RF Magnetron Sputtering에 의해 제조된 Hap와 hap-Ag 복합코팅층의 미세조직

서지정보

· 발행기관 : 한국세라믹학회
· 수록지 정보 : 한국세라믹학회지 / 41권 / 4호 / 9 ~ 9페이지
· 저자명 : 이희정, 박상식, 오익현, 이병택

초록

RF magnetron sputtering법에 의해 단상의 하이드록시아파타이트와 하이드록시아파타이트-은 복합코팅층을 ZrO2와 Si 웨이퍼 기판에 코팅하였다. 이들 코팅층들의 두께 0.7~1.0 ㎛범위였으며 또한 거칠기(roughness)는 3~4 nm였다. 열처리된 HAp 코팅층은 나노크기의 결정들로 구성되어 있었으며, 반면 Ag가 함유된 복합코팅층의 경우 결정질과 비결정질이 혼재되어 있었다. 열처리 전 HAp코팅층의 Ca/P비는 1.9였고, Ag의 함량이 증가함에 따라 비는 감소하는 경향을 나타내었다. 또한 Ag함량이 증가함에 따라 HAp 코팅층의 미소 경도는 감소하였다.

참고자료

· 없음