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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <Quantum Dot 물질을 이용한 Color Conversion> 레포트

1. 실험 목적- Quantum Dot 재료를 사용하여 Color Conversion이 이루어지는 quartz cell, 필름을 제작할 수 있다.- Blue 광원을 이용하여 QD 필름을 통해 Color Conversion이 이루어지는 모습을 확인할 수 있다.2. 실험 원리-QD film의 Color Conversion 광발광은 외부의 에너지에 의해 여기된 photon이 안정화되며 band gap 만큼의 에너지를 방출하는 것을 의미한다. 이때 photon을 여기시키기 위해 입사되는 빛 에너지는 발광 시 방출되는 에너지보다 커야 하며, 이로 인해 발광 파장보다 흡수 파장이 더 작아지게 된다. 파장이 짧고 에너지가 큰 blue 빛을 받아서 여기된 양자점은 흡수한 빛보다 파장이 길고 에너지가 낮은 green, red 빛을 방출한다. 이와 같이 흡수한 에너지와 방출하는 에너지 차이를 Stroke Shift라고 하며, 이는 흡수한 에너지 일부가 분자 진동 및 열 방출로 소멸하기 때문이다. 위 현상을 적용하여 QD Film에서의 색변환이 발생하게 된다. 색변환이 효율적으로 발생하여 우수한 색순도 및 색재현성 특징을 가지는 디스플레이를 구현하기 위해서는 하단에서 발생한 빛에너지를 QD Film이 충분히 흡수하여 QD 입자크기에 해당하는 빛을 방출할 수 있어야 한다. 따라서 QD Film의 두께와 QD 농도는 중요한 변수로 작용한다.Blue OLED에서 방출된 빛은 에너지가 큰 파장의 Blue 빛이기 때문에 QD Film 제작에 사용되는 양자점 입자의 밴드갭보다 큰 에너지로 입사한다. 이는 양자점 입자의 전자가 가전자대에서 전도대로 충분히 여기 될 수 있는 에너지로, 여기된 전자는 안정된 상태로 돌아가면서 밴드갭에 해당하는 에너지를 빛으로 방출하게 된다. 양자점은 흡수 파장과 발광 파장의 겹치는 부분이 존재하기 때문에 blue 빛은 green과 red의 양자점을 충분히 여기시킬 수 있다.

공학/기술| 2024.09.16| 6페이지| 6,000원| 조회(126)

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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <Inkjet Printing (IJP)> 레포트

1. 실험 목적잉크젯 프린터의 작동원리를 이해하고 각 파라미터들을 이해한다.잉크젯 프린터를 이용하여 원하는 두께의 박막을 프린팅한다.2. 실험 원리-Inkjet Printing (IJP)잉크젯 프린팅은 잉크 방울을 토출시켜 기판 위에 패터닝하는 공정방법이다. 잉크젯 헤드의 노즐을 통해 수십 피코 리터 이하의 OLED 잉크를 분사하여 OLED 디스플레이 픽셀을 만드는 기술이다. 비접촉 방식으로 패턴을 구현하기 때문에 기판의 오염을 최소화 할 수 있고 선택적 패터닝이 가능하므로 RGB 패턴을 분리하여 제작하는 것이 가능하며 고해상도의 소자 구현이 가능하다.또한 기존의 증착공정이나 스핀 코팅 등의 방법을 통해서는 구현하기 어려운 대면적의 패널 생산이 가능하다. 잉크젯 프린팅은 토출 방식에 따라 Continuous jet(CIJ) 방식과 Drop-on demand(DOD) 방식으로 나눌 수 있다. CIJ방식은 정전기를 이용하여 잉크 방울의 흐름을 연속적으로 유도함으로써 프린팅하는 방식이다. 현재 CIJ 방식의 기술은 전체 잉크젯 기술의 2% 미만으로, 지금은 DOD 방식의 잉크젯 프린팅 기술이 주류를 이루고 있다. DOD방식에는 Termal 방식인 버블젯과 전압을 가하여 잉크방울을 토출하는 piezoelectric 방식이 있다. 버블젯 방식은 잉크를 가열하여 기포를 발생시키고, 그에 의한 압력으로 잉크가 노즐을 통해 토출되는 방식으로 프린팅을 진행한다. 이 방식은 소형화가 가능하고 헤드의 가격이 저렴하다는 장점이 있으나 수명이 짧고, 사용할 수 있는 잉크의 종류가 한정적인 단점이 있다. 반면 Piezoelectric 방식은 압전소자를 이용하여 노즐에 전압을 가함으로써 잉크 방울에 압력을 가해 토출시켜 프린팅을 진행하므로 헤드의 수명이 길고 사용할 수 있는 잉크가 다양하다는 장점이 있다.

