이중 이온빔 스퍼터링 방식을 사용한 보조 이온빔의 Ar/O2 가스 유량에 따른 Ta2O5 박막의 제조 및 특성분석

서지정보

· 발행기관 : 한국세라믹학회
· 수록지 정보 : 영문지 / 40권 / 12호 / 5 ~ 1169페이지
· 저자명 : 윤석규, 김회경, 김근영, 김명진,이형만, 이상현, 황보창권, 윤대호

초록

이중 이온빔 스퍼터링 (Dual ion-beam sputtering)을 사용하여 보조이온건의 Ar/O2 가스유량 변화에 따라 Si-(111) 기판과 glass에 Ta2O5 박막을 증착시켰다. 보조 이온총의 산소 가스량의 비가 감소함에 따라서 증착되는 Ta2O5 박막의 성장속도는 감소하였으며, 굴절률은 O2 가스의 양이 0~12 sccm인 범위에서 2.09(at 1550 nm)로 일정한 값을 나타내었다. Ar:O2가 3:12인 조건에서 화학양론 조성인 Ta2O5를 형성하였으며, 표면 거칠기도 가장 작은 값을 나타내었다.

참고자료

· 없음