OMO구조의 Metal층 두께에 따른 특성평가 예비보고서

목차

1. 실험이론
1.1. OMO구조
1.2. 스퍼터링 박막
1.2.1. 원리
1.2.2. 스퍼터링의 종류
1.3. ITO
1.4. Al

2. 실험조건

3. 실험예측
3.1. 금속 타깃에 따른결과 예측
3.1.1. 금속 타깃에 따른 면저항 결과 예측
3.1.2. 금속 타깃에 따른 투과도 결과예측
3.2. 금속의 증착두께에 따른 결과 예측
3.2.1. 금속 증착두께에 따른 면저항 결과 예측
3.2.2. 금속 증착두께에 따른 투과도 결과예측

본문내용

1. 실험이론
1.1 OMO구조
그림 OMO구조
산화물 단일층으로 제작한 투명 전도막의 경우 상온에서 높은 저항을 나타낼 뿐 아니라 1×10-4 Ω-cm 이하의 비저항을 가지기 어려운 특성으로 인하여
10 ohm/square 이하의 저저항을 가지는 투명 전도막을 제작하기 위해서는 반드시 200 nm 이상의 막 두께가 요구 된다. 그러나 플렉시블 기판의 특성상 열처리가 불가능할 뿐 아니라 150 nm 이상의 두께의 산화물 층에서 발생되는 strain stress를 견디기 어려워 기판 휨 현상이 발생되게 된다. 이러한 이유로 낮은 저항이 요구되는 flexible display, flexible solar cell등의 광전 소자에 적용이 가능한 투명 전극을 플렉시블 기판상에 단일 산화물로 이루어진 투명 전극을 성막하는 데는 한계가 있다. 이러한 단층막 산화물 투명 전극의 단점을 극복하기 위하여 산화물의 높은 투과도와 금속의 낮은 저항을 모두 이용할 수있는 산화물 전도막 사이에 얇은 금속을 삽입한 형태의 다층 투명 전도막을 제작하였다. 산화물/금속/산화물 투명 전도막은 총 두께 100 nm 이하의 얇은 두께와 삽입된 금속의 우수한 strain failure 특성으로 인해 우수한 유연성을 가지고 있으며 연속적인 롤투롤 스퍼터 공정을 통해 저가, 대량 생산할 수 있다는 장점이 있을 뿐 아니라 기존 ITO 투명 전극과 달리 별도의 열처리 공정없이 3~5 ohm/sq. 의 낮은 면저항과 85 % 이상의 높은 투과도를 가지고 있다는 장점이 있다. 뿐만 아니라 다양한산화물 층을 이용하여 제작이 가능함으로써 고가의 Indium의 사용을 줄이거나 배재한 형태의 Indium-saving 혹은 Indium-free 투명 전극을 제작할 수 있다는 장점이 있다.

1.2 스퍼터링 박막
1.2.1 원리
스퍼터링(sputtering)이란 높은 에너지를 가진 입자, 주로 이온이 고체표면에 충돌할 때 질량에 비례하여 표적물질의 ......<중 략>

참고자료

· 투명 광전소자용 ZTO/Ag/ZTO 다층 투명 전극의 특성 연구
· RFSputtering방식으로 형성된 로이용 OMO 다층 박막의 산화물층에 따른 특성 변화 연구
· ㈜한광옵토 홈페이지
· Si₃N₄/SnZnO/AZO/Ag/Ti/ITO 다층박막의 설계 및 제조
· www.filmetrics.com
· 유리 기판과 플렉서블 기판에 증착된 ZTO/Ag/ZTO 다층 투명 전극의 특성 연구 = A Study on Characteristics of ZTO/Ag/ZTO Multilayer Transparent Electrode Deposited on Glass and Flexible Substrate
· RF-magnetron sputtering 으로 증착한 ZnO/Al/ZnO 다층박막의 광학적,전기적 특성 연구
· A study on the optical and electrical characteristics for ZnO/Al/ZnO multilayer film deposited by RF-power magnetron sputtering