TIPS를 이용한 PVDF 중공사막 제조방법

목차

1. 개 요
1.1 문제의 정의
1.2 특허분석 주제 및 목적

2. 배경 및 관련기술 이론
2.1 관련 기술의 국내외 시장 동향
2.2 막 재질로서 PVDF와 친수화 개질
2.3 고분자 분리막의 제조방법
2.3.1 NIPS에 의한 중공사막 제조 방법 및 특징
2.3.2 TIPS에 의한 중공사막 제조 방법 및 특징
2.3.3 연신법에 의한 기공생성 메카니즘
3. 특허 조사 결과
3.1 특허조사 방법
3.1.1 검색식
3.1.2 기술분류
3.1.3 검색식을 통한 특허 검색 결과
3.2 특허 분석 방법
3.3 정량 분석
3.3.1 국가별분석
3.3.2 연도별분석
3.3.3 연도별 국가별분석
3.3.4 국가별 기술별분석 – 친수화개질
3.3.5 국가별 기술별분석 – 제조방법
3.3.6 기술별 연도별 – 한국
3.3.7 기술별 연도별 – 일본
3.3.8 기술별 연도별 – 미국
3.3.9 기술별 연도별 – 유럽
3.3.10 주요출원인 분석
3.3.11 기술별 출원인 분석
3.3.12 국가별 출원인 건수 분석
3.4 정성분석
3.4.1 핵심특허선정기준
3.4.2 주요 특허
3.4.3 주요 특허 요약 및 분석

4. 특허맵
4.1 기술 흐름도
4.1.1 연도별기술별-제조방법

참고문헌
1. 논문
2. 특허 원문

본문내용

1. 개 요
1.1 문제의 정의 - C3. TIPS를 이용한 PVDF 중공사막 제조방법
열 유도 상 전이법(TIPS, Thermally Induced Phase Separation)에 의한 PVDF (Polyvinylidene Fluoride) 중공사막 제조 방법에 대해 한국, 일본, 미국, 유럽의 선행특허를 조사하여 특허맵 (Patent Map)을 아래와 같이 작성하는 것이 우리의 과제이다.
1) 정량분석 : 연도, 국가, 기술, 출원인 등
2) 주요 핵심 특허를 20건 발굴하여 정성 분석 및 권리 분석 실시
- 정성분석 : 주요 출원인, 기술별, 인용/피인용 분석 등
- 권리분석 : 청구항 분석, 유사특허 비교분석 등
3) 현재까지의 기술흐름도
4) 기존 핵심 특허를 회피할 수 있는 미래 기술 개발 전략 제시

1.2 특허분석 주제 및 목적
세계적으로 물부족 문제가 중요한 경제, 사회, 환경적 문제로 대두됨에 따라 물산업에서의 핵심기술이 고분자 소재를 이용한 분리막 기술로 전환되고 있다. 대표적인 분리막 고분자 소재로 PVDF는 높은 열적안정성과 내화학성 때문에 주로 수처리에 사용되는 정밀 여과막, 한외 여과막에 널리 사용되고 있는 소재이다. 고분자 분리막 제조 방법에는 NIPS법 (nonsolvent induced phase separation, 비용매 유도 상 전이법), VIPS법 (vapor induced phase separation, 기상 유도 상 전이법), TIPS법 (thermally induced phase separation, 열 유도 상 전이법)등이 있다. 이 중 TIPS법은 주로 PVDF, PP, PE와 같은 결정성 고분자를 분리막으로 제조하기 위한 방법으로 기존의 NIPS막에 비해 비교적 높은 기계적 강도와 평균공경을 가진 대칭형태의 분리막 제조가 가능한 특징이 있다.
본 특허분석 보고서는 TIPS법을 사용한 PVDF중공사막을 제조하는데 있어 특허동향을 분석함으로써 우리나라의 기술 수준, 선지기업의 연구개발 동향 및 학심특허 현황 등을 파악하여 본 연구개발과제 수행의 타당성에 대한 객관적인 특허정보를 제공하기 위함이다.

참고자료

· 이세민, 경희대학교, 2011, 열유도 상분리 공정과 비용매유도 상분리 공정에 의한 PVDF 분리막 제조와 표면개질에 관한 연구
· 변영진, 경희대학교 대학원, 2013, 열유도 상분리와 비용매유도 상분리의 혼합공정에 의한 PVDF 중공사막의 제조와 표면 친수화에 관한 연구
· 박민수, 경희대학교, 2011, 열유도상분리공정과 연신공정을 이용한 PVDF 중공사막 제조 및 특성에 관한 연구
· 특허 원문(특허 번호) 10-2001-0046172
· 특허 원문(특허 번호) 10-2002-7014825
· 특허 원문(특허 번호) 10-2004-0071651
· 특허 원문(특허 번호) 10-2008-0007725
· 특허 원문(특허 번호) 10-2010-0037194
· 특허 원문(특허 번호) 10-2010-0062618
· 특허 원문(특허 번호) 10-2011-0105509
· 특허 원문(특허 번호) 10-2012-0149837