3. Thermal evaporation 예비

목차

1. 목적 Objective
2. 요지 Summary
3. 이론 Theory
4. 시약, 기구, 장치 Reagents, Instruments, Apparatus
5. 실험 방법 및 과정 Experimental Procedure

본문내용

1. 목적 Objective
Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는다.

2. 요지 Summary
박막을 증착 시키는 방법들을 알아보고, 그 중 Thermal evaporation방법으로 알루미늄 박막을 증착시킨다.

3. 이론 Theory
3-1. 박막이란
두께가 단 원자 층에 상당하는 0.1nm에서 10μm정도의 두께를 가진 기판 상에 만들어진 고체 막으로 정의된다. 이와 같은 박막은 형성과정이 보통의 덩어리재료(Bulk)와 다르기 때문에, 구조차이에 의한 막 고유의 특성을 보유하게 되고 두께가 얇아짐에 따른 형상효과를 나타내게 된다. 즉, 기존의 Bulk와는 전혀 새로운 전기적, 자기적 및 광학적 효과를 나타내며, 이런 현상을 이용하여 각종 전기소자, 집적회로, 광학부품 등 여러 응용분야에 이용되고 있다.

3-2.박막제작방법
박막을 제작하는 방법으로는 수많은 방식이 제안되고 있으며, 각 방식들은 서로 특징 상 큰 차이점을 나타내고 있다. 따라서, 증착되는 박막의 특성과 용도 등에 맞는 최적의 박막제작법을 선택하는 것이 중요하다. 그림 에 각종 박막제작법을 나타내었다. 박막을 증착시키는 방법으로 크게 물리적인 방법(PVD, Physical Vapor Deposition)과 화학적인 방법(CVD, Chemical Vapor deposition)으로 대별된다. 또한, PVD법은 진공 증착법과 스퍼터법, 이온플레이팅법으로 나눌 수 있다. 그 중 진공 증착법은 진공(10-4Torr) 중에서 고체 또는 액체를 가열하여 분자 또는 원자로 분해한 후 기판표면상에 응축시키는 방법으로, 장치 구성이 간단하고, 매우 많은 물질에 쉽게 적용이 가능하기 때문에 지금 까지 많이 사용되어 오고 있는 방식이다. 스퍼터법은 진공 증착법으로는 제작 곤란한 고융점 재료 또는, 활성 재료막을 조성․특성 등을 엄밀히 제어하면서 제작할 수 있는 방식으로, 현재 박막제작의 모든 분야에 있어서 가장 많이 응용되고 있는 방식이다.

참고 자료

없음