공학/기술| 2024.09.16| 7페이지| 6,000원| 조회(120)

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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <포토리소그래피> 레포트

1. 실험 목적Photolithography 공정을 이해하고 Photoresist 물질과 UV light를 이용하여 기판에 미세 패터닝을 할 수 있다.2. 실험 원리 -포토리소그래피포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 포토마스크라는 원판에 빛을 조사하여 생기는 패턴을 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술이며, 반도체 및 디스플레이의 제조 공정에서 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 형성하는 가장 중요한 공정이다.포토리소그래피 공정은 측정을 포함하여 기본 8단계로 이루어진다.첫 번째, 기판을 준비하는 과정으로 표면을 세정하고 감광제와의 흡착을 높여주는 밀착향상제를 도포하는 공정이다. 이 과정은 소수성인 웨이퍼 표면을 친수성으로 바꾸어 주는 과정으로 웨이퍼와 감광제의 접착력을 향상시킬 수 있다.두 번째, 접착력이 향상된 웨이퍼 표면에 spin coating 방식을 활용하여 감광제를 도포하는 공정으로, 웨이퍼 표면에 분사되는 액상의 감광제를 회전시켜 균일한 얇은 막을 기판 전체에 도포시킨다.세 번째, 기판 위의 얇은 막으로 형성된 감광제의 solvent를 70% 이상 증발시켜 단단하게 만드는 soft bake 공정을 실시한다. 이 공정을 통하여 웨이퍼와 solvent의 접착력을 증대시켜 노광 시 정확한 마스크 패턴 형상을 전사시킬 수 있다.네 번째, 일정한 패턴이 디자인된 마스크를 이용하여 soft bake 공정을 통해 단단해진 얇은 막의 감광제표면에 UV를 조사하여 감광제를 전사하는 노광공정을 진행한다. 이 공정은 감광제의 종류에 따라 현상 시 패턴의 형상이 다르게 나타난다. Positive 감광제의 경우 빛을 받은 부분이 광에 반응하여 현상 시 사라지고, 그와 반대로 Negative 감광제는 빛을 받지 않은 부분이 현상 시에 사라지게 된다.

공학/기술| 2024.09.16| 7페이지| 6,000원| 조회(125)

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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <코팅 방법 -Atomic Force Microscope (AFM)> 레포트

1. 실험 목적- AFM으로 물질의 표면거칠기를 측정하고, 측정원리와 RMS 값이 나오는 계산에 대해서 이해할 수 있다.-코팅 방법 변화에 따른 Roughness 차이를 이해할 수 있다.2. 실험 원리SPM(Scanning Probe Microscope)은 미세한 탐침을 시료 표면에 주사 하여 시료표면의 미세한 구조를 관찰할 수 있는 장비로서, 1982년에 발명된 STM(Scanning Tunneling Microscope)의 원리로부터 탄생되었다. 현재 원자, 분자 수준의 분해능을 갖는 표면 계측 장비로서 나노 특성 분석에 널리 활용되고 있고, 다양한 환경에서 미소 삼차원 형상이나 여러가지 물리량 분포를 관찰할 수 있는 특징이 있어 다양한 시료에 폭넓게 사용되고 있다. PM의 수평분해능은 0.1㎚로 기존 전자현미경보다 100배 이상 우수하고, 광학/전자현미경에서 측정이 곤란한 수직 분해능은 0.01㎚까지 가능하게 되었다. 개개의 원자에 대한 수직, 수평정보를 시료의 전처리 없이도 분석가능하다는 장점과 진공, 액상조건에서도 분석할 수 있는 장점이 있다. 이러한 장점 때문에 현재 SPM은 나노표면 분석용으로 보편적인 장비가 되고 있다. AFM, STM을 통칭하는 SPM은 적용에 따라서 추가적인 장비를 부착하여 새로운 기능을 추가할 수 있는 유연성이 있다.AFM은 수십 마이크로미터의 캔틸레버 끝에 미세한 팁을 달아 표면에 가까이 하면 팁 끝과 표면 간 원자간 힘에 의해 캔틸레버가 휘어지게 된다. 이때 표면의 형상에 의해 이 힘의 차이가 생기고 이를 여러가지 방법에 의해 측정된다. 프로브 팁을 측정 표면 가까이 가져가면 프로브 팁 끝단의 원자와 측정 표면의 원자 사이에 힘이 작용하게 되고 측정 표면의 높이에 따라 이 힘은 마이크로빔을 휘어지게 하며 이때 휘어진 정도를 측정하여 표면의 형상을 알 수 있다. 즉 일정한 스프링 상수를 갖는 마이크로빔은 힘에 비례하여 휘어지게 되고 이 휘어짐을 측정하여 프로브 팁과 표면 사이에 작용하는 힘을 측정할 수 있다.

