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Ti 또는 Ti/TiN underlayer가 Al 박막의 배향성 및 면저항에 미치는 영향

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최초등록일 2016.04.02 최종저작일 2000.01
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Ti 또는 Ti/TiN underlayer가 Al 박막의 배향성 및 면저항에 미치는 영향
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국재료학회
    · 수록지 정보 : 한국재료학회지 / 10권 / 1호
    · 저자명 : 이원준, 나사균

    초록

    Underlayer의 종류 및 두께가 Al 박막의 배향성 및 면저항 변화에 미치는 영향을 연구하였다. Al의 underlayer로서 sputtering 방식으로 증착되는 Ti와 TiN이 적층된 구조인 Ti/TiN이 사용되었으며, 각각에 대해 두께를 변화시키면서 Al 박막의 배향성, 면저항을 조사하였고, 400˚C, N2 분위기에서 열처리하면서 면저항의 변화를 조사하였다. Ti만을 Al의 underlayer로 사용한 경우, Ti두께가 10nm 이상이면 우수한 Al<111> 배향성을 나타냈으며 Al-Ti 반응 때문에 열처리 후 Al 배선의 면저항이 크게 상승하였다. Ti와 Al사이에 TiN을 적용함에 의해 Al<111> 배향성은 나빠지나 Al-Ti 반응에 의한 면저항의 증가는 억제할 수 있었다. Ti/TiN underlayer의 경우, 우수한 Al<111> 배향성을 확보하기 위한 Ti의 최소두께는 20nm이었고, Al-Ti 반응을 억제하기 위한 TiN의 최소두께는 20nm이었다.

    참고자료

    · 없음
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