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수소화 및 전자빔 사진식각 기술에 의한 비가역적마이크로 크기의 강자성 구조체 개발

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최초등록일 2025.03.13 최종저작일 2006.01
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수소화 및 전자빔 사진식각 기술에 의한 비가역적마이크로 크기의 강자성 구조체 개발
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    서지정보

    · 발행기관 : 대한전자공학회
    · 수록지 정보 : 전자공학회논문지 - SD / 43권 / 1호 / 7 ~ 12페이지
    · 저자명 : 윤의중

    초록

    본 연구에서는 수소화 와 전자빔 사진식각 공정을 이용하여 비가역적이며 안정화된 마이크로 크기의 강자성 구조체를 개발 하였다. FexZr100-x (x=65-85%)의 평균성분과 약 1 nm 정도의 성분변조주기를 가지며 총두께가 100 nm 정도인 성분변조(CM) 된 Fe-Zr 박막이 적층되었다. CM Fe-Zr 박막의 자성성질은 SQUID magnetometer, VSM, 그리고 B-H loop tracer로 측정하였다. 수소화 과정 후에 CM 박막은 유사한 균질의 합금 막 보다 모든 성분에서 더 큰 자기 모멘트를 나타내었고 Fe80Zr20 성분에서 가장 큰 증가를 보였다. 수소화 된 Fe80Zr20 CM 막은 상온에서 aging을 거친 후에 아주 큰 자기모멘트 증가를 보여 안정되고 비가역적이며 연자성 상태로 변화됨을 알 수 있었다. 전자빔 사진식각기술을 사용하여 원형의 윈도우를 Fe80Zr20 CM막 위에 형성한 후에 이 윈도우를 통하여 선택적인 수소화를 실행하였다. 사진식각기술을 통한 수소화는 49 %의 자기 모멘트를 증가 시켰다. 이 방법은 나노 크기의 구조에도 적용할 수 있다.

    참고자료

    · 없음
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