공학/기술| 2024.09.16| 8페이지| 6,000원| 조회(114)

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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <용해도와 분산 -점도계와 동적 광산란법> 레포트

1. 실험 목적- Brookfield 점도계로 점도를 측정하여 고분자의 용해도 파라미터를 계산할 수 있다.- DLS(Dynamic Light Scattering)로 Zeta-potential 값을 측정하여 입자의 분산도를 계산할 수 있다.2. 실험 원리-점도흐름의 각 점에서 유체의 속도가 다를 경우, 분자끼리의 충돌이나 분자간의 상호작용에 의해 운동량의 흐름이 빠른 부분에서 느린 부분으로 이동하여 속도가 같아지고자 한다. 이 때 이동에서 에너지 손실을 수반하는 과정을 점성이라고 한다. 점도는 유체의 점성의 정도를 나타내는 것으로, 유체가 경계면에 대하여 상대운동을 하고 있을 때에는 경계면에 따라서 이 운동을 저항하는 전단응력이 작용하는데 이것을 유체의 점성이라고 한다. 전단응력은 흐름에 평행한 평면의 단위면적당 내부 마찰력으로, 전단응력을 측정함으로써 유체의 점도를 구할 수 있으며, 점도는 그 액체의 고유한 물성정수이다. 점도는 전단 속도, 온도, 압력, 전단을 걸어준 시간 등과 같은 변수들에 크게 영향을 받을 수 있다. 대부분의 액체는 압력이 증가할수록 점도도 증가하고, 뉴턴 액체는 온도가 증 가할수록 점도가 감소한다. 일반적으로 점도가 클수록 온도 의존성이 크고, 점도의 온도 의존성은 매우 크기때문에 점도계의 온도 조절에 주의해야한다. 점도의 SI 단위는 파스칼초(Pa•s), CGS 단위계에서는 푸아즈(1P=1g/cm•s), 센티푸아즈(cP)를 사용한다. 점도는 η를 사용하여 기호로 나타낸다.-Brookfield 점도계 점도계는 점도를 측정하기 위해 사용되는 도구로, 모세관 점도계, 회전 점도계 등 다양한 종류가 있다. 모세관 점도계는 안지름이 균일한 모세관 속에 액체가 모세관을 통하여 흘러내리는 데 소요 되는 시간을 측정하여 점도를 구하는 방식으로, 오스트발트 점도계, 우벨로데 점도계 등이 있다.

공학/기술| 2024.09.16| 10페이지| 6,000원| 조회(114)

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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <표면에너지와 표면장력 -Contact Angle과 Surface Tension> 레포트

1. 실험 목적- Contact Angle을 이용해서 고체의 표면 에너지를 측정할 수 있다.- Du Nouy 표면장력계를 이용해서 액체의 표면 장력을 측정할 수 있다2. 실험 원리-접촉각접촉각이란 액체가 서로 섞이지 않는 물질과 접할 때 형성되는 경계면의 각을 말하며, 특히 기체나 진공상태에서 액체와 고체 간의 접촉각은 기체/액체/고체 간의 표면에너지의 열역학적 평형을 이루는 것으로 알려져 있다. 예를 들면 기체 분위기에서 고체 표면에 번져있는 액체는 고체 표면의 물리적 화학적 성질이 균일할 경우 그 접촉각은 어느 지점이나 동일하다.액체의 접촉각은 표면에너지와 표면의 거칠기에 의해 결정된다. 접촉각이 클수록 액체와 고체 경계면에서 반발력이 작용하는 상태로 소수성, 발수성이라고 부른다. 극단적으로 낮은 표면에너지는 발유성을 가져 때가 타지 않는 표면을 가능하게 한다. 표면의 거칠기는 표면을 실질적으로 넓혀서 표면 효과가 증대되고, 털이나 돌기가 많은 표면에서는 액체 방울과 표면 사이에 공기층이 형성되어 액체-기체 경계면에 가까운 현상을 보이게 된다.-젖음성(Wettability) 젖음성이란 액체가 퍼지기 쉬운 정도를 나타내는 고체면의 성질을 말한다. 즉 고체 위에 액체를 떨어뜨렸을 때 액체가 퍼지는 정도, 고체 위 액체의 흡착현상을를 젖음이라고 하며, 고체 표면과 액체 분자간의 상호작용에 의해서 잘 퍼지는 정도, 부착의 흡착정도를 젖음성이라 한다. 젖음성은 금속의 성질(산화 정도)과 표면 상태(오염도, 표면 거칠기), 플럭스의 종류(산화물 제거 능력) 등에 의해서도 변한다. 젖음성을 평가하는 기준은 접촉각이 있다. 접촉각 θ가 클수록 젖음성은 감소하고, 이는 액체의 표면장력이 높고, 고체의 표면 에너지가 낮음을 의미한다.

