Y2O3 세라믹스의 미세구조 및 플라즈마 저항성 (Microstructure and plasma resistance of Y2O3 ceramics)

서지정보

· 발행기관 : 한국결정성장학회
· 수록지 정보 : 한국결정성장학회지 / 24권 / 6호 / 268 ~ 273페이지
· 저자명 : 이현규, 이석신, 김비룡, 박태언, 윤영훈

초록

Y2O3 세라믹 소결체를 제작하기 위해, Y2O3 분말을 분산한 상태에서 슬러리에 pH 조절제인 NaOH를 첨가하였으며 결합제로는 PVA, 가소제로는 PEG를 첨가하여 열분무 건조 공정을 거쳐 Y2O3 과립형 분말을 제조하였다. Ø14 mm 크기의 Y2O3 세라믹 성형체를 성형하고, 1650oC의 온도에서 소결하여 Y2O3 세라믹 소결체를 제작하였다. Y2O3 소결체의 미세구조, 밀도 및 내플라즈마 특성이 성형압력 및 소결시간에 따라 분석되었다. Y2O3 소결체는 CHF3/O2/Ar 플라즈마에 노출시켜, Ar+이온빔에 의한 물리적반응 식각과 CHF3로부터 분해된, F− 이온에 의한 화학적반응 식각에 의한 건식 식각 처리가 이루어졌다. 본 연구에서 Y2O3 소결체 소결시간의 증가에 따라, 비교적 높은 밀도를 나타내었으며, 내플라즈마 특성이향상되는 것으로 나타났다.

영어초록

Y2O3 ceramic specimens were fabricated from the granular powder, obtained by spray drying process from theslurry. The slurry was prepared by mixing PVA binder, NaOH for Ph control, PEG and Y2O3 powder. The Y2O3 specimenwas shaped in size of Ø14 mm and then sintered at 1650oC. The characteristics, microstructure, densities and plasmaresistance of the Y2O3 specimens were investigated with the function of forming pressure and sintering time. Y2O3specimens were exposed under the CHF3/O2/Ar plasma, the dry etching treatment of specimens was carried out by thephysical reaction etching of Ar+ion beam and the chemical reaction etching of F− ion decomposed from CHF3. Withincreasing sintering time, Y2O3 specimens showed relatively high density and strong resistance in plasma etching test.

참고자료

· 없음