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청사진의 광화학 결과보고서2025.11.131. 자외선과 광화학 반응 청사진 제조는 자외선을 통한 광화학 반응을 이용합니다. ammonium ferric citrate와 potassium ferricyanide를 혼합한 감광 용액을 바른 종이를 자외선에 노출시키면 철 이온의 환원 반응으로 청사진의 색변화가 관찰됩니다. UV 램프와 태양 직사광선의 자외선 파장 차이로 인해 색변화의 선명도가 달라지며, UV-A, UV-B, UV-C 등 여러 파장의 자외선이 포함되어 있습니다. 2. 선크림의 SPF 값과 자외선 차단 SPF(Sun Protection Factor) 값이 높을수록 ...2025.11.13
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포토리소그래피와 식각 공정을 이용한 미세 패턴 형성2025.11.171. 포토리소그래피(Photolithography) 웨이퍼에 감광제(Photoresist)를 코팅하고 UV 빛을 조사하여 패턴을 형성하는 공정입니다. 본 실험에서는 양성 감광제 AZ1512를 사용하여 클리닝, PR 도핑, 소프트 베이킹, UV 노광, 현상, 하드 베이킹 단계를 거쳤습니다. 양성 감광제는 빛을 받은 부분의 폴리머 분자간 결합이 약해져 현상액에 의해 제거되므로 노광된 부분이 마스크와 동일한 패턴으로 형성됩니다. 해상도는 Rayleigh 관계식에 의해 결정되며, 파장이 짧고 개구수(NA)가 클수록 미세한 패턴을 만들 수 ...2025.11.17
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일반화학실험 청사진의 광화학 예비보고서2025.01.121. 청사진의 광화학 직접 청사진을 만들면서 특정한 빛에 의해 감광용액 속의 이온들이 산화되고 환원되는 것으로 청사진의 광화학이 적용되는 것을 이해한다. 또한 감광처리된 종이의 감광성을 이용하여 선크림의 자외선 차단 정도를 비교하고 확인한다. 2. 감광제와 증감제 감광제 또는 증감제는 감도 즉 감광성을 높이는 용도로 사용되는 물질이다. 화학반응이 일어나기 위하여 에너지가 필요한데 한 물질이 빛에너지를 흡수했는데 흡수한 원자나 분자자체가 화학반응을 일으키지 않고 다른 분자에게 에너지를 주게 되면 그 분자가 화학반응을 일으키는 경우가 ...2025.01.12
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청사진의 광화학 예비2025.05.091. 청사진 제작 이 실험에서는 cyanotype process를 통해 청사진을 인쇄하여 자외선에 의한 화학반응을 관찰합니다. ammonium ferric citrate와 potassium ferricyanide를 섞어 만든 감광용액을 도화지에 바르고 자외선에 노출시키면 Fe(III) 이온이 Fe(II) 이온으로 환원되어 푸른색이 나타납니다. 다양한 stencil 이미지를 만들어 감광 처리한 종이 위에 올려놓고 자외선을 쪼여주면 그 이미지를 인쇄할 수 있습니다. 2. 자외선과 건강 최근 지구 오존층 파괴로 인해 태양으로부터의 자외선...2025.05.09
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PDMS를 이용한 Micro pyramid 제작2025.05.121. 포토 공정 포토 공정은 PR이 도포된 웨이퍼 위에 포토마스크를 통과한 광원을 쬐어줌으로써 원하는 패턴을 만들어 내는 작업이다. Exposure 과정은 빛을 이용해 웨이퍼에 회로를 그려넣는 노광을 말하며, Develop 과정에서 빛을 쬐어 변성된 PR을 제거해줌으로써 원하는 패턴을 가진 과자틀이 만들어지게 된다. Positive PR은 노광되지 않은 영역을 남기고, Negative PR은 노광된 영역만 남겨 사용한다. 2. 식각 공정 Wet etching은 etchant를 이용해 식각하며 화학적 반응을 이용한다. 등방성 식각은 ...2025.05.12