공학/기술| 2024.09.16| 7페이지| 6,000원| 조회(129)

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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <박막 및 용액의 형광 측정 (Photoluminescence)> 레포트

1. 실험 목적- 박막과 용액의 absorption과 PL을 측정하여 band-gap 변화, 형광 PL 스펙트럼 변화 등의 차이점을 분석한다.2. 실험 원리 반데르발스 힘반데르발스 힘(Van der Waals force)은 분자 내 전자밀도의 순간적인 변화에 의해 생성되는 분자 간 약한 상호작용으로, 대부분의 화합물에서 반데르발스 힘을 보인다. 상호작용의 크기는 분자의 표면력에 의해 결정되고, 표면력이 클수록 두 분자 사이의 인력이 커지며 분자간의 힘이 더 강해진다. 분자 내 전자밀도가 어느 한 순간에 완전히 대칭적이지 않으면서 쌍극자가 형성되는데, 이러한 일시적인 쌍극자의 약한 상호작용을 반데르발스 힘이라고 한다.반데르발스 힘의 분자 간 상호작용은 쌍극자-쌍극자 상호작용, 쌍극자-유도 쌍극자 상호작용, 유도 쌍극자-유도 쌍극자 상호작용으로 나뉜다. 유도 쌍극자-유도 쌍극자 상호작용은 영구 쌍극자 모멘트가 없는 무극성 분자 사이에서 작용하는 인력으로, 분자 내 전자의 움직임에 따라 순간적인 쌍극자 모멘트가 발생하게 되고, 이 쌍극자 모멘트가 다른 무극성 분자에 새로운 순간 쌍극자 모멘트를 유도하여 유도 쌍극자 간의 인력이 발생한다. 이러한 순간적인 쌍극자 모멘트를 갖는 분자 사이의 힘을 유도 쌍극자-유도 쌍극자 상호작용, 또는 분산력이라고 한다. 분산력은 편극도가 클수록 증가하는데, 편극도는 원자의 전자 분포가 찌그러지기 쉬운 정도를 의미하며 분자량이 클수록, 표면적이 클수록 증가한다.원자 자체는 중성을 띄지만, 반데르발스 힘에 의해 근접한 범위 내에서는 생성되는 쌍극자와 쌍극자 사이에 인력이 작용된다. 이로 인해 원자 간의 거리가 짧아져 두 원자의 전자구름이 겹치게 되고 파울리의 베타 원리에 의하여 시스템 에너지가 급격하게 증가하여 강한 반발력이 작용한다.

공학/기술| 2024.09.16| 7페이지| 6,000원| 조회(87)

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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <UV-vis -투과도, Haze의 측정> 레포트

1. 실험 목적- UV-vis 기기를 통해 제작한 샘플의 흡광도와 투과도를 측정할 수 있다.- 측정된 데이터값을 통해 샘플의 파장 영역과 Band-gap, Haze를 구할 수 있다.2. 실험 원리UV-vis (ultraviolet-visible) 분광기기는 분자에 빛을 가하였을 때 흡수가 일어나는 파장과 그 정도를 측정하여 분광학적 성질을 분석하는 기기이다. 분자가 특정 영역의 빛을 흡수하는 것을 측정하여 간접적으로 이 분자가 어떤 구조를 포함하고 있는가를 알 수 있다. 기기분석에 활용되는 UV-vis 광선은 일반적으로 200-800nm 영익이며, 분자나 용매 중의 이온들에 의해 빛이 흡수되어 전자의 궤도 이동이 나타난다. 이와 더불어 분자 및 이온을 이루는 원자단의 진동 에너지의 준위도 변화하게 된다. 빛의 흡수에 따른 에너지 준위의 변화는 물질의 화학적 특성에 따라 흡수하는 빛의 파장 및 그 정도가 다르다. 이 때 에너지의 변화는 Planck 식으로 표현할 수 있다.Planck’s equation: E=hv=hc/λ(h: Planck 상수(=4.13567*10-15eVs), c: 광속(=2.998*108ms-1), λ: 파장(진동수))전자 재료의 경우 UV-vis 분석을 통해 광흡수도를 측정하여 Band-gap을 파악할 수 있고, 해당 재료가 기판에 잘 깔렸는지, 깔릴 수 있는지를 알 수 있다.UV-vis는 사용이 용이하고 빠른 분석속도의 장점을 가지고 있으며, conjugation된 파이 결합을 갖는 단량체가 강한 π-π* 흡수를 보이기때문에 낮은 농도에서도 쉽게 감지된다. 하지만 화학적 구조에 대한 정보 제공의 한계가 있으며, 실험적으로 접근 가능한 범위(200-800nm)에서 방향족기나 이중 결합의 확장된 배열의 conjugation된 π결합을 포함하는 분자를 분석하는 데에 국한된다.

