전자 현미경을 이용한 전자빔 리소그래피 장치의 구현 (Implementation of Electron-beam Lithography by Using a Scanning Electron Microscope)

서지정보

· 발행기관 : 한국물리학회
· 수록지 정보 : 새물리 / 60권 / 8호 / 930 ~ 935페이지
· 저자명 : 김진태, 전병천, 황인각

초록

상용의 전계방출 전자현미경에 빔 제어 프로그램과 PC, 그리고 DAQ card를 장착하여 전자빔 리소그래피 장비를 구성하였다. 전자현미경의배율 설정에 따라 리소그래피가 가능한 최대 패턴 크기를 100 μm × 100 μm 에서 780 μm × 780 μm 까지 변화시킬 수 있었다. 또한 각 배율에 따라 최적화된 Dose값을 실험적으로조사하였다. 마지막으로, 개발된 장치를 이용하여 수백 nm의 주기를 갖는광자결정 구조를 성공적으로 제작하였다.

영어초록

An electron beam lithography system using a conventional field-emission scanning electron microscope (SEM) is developed. The voltage signal injected into the scan coils of the SEM was controlled by using a beam-control program based on a CAD input file. The maximum area covered by single lithography could be adjusted from 100 μm × 100 μm to 780 μm × 780 μm by reducing the magnification of the SEM. The dependence of the optimal dose value on the magnification was experimentally investigated. Finally, photonic crystal patterns with a lattice size of 500 nm were successfully fabricated using our system.

참고자료

· 없음