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리소그라피 장비 종류 및 구동 방법2025.01.061. 리소그라피 리소그라피는 반도체 또는 TFT 제작 공정에서 감광제(PR)을 이용하여 증착된 막에 일정한 Pattern을 형성하는 공정으로, 증착과 세정 이후의 PR도포, 노광(Exposure), 현상(Develop)까지의 공정을 포함한다. 추가로 식각(Etching)과 PR 박리까지 포함하는 경우도 있다. 일반적으로 a-Si의 경우 5 mask 공정이므로, 5번의 Photo 공정을 수행하게 된다. 2. 리소그라피 장비 종류 리소그라피 장비에는 접촉형(Contact type), 근접형(Proximity type), 프로젝션형(Pr...2025.01.06
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photolithography 및 etching 공정 레포트2025.01.241. 반도체 공정 이 보고서는 반도체 제조 공정에 대해 자세히 조사하여 반도체 공정에 관한 전반적인 내용을 다루고 있습니다. 주요 내용으로는 반도체의 정의와 특성, 반도체 8대 공정(웨이퍼 준비, 산화, 증착, 포토리소그래피, 식각, 금속화, 전기적 테스트, 패키징)에 대한 설명과 실험 과정 및 결과 분석이 포함되어 있습니다. 2. 포토리소그래피 포토리소그래피 공정은 PR(포토레지스트)이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜 성질이 변화하는 원리를 이용하여, 원하는 패턴의 마스크를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 마스크의 패턴...2025.01.24
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[식품분석실험 레포트] 0.1N 과망간산칼륨 표준용액을 이용한 과산화수소와 탄산칼슘의 정량2025.05.131. 산화 환원 적정 산화 환원 적정용량분석법에서 산화 환원 반응을 이용한 적정법을 산화 환원 적정이라고 한다. 산화란 원자 또는 이온이 전자를 잃는 것을 말하고, 환원이란 원자 또는 이온이 전자를 얻는 것을 말한다. 산화제의 표준용액으로 환원성 물질을 적정하는 것은 산화적정 이라고 하고, 환원제의 표준용액으로 산화성 물질을 적정하는 것은 환원적정이라고 한다. 전자를 얻는 성질이 강할수록 산화제의 성질도 강해진다. 산화제로는 과망가니즈산칼륨, 다이크로뮴산칼륨, 아이오딘, 아이오딘산칼륨 등이 있고 방부제나 소독약, 표백제 등으로 쓰인...2025.05.13
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무기화학실험 결과보고서-DSSC(Preparation of Dye-Sensitized Solar Cell with Fruit Juice)2025.01.091. DSSC(Dye-Sensitized Solar Cell) DSSC의 원리와 특성에 대해 설명하고 있습니다. DSSC는 염료로 감광된 반도체 전극과 상대전극, 전해질로 구성되며, 광전자의 생성과 전달 과정에서 발생하는 다양한 요인들이 DSSC의 효율에 영향을 미치는 것으로 나타났습니다. 특히 TiO2의 입자 크기, 표면적, 두께 등이 중요한 요인으로 확인되었습니다. 2. DSSC 제작 및 특성 분석 실험에서는 ITO 전극에 TiO2 페이스트를 도포하고 450도에서 소결한 후 블루베리 용액을 염료로 사용하여 DSSC를 제작하였습니...2025.01.09
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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <포토리소그래피> 레포트2025.01.221. 포토리소그래피 포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 포토마스크라는 원판에 빛을 조사하여 생기는 패턴을 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술이며, 반도체 및 디스플레이의 제조 공정에서 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 형성하는 가장 중요한 공정이다. 포토리소그래피 공정은 측정을 포함하여 기본 8단계로 이루어진다. 2. 포토레지스트 포토레지스트(PR)는 빛에 반응해 특성이 변하는 화학물질로, 디스플레이에서는 TFT에 미세한 회로를 형성하는 포토리소그래피 공정에 사용된다. 포...2025.01.22