; 산화막 성장 과정 → 산화막 두께 조절.-산화막의 균일도를 위해 wafer를 가스 주입 방향에 수직으로 놓는다.-Dry or Wet oxidation· 3단계 ; wafer ... 을 떨어뜨려 회전력으로균일한 두께로 도포- 회전수(RPM)에 따라, 감광 용액의 점도에 따라, 두께 다름.d) 연화 건조 (Soft bake)· 감광막에 포함된 Solvent를 가열 ... 를 들어냄4) 평가Silicon 산화막의 경우 규정치ⅰ) 두께 균일도(uniformity) : ±10% (ex) 10,000A±1,000A)ⅱ) 결함밀도 : D < 15개/㎠ⅲ