반도체 제조장비

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어닐링 장비
RTP(Rapid Themal Processing) 장비
그림. 코닉 RTP장비(코로나)
그림. 코닉 RTP장비 TM(코로나)
그림. 코닉 RTP장비 PM(코로나)

Oxidation
N2 Annealing : Ion Implantation이후 손상된 결정을 재결정화
H2 Annealing: Sputtering이후 Al film의 결정화
Si3N4 Deposition: Reactor속에 SiH2Cl2(Dichlorsilane)와 NH3 GAS을 동시 주입
SiO2 Depostion :Si and O(oxigen) 원소를 포함한 원료 gas를 사용 하여, wafer 표면에 SiO2(Silicon Oxide) film을 형성함

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반도체 제조공정 19페이지

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