결정질 실리콘 태양전지의 Ag 촉매층을 이용한 나노 텍스쳐링 공정에 관한 연구 (The Study of Nano-texturing Process for Crystalline Silicon Solar Cell Using Ag Catalyst Layer)

서지정보

· 발행기관 : 한국전기전자재료학회
· 수록지 정보 : 전기전자재료학회논문지 / 25권 / 1호 / 58 ~ 61페이지
· 저자명 : 오병진, 임동건, 여인환, 김민영

초록

Ag촉매 반응에 의한 나노크기의 텍스쳐링 구조 형성에 관한 연구를 하였다. Ag 촉매 반응을 이용한 텍스쳐링은 습식 텍스쳐링이기 때문에 기판에 가해지는 데미지를 최소화할 수 있으며 저렴하고 단순한 공정이다. 플라즈마를 사용하지 않기 때문에 기판에 가해지는 데미지를 최소화하며 나노크기의 구조물을 형성시킬 수 있다. 60℃ NaOH(6%)용액에서 150s 동안 Saw damage를 제거하고 진공증착법을 이용하여 Ag(99.999%)를 1 – 10 nm 증착하였다. 이후에 HF : H2O2 : H2O = 1 : 5 : 10 용액에서 80s - 220s 동안 텍스쳐링을 실시하였다. 이때 Ag는 촉매 역할을 하여 나노 크기의 텍스쳐링 구조를 얻게 한다. NH3과 H2O2의 혼합용액에서 Ag를 제거 한 후에 반사도를 측정하였다. 결과적으로 400 nm – 1,000 nm에서 9% 미만의 낮은 반사도를 얻을 수 있었다. 나노 크기의 텍스쳐링 구조물로 인하여 특히 단파장 대역에서의 반사도가 낮아지는 것을 확인하였다.

영어초록

In our report a relatively simple process for fast nano-texturing of p-type(100) CZ- silicon surface using silver catalyzed wet chemical etching in aqueous hydrofluoric acid (HF) and hydrogen peroxide solution(H2O2) at room temperature. The wafers were saw-damaged by NaOH(6 wt%) at 60℃for 150s. To obtain a nano-structured black surface, a thin layer of silver with thickness of 1 - 10 nm was deposited on the surfaces by evaporation system. After this process the samples were etched in HF : H2O2 : H2O = 1:5:10 at room temperature for 80s - 220s. Due to the local catalytic of the Ag clusters,this treatment results in the nano-scale texturing on the surface. This resulted in average reflectance values less than 9% after the silver on the surface of the wafers were removed.

참고자료

· 없음