양자점을 이용한 플래시 메모리 기반 뉴로모픽 소자 연구 (A Study of Neuromorphic Devices Based on Flash Memory Using Quantum Dots)

서지정보

· 발행기관 : 한국물리학회
· 수록지 정보 : 새물리 / 72권 / 10호 / 726 ~ 733페이지
· 저자명 : 최지수, 양정목, 김예은, 강다현, 박찬규, 정소연, 김석규, 김용덕, 손병희, 장문규

초록

뇌에서는 외부 자극에 의해 뉴런들의 연관성이 높아지면 시냅스를 통하여 연결 강도가 달라지게 된다. 본 연구에서는 양자점을 사용하여 이러한 시냅스를 구현하는 소자를 제작하고 평탄대 전압을 변화시키며 메모리 효과를 확인하였다. Pt/Cr/Al2O3/Quantum Dots/SiO2/Si 기판의 수직 구조를 가진 소자를 제작하였고, 소자의 동작을 위해 게이트 전극에 전압을 가하였다. 이때, 절연막 손상이 발생하지 않는 적절한 프로그래밍/이레이징 전압 범위 설정이 필요하므로 전류-전압을 측정하여 절연막의 항복 전압을 도출하였다. 이후, 적절한 프로그래밍 전압을 인가하며 정전용량-전압 측정을 진행하였고 이를 통해 양자점의 메모리 효과를 확인하였다. 우리는 소자에 인가하는 전압의 크기와 시간을 변경하며 양자점에 포획되는 전자의 수를 조절하였고, 양자점에 포획된 전자의 수에 따라 평탄화 전압을 변화시켜 여러 단계의 상태를 표현할 수 있었다. 이를 통해 상태가 다양한 강도의 아날로그 형태로 변화하는 시냅스 특성을 표현할 수 있는 가능성을 확인하였다.

영어초록

In the human brain, when the neuron association is increased by an external stimulation, the strength of the connection changes through the synapses. The semiconductor devices emulating these synapses are called neuromorphic devices. In this research, a device acting as a synapse was manufactured using quantum dots (QDs), and the memory effect was confirmed by changing the flatband voltage (VFB) through the injection and depletion of electrons into the QDs. The fabricated device contained a vertical gate stack Pt/Cr/QDs/Al2O3/SiO2/Si substrate, and a current-voltage characteristic was used to determine the breakdown voltage and the select programming voltage within a range that did not affect the oxide. Subsequently, the capacitance-voltage was measured by applying the programming voltage, and the memory effect of QDs was confirmed. The number of electrons stored in QDs were adjusted by changing the voltage and time to the device, and the state of several steps was implemented by varying the VFB depending on the number of electrons stored in QDs. Through the manufactured device, we confirmed that the implementation of a synaptic device was possible with multiple connection strengths.

참고자료

· 없음