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SrRuO3 전극 박막 위에 증착된 PZT 박막의 구조 및 강유전 특성 (Structural and Ferroelectric Properties of PZT Thin Films Deposited on SrRuO3 Electrode Films)

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최초등록일 2025.03.13 최종저작일 2016.10
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SrRuO3 전극 박막 위에 증착된 PZT 박막의 구조 및 강유전 특성
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국전기전자재료학회
    · 수록지 정보 : 전기전자재료학회논문지 / 29권 / 10호 / 620 ~ 624페이지
    · 저자명 : 이명복

    초록

    도전성 SrRuO3 박막을 하지층으로 사용하여 펄스 레이저 증착법에 의하여 강유전체 Pb(Zr0.52Ti0.48)O3 (PZT) 박막을 SrTiO3(100) 기판 위에 성장시켜 결정구조와 강유전 특성에 대하여 연구하였다. PZT 박막은 격자정합성이 잘 맞는 의입방정의 SrRuO3 박막 위에 (00l) 방향으로 성장하였다. PZT 박막의 강유전성 및 전기적 특성의 두께 의존성에 대하여 조사하였다. 두께 400 nm의 PZT 박막은 29.0 µC/cm2의 잔류분극(Pr) 및 83 kV/cm의 항전계(Ec) 를 보였으며, PZT 박막의 두께 감소에 따라 Pr은 감소하였고 Ec는 증가하는 경향을 보였다. 유전율도 PZT 박막의 두께 감소에 따라 점차적으로 감소하였다. PZT 박막의 절연파괴 전계는 박막의 두께와 무관하게 약 1 MV/cm로 거의 유사한 값을 나타내었다.

    영어초록

    Ferroelectric Pb(Zr0.52Ti0.48)O3 (PZT) films were deposited on SrTiO3(100) substrate by using conductiveSrRuO3 films as underlayer and their structural and ferroelectric properties were investigated. PZT films weregrown in (00l) orientation on well lattice-matched pseudo-cubic SrRuO3 films. Thickness dependence of ferroelectricand electrical properties of PZT films was investigated. PZT film with 400 nm thickness showed a remanentpolarization (Pr) of 29.0 μC/cm2 and coercive field (Ec) of 83 kV/cm, and Pr decreased and Ec increased withthickness reduction. The dielectric constant for PZT films showed gradual decrease with thickness reduction.
    Breakdown field of PZT films did not show the thickness dependence and displayed as high value as 1 MV/cm.

    참고자료

    · 없음
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