Maskless lithography 응용을 위한 마이크로렌즈 어레이 개발 (Development of Microlens Array for Maskless Lithography Application)

서지정보

· 발행기관 : 한국마이크로전자및패키징학회
· 수록지 정보 : 마이크로전자 및 패키징학회지 / 16권 / 4호 / 33 ~ 39페이지
· 저자명 : 남민우, 오해관, 김근영, 서현우, 위창현, 송요탁, 양상식, 이기근

초록

마스크리스 리소그래피(maskless lithography)에 응용하기 위한 마이크로렌즈 어레이(microlens array, MLA)가
석영의 습식 식각과 UV 접착제(UV adhesive)의 코팅을 바탕으로 개발되었다. 제작된 MLA의 초점거리는 ~45 μm 정도
였으며, 집광되는 광선의 초점은 ~1 μm로 측정되었다. MLA를 통과하며 초점을 맺은 빔(beam)의 크기 및 세기가 charge
coupled device (CCD) 카메라와 빔 프로파일러(beam profiler)를 이용하여 각각 측정되었으며, 일정한 세기의 점들이 초
점면에서 고르게 관찰되었다. 초점거리는 코팅된 UV 접착제의 두께에 따라 변화하였으며, UV 접착제의 두께가 두꺼울
수록 짧아지는 경향을 보였다. 일반적인 마스크 얼라이너(mask aligner)를 이용한 MLA의 UV 포커싱(UV focusing)이 감
광막(photoresist, PR) 상에서 실시되었으며, MLA를 통과한 빛이 감광막 위에 일정하게 집광되었다. 마스크 얼라이너와
MLA 사이의 거리 변화에 따라 감광막에 구현된 패턴 사이즈가 조절 되었다. 고온에서 오랜 시간이 지난 후에도 소자의
특성은 전혀 변함이 없었다.

영어초록

A microlens array (MLA) was developed based on the wet-etched quartz substrate and coating of UV adhesive
on the substrate for maskless lithography application. The developed MLA has the focal length of ~45 μm and the spot
size of ~1 μm. The spot size of the focused beam passing through the MLA was detected by CCD camera, and its intensity
was monitored by beam profiler. Uniform spots with nearly identical intensities were observed on the focal plane when
a beam passes through the fabricated MLA. The focal length was varied depending on thickness of the coated UV
adhesive. The thicker the thickness of the UV adhesive was, the shorter the focal length of the MLA was. With a general
mask aligner, UV beam focusing was tested onto photoresist (PR). The beams were well focused onto PR when UV passes
through the MLA. Depending on the variable distances from the MLA, beam sizes onto PR were controlled. Even at
high temperature for a long time, the performances of the MLA were not changed.

참고자료

· 없음