability as a TCE

Ⅵ. Reference

본문내용

1. Purpose
< OMO 구조(MoO3/Al/MoO3 구조)에서 최적의 투과도를 갖는 상하부 층 두께>
(분광계 - 광 투과도 / 공초점 주사 레이저 현미경 – 표면 거칠기 / 2침 탐침법 - 면저항)

OMO 구조에서 PET Film의 상하부 산화물 두께는 투명전극의 광학적 투과도 향상에 기여하는 영향이 매우 크기 때문에 최적의 투과도를 위해서는 산화물 층 두께에 대한 최적화가 중요하다. 따라서 본 실험설계에서는 OMO 구조에서 상하부 층의 두께 변화에 따른 광 투과도, 표면 거칠기, 면저항 측정하여 유연투명전극을 연구하였다.

2. Experiment
본 실험에서는 OMO 구조에서 상하부의 층 두께가 광 투과도에 미치는 영향을 확인하기 위하여 각각의 두께를 고정시킨 후 UV-vis(투과도 측정), 공초점 주사 레이저 현미경(표면 거칠기 측정), 2침 탐침법(면저항 측정)을 통하여 광 투과도를 측정하였다. 실험 방법은 아래와 같이 진행하였다 [Fig 10].

1) 하부 층의 두께를 5nm로 고정시킨 채 상부 층의 두께를
30nm, 50nm, 70nm 로 변화시킬 때 투과도/표면 거칠기/면저항 측정
2) 상부 층 두께를 위의 측정에 의한 최대투과도(=30nm)로 고정시킨 채
하부 층의 두께를 5nm, 10nm, 20nm 로 변화시킬 때 투과도/표면 거칠기/면저항 측정

[1] 투명전극 (Transparent Conducting Electrode ; TCE)
- 평판 디스플레이, OLED과 같은 광전자 소자에 사용되고 있는 물질로 높은 전도도와 가시광선 영역에서 높은 투과도를 갖는 전극
- 플렉시블 장치에 응용하기 위한 투명전극은 유연기판 위에 증착됨
① 낮은 비저항과 면저항 (비저항 < Ω, 면저항 < 103Ω/Sq)
② 높은 광 투과도 (가시광선 영역 투과도 > 80%)
③ 우수한 기계적 특성 (유연성)

참고자료

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· Evaluation Technology of Degradation of Metallic Alloy using Electrical Resistivity, Seung Hoon Nahm, Kwang Min Yu, and Jae Cheon Ryu, Journal of the Korean Society for Nondestructive Testing, Vol. 21, No. 5, P.532-P.541 (2001)
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