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2차원 ZnO 나노벽 구조 제조 (Fabrication of 2-Dimensional ZnO Nanowall Structure)

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최초등록일 2025.05.10 최종저작일 2005.07
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2차원 ZnO 나노벽 구조 제조
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국세라믹학회
    · 수록지 정보 : 한국세라믹학회지 / 42권 / 7호 / 521 ~ 524페이지
    · 저자명 : 김영정, 민준원, 김영철, 안승준, Guoshong Cho

    초록

    수십 나노 크기의 ZnO 단결정 입자로 이루어진 벽두께 100nm 의 ZnO 2-D 나노벽을 저온 수용액법을 이용하여 성장시켰다. 전기화학증착(Electro Chemical deposition) 방법으로 ZnO 종자정을 투명전도막(ITO)이 코팅된 유리 기판 위에 코팅시켰다. ZnO 나노벽 구조물을 60℃인 hexamethenamine과 Zn Nitrate를 함유하는 수용액 중에서 20-40시간 유지시켜 성장시켰다. 나노벽 구조물은 전기화학증착 조건 즉 유지시간과 가해주는 전압에 따라 바뀌며, 550-700nm 영역에서 포토루미네센스를 보여준다.

    영어초록

    ZnO 2-D nanowall structure with around 100nm thickness, which is composed of tens of nm scale ZnO single crystals, was fabricated through the low temperature chemical solution growth method. Electro chemical deposition(ECD) technique was applied to attach the ZnO seed crystals on ITO coated glass substrate. The ZnO nanowall structure was grown in the 0.015 mol% of aqueous solution of zinc nitrate and hexamethenamine at 60℃ for 20-40 hours. The nanowall structure depends on the ECD condition or the applied voltage and duration time. The nanowall shows a photoluminescence around 550-700nm spectrum range.

    참고자료

    · 없음
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