원자층 증착장치에 의한 TiO2 박막 코팅된 폴리머 절연체의 표면 및 전기적 특성의 향상 (Improvement on Surface and Electrical Properties of Polymer Insulator Coated TiO2 Thin Film by Atomic Layer Deposition)

서지정보

· 발행기관 : 한국전기전자재료학회
· 수록지 정보 : 전기전자재료학회논문지 / 29권 / 7호 / 440 ~ 444페이지
· 저자명 : 박용섭, 김남훈

초록

TiO2 박막은 원자층 증착 장치(ALD)를 이용하여 폴리머 절연체와 실리콘 기판위에 합성하였다. 다양한 ALD 사이클 수에 따라 제작되어진 TiO2 박막의 표면과 전기적 특성이 고찰되었다. 합성되어진 TiO2 박막은 높은 접촉각과 부드러운 표면을 나타내었다. 도한 TiO2 박막의 접촉각은 ALD 사이클 수가 증가함에 따라 증가하였다. 박막의 rms 표면 거칠기 값은 ALD 사이클 수의 증가에 따라 약간 거칠어 졌다. 다양한 조건에서 합성되어진 TiO2 박막 표면에서 누설전류 값은 균일하였고, 이 값은 ALD 사이클 수의 증가에 따라 감소하였다. 결과로서 자기세정 응용을 위한 TiO2 박막의 특성들은 ALD 사이클 수에 의존하는 것을 확인하였다.

영어초록

Titanium oxide (TiO2) thin films were synthesized on polymer insulator and Si substrates by atomic layer deposition (ALD) method. The surface and electrical properties of TiO2 films synthesized at various ALD cycle numbers were investigated. The synthesized TiO2 films exhibited higher contact angle and smooth surface. The contact angle of TiO2 films was increased with the increase of ALD-cycle number. Also, the rms surface roughness of films was slightly rough with the increase of ALD-cycle number. The leakage current on TiO2 film surface synthesized at various conditions were uniformed, and the values were decreased with the increase of ALD-cycle number. In the results, the performance of TiO2 films for self-cleaning critically depended on a number of ALD-cycle.

참고자료

· 없음