공학/기술| 2024.09.16| 6페이지| 6,000원| 조회(130)

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[A+] 단국대 중합공학실험2 <PVA의 합성> 결과 레포트

-PVA 수지의 합성1. 250ml 3구 플라스크에 PVAc 2g을 메탄올 100ml에 녹인다.2. 40℃로 가열한 후, 40% NaOH 수용액 2ml를 첨가한다.3. 30분간 방치하여 침전된 고분자를 필터링한다.4. 수득한 PVA를 메탄올로 수회 세척한다.5. 충분히 건조한 후 평량한다.-가수분해도 측정1. PVA 0.5g을 증류수 100ml에 녹인다.2. PVA 수용액에 0.2N NaOH 25ml를 가하고 실온에서 2시간 방치한다.3. (2)의 용액에 0.2N H2SO4 25ml를 가하고, 과량의 황산을 0.1N NaOH로 적 정한다. 이 때, 지시약은 페놀프탈레인을 사용한다.1. 실험 결과PVAc(poly(vinyl acetate)를 메탄올, NaOH와 40˚C에서 반응시킨 결과 PVA(poly(vinyl alcohol)를 합성하였다.2. 실험 고찰PVAc를 메탄올, NaOH와 반응시킨 결과 PVA를 합성하였다. 실험을 통해 얻은 PVA를 IR, DSC, TGA를 통해 비교, 분석하였다.IR은 물질의 투과, 반사를 측정하여 분자내 화학결합의 특성, 즉 작용기의 존재 유무를 알아보는 방법이다. PVAc와 PVA의 구조를 비교하였을 때, PVA에 O-H결합이 존재한다는 차이점을 확인 할 수 있다. O-H의 peak는 약 3600-3200cm-1사이에 존재하며, 이외에도 PVA에 존재하는 C-O결합(1300~1000cm-1), C-H결합(3000~2850cm-1) peak의 존재 유무를 통해 PVA가 합성되었다는 것을 확인할 수 있다.

공학/기술| 2024.09.10| 6페이지| 4,000원| 조회(98)

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[A+] 단국대 중합공학실험2 <폴리아마이드 수지의 합성> 결과 레포트

-비교반 계면중축합(1) 1.5ml (1.68g)의 sebacoyl chloride를 50ml의 xylene이 들어있는 비커에 넣어 녹인다. (2) 2.2g의 hexamethylene diamine과 0.6g의 NaOH를 25ml의 증류수에 녹인다. (3) (2)의 용액을 (1)의 용액에 층이 섞이지 않도록 천천히 붓는다. (4) (3)의 용액에 페놀프탈레인을 몇 방울 떨어트리면 계면을 확실하게 볼 수 있다. (5) 핀셋을 이용하여 고분자 막을 서서히 꺼내어 유리막대로 감는다. 이때 감기를 중단하면 중합반응이 정지되고, 다시 감기를 진행하면 중합이 다시 진행되는 것을 확인할 수 있다. (6) 제조된 수지를 물 : 메탈올 = 1:1의 비율인 용액 200ml에 수세를 실시하고, 같은 방법으로 물 : acetone = 1:1의 비율의 용액에서 수세를 실시한다. (7) 80 ℃에서 감압건조를 실시한다.-교반 계면 중축합(1) 0.81g의 hexamethylene diamine과 0.6g의 NaOH를 120ml의 증류수에 녹인다. (2) 1.5ml (1.68g)의 sebacoyl chloride를 chloroform에 용해시킨다. (3) (1)의 용액을 빠른 속도로 교반시키고 약 10초에 걸쳐 (2)의 용액을 투입한다 (4) 투입이 끝난 시점부터 2분간 격렬하게 교반시킨다. (5) 교반을 중지하고 생성된 고분자를 여과지를 이용하여 여과한다. (6) 비교반 계면중축합 방법과 같은 방법으로 수세를 실시한다. (7) 80 ℃에서 감압건조를 실시한다.

공학/기술| 2024.09.10| 6페이지| 4,000원| 조회(72)

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