반도체&반도체 공업의 이해

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최초등록일 2010.01.17 최종저작일 2010.01
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    소개

    반도체&반도체 공업의 이해

    목차

    Ⅰ.반도체 관련 이론
    1. 고체의 에너지 밴드 구조
    2. 전자 이동도
    3. 금속의 전기 비저항
    4. 상용 합금의 전기적 특성

    Ⅱ.반도체 공업
    1. 반도체 공업의 특징
    2. 반도체의 원리와 종류
    3. 반도체 제조원료
    4. 반도체 제조기술

    본문내용

    Ⅰ. 반도체 관련 이론
    1. 고체의 에너지 밴드 구조
    전도체, 반도체 및 많은 절연체(부도체)에서 오직 전자 전도에 의해서 전류가 흐르며, 전기 전도율의 값은 전도 과정에 직접 참여하는 전자 수에 밀접한 영향을 받는다. 그러나 전기장이 가해졌을 경우에 원자 안에 원자가 가속되는 것은 아니다. 어떤 재료에서 전기전도에 직접 참여하는 전자수는, 에너지에 대한 전자 준위들의 배열과, 이 전자 준위들이 전자에 의하여 채워지는 방법에 따라 크게 달라진다.
    개개 원자는 명백히 분리된 에너지준위를 가지고 있고, 각 에너지준위는 shell, 그 다음 subshell으로 다시 배열된다



    4. 반도체 제조기술
    ① 반도체 제로를 위한 환경
    반도체 공정은 다른 산업의 제조공정과는 달리 공정상의 청정도 및 안전이 공정의 경제적인 운전을 위해 필수적인 요소이다. 반도체 제조공정에서 공기 중에 먼지 입자가 많이 존재하는 경우에 이 입자들이 웨이퍼나 혹은 사진공정의 포토마스크 상에 앉게 되면 결과적으로 만들어지는 소자에 큰 결함을 야기하게 된다. 이러한 경향은 사진공정에서 더욱 중요하게 나타나는데 이는 포토마스크 상의 먼지 입자가 그대로 웨이퍼 상의 소자에 반영되기 때문이다. 이러한 이유 때문에 반도체 공정은 항상 청정실(clean room)내에서 진행된다.
    청정실은 단위부피의 공간상에 먼지 입자의 총 개수가 온도 및 습도와 함께 엄격히 조절될 수 있는 공간을 말한다.

    참고자료

    · 반도체 설계의 이해
    · 특허청 저 | 특허청 발행
    · 반도체 제조기술의 이해
    · 이국표 저 | 영진전문대학 출판부 발행
    · 반도체 제대로 이해하기
    · 강구창 저 | 지성사 발행
    · 반도체 설계의 이해
    · 특허청 [편] 저 | 특허청 발행
    · 반도체 소자의 이해
    · 김원찬 저 | 大英社 발행
    · (WTO 시대의)반도체 지적재산권의 이해
    · 유복근 저 | 法英社 발행
    · 半導體工業年鑑
    · 經濟部技術處 저 | 經濟部技術處 발행
    · 半導體工業 의 現況 과 育成方向
    · 정장섭 저 | 韓國産業技術振興協會 발행
    · 반도체 공업의 위험관리 체크포인트
    · 임만식 저 | 韓國消防安全協會 발행
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