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Solid-State Photo Lithography 개요 및 졸업논문

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최초등록일 2019.01.22 최종저작일 2012.11
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Solid-State Photo Lithography 개요 및 졸업논문
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    목차

    Ⅰ. 緖 論
    1. 주제 선정 이유

    Ⅱ. 本 論
    1. Photo lithography
    2. 사용 부품 리스트
    3. 설계 과정 및 실험
    4. 실 험 결 과

    Ⅲ. 結 論
    1. 고 찰

    참고문헌

    본문내용

    緖 論
    1. 주제 선정 이유
    apstone Design 주제를 Photo lithography로 정한 이유로는 전기공학도로서 기판 및 소자를 실험시간과 설계시간에 많이 이용하는데, 정작 이 기판 및 소자가 어떠한 방식으로 만들어지는지 잘 알지 못하는 경우가 많다. 이 점에 기인하여 기판 및 소자를 어떠한 공정을 거쳐 만들어지는지 찾아보던 와중에 Photo lithography라는 기술을 알게 되었다. 이 기술에 사용되는 장비는 최소 수억에서 최대 수백억에 달하는 아주 고가의 장비로서 반도체 회사에서나 사용을 하기 때문에 쉽게 접할 수 없는 장비이다.
    그러나 우리 조에서 만들려는 Solid-State Photo lithography 장비는 UV(Ultra Violet) LED와 몇 개의 부속품만으로 기존 Photo lithography장비에 준하는 정밀도를 얻을 수 있고, 저렴하게 만들 수 있다. 그렇기 때문에 이 장비를 만들어 학과 실험실에 비치하면 학생들이 Photo lithography라는 공정을 통해 반도체 소자가 만들어진다는 것을 이해하면서 수업을 들을 수 있기 때문에, 학업 증진에 효과가 있을 것이라 생각하여 만들어 보기로 했다.
    그리고 지도교수님과의 상의 결과 복잡하지 않으면서도 우리가 사용하는 소자에 대해서도 정확히 인지할 수 있는 기회가 될 것이고, 아이디어가 있는 소재를 Capstone Design 주제로 잡는 것이 좋을 것 같다는 판단을 내렸기 때문에 최종적으로 Solid-State Photo lithography 장비를 만들어보는 것으로 결론을 내렸다.

    本 論
    2. Photo lithography
    1) 개요
    lithography는 'Litho(돌) + graphy(그림, 글자)'의 합성어로 석판술을 뜻하며, Photo lithography는 양자로 lithography를 한다는 뜻이므로『노광기술 또는 노출기술』이라고도 한다. Silicon Wafer 위에 감광 성질이 있는 Photoresist 빛을 조사하면 화학반응을 일으키는 재료. 집적회로의 생산에 없어서는 안 되는 재료 중 하나.

    참고자료

    · 『물리과학 첨단기술』,「나노스케일 3D형상 패터닝기술」, 이재종․장원석
    · 「나노패턴 응용 유기태양전지 연구동향 Ⅰ」, 한국 기계 연구원, 최대근
    · 「나노패턴 응용 태양전지 연구동향Ⅱ」, 한국 기계 연구원, 최대근
    · 「그래핀과 나노 패터닝」, 중앙대학교 화학신소재공학부, 김수영
    · 『wileyonlinelibrary.com』「A Portable, Benchtop Photolithography System Based on a Solid-State Light Source」, Northwestern University Department of Materials Science and Engineering, M.D.Huntington‧Prof.T.W.Odom, 2011.12.09.
    · 『NANO LETTERS』「Nanoscale InGaSb Heterostructure Membranes on Si Substrates for HighHole Mobility Transistors」 , Kuniharu Takei 외 12명
    · 네이버 지식백과
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