"Ground electrode network"의 검색결과 입니다.

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sputtering rf sputtering MOSFET 오디오 스퍼터 원리 sputtering 실험조건

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"Ground electrode network" 검색결과 1-13 / 13건

대규모 접지전극 망의 접지성능 평가를 위한 겉보기저항곡선의 해석에 관한 연구 (A Study on the Interpretation Technique ofFall-Of-Potential Curve for Grounding Performance Evaluation of a Large Grounding Electrode Network)

한국조명.전기설비학회 최종기, 유희영, 이동일, 정길조, 김경철

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.16 | 수정일 2025.03.28

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스퍼터 원리와 종류

를 직접 ground를 연결하거나 챔버벽 또는 기판 고정장치에 ground를 시켜서 작은 크기의 coupled electrode를 만들 수 있다. 하지만 이러한 공명 회로를 이루 ... 하다는 장점이 있다.효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode(target)의 크기가 direct electrode의크기보다 작아야 한다. RF 발생기 ... 는데 필요한 inductance를 만들기 위해서는 RF 발생기와 load 사이에 impedance-matching network이 필요하다. RF 시스템에서는 inductive, c

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.30

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RF sputtering

도체일 필요는 없다. 효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode의 키기가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기를 직접 ... ground를 연결하거나 chamber의 벽 또는 기판 고정 장치에 ground를 시켜서 작은 크기의 coupled 전극을 만들 수 있다. 하지만 이러한 공명 circuit을 이루 ... 는데 필요한 inductance를 만들기 위해서는 RF 발생기와 load 사이에 impedance-matching network를 필요로 한다. RF system

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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박막 증착에 관한 진공장비(시스템) 소개 및 원리 숙지

가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기를 직접 ground를 연결하거나 chamber의 벽 또는 기판 고정 장치에 ground를 시켜서작은 크기의 c ... impedance라 하더라도 전극으로 사용할 수있으므로 양전극이 모두 도체일 필요는 없다. 효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode의 키기 ... network를 필요로 한다. RF system에서는 inductive, capacitive 손실 감소를 위해 적당한 접지, 도선 길이의 최소화, 불필요한 연결부분을 제거하는 것

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| 리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.21

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연세대 전기전자 기초실험 09년도 A+ 레포트 예비 6

ontinuously adjusting a voltage divider network to maintain a constant output voltage.regulator added circuit ... apacitance between a body electrode and a gate electrode located above the body and insulated from all ... at the output part. Both headphone jack have a ground wire. It should be connected to reference

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.17

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sputtering

더라도 전극으로 사용할 수 있으므로 양전극이 모두 도체일 필요는 없다. 효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode의 키기가 direct electrode의 크기 ... 보다 작아야 한다. RF 발생기를 직접 ground를 연결하거나 chamber의 벽 또는 기판 고정 장치에 ground를 시켜서 작은 크기의 coupled 전극을 만들 수 있 ... 다. 하지만 이러한 공명 circuit을 이루는데 필요한 inductance를 만들기 위해서는 RF 발생기와 load 사이에 impedance-matching network를 필요

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| 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.24

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Reactive magnetron sputtering을 이용한 ZnO박막증착

electrode(target)의 크기가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기를 직접 ground를 연결하거나 챔버벽 또는 기판 고정장치에 ground를 시켜서 ... 작은 크기의 coupled electrode를 만들 수 있다. 하지만 이러한 공명 회로를 이루는데 필요한 inductance를 만들기 위해서는 RF 발생기와 load 사이 ... 에 impedance-matching network이 필요하다. RF 시스템에서는 inductive, capacitive 손실을 감소시키기 위하여 적당한 접지, 도선 길이의 최소화, 불필요

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| 리포트 | 57페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.12.06

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[공학]Sputtering을 이용한 시간에 따른 ITO 증착의 특성

한 전자들의 수가 감소한다. 효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode의 키기가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기 ... 를 직접 ground를 연결하거나 chamber의 벽 또는 기판 고정 장치에 ground를 시켜서 작은 크기의 coupled 전극을 만들 수 있다. 하지만 이러한 공명 circuit ... 을 이루는데 필요한 inductance를 만들기 위해서는 RF발생기와 load사이에 impedance-matching network를 필요로 한다. RF system

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.18

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[sputter]sputter 종류와 mechanism

를 직접 ground를 연결하거나 챔버벽 또는 기판 고정장치에 ground를 시켜서 작은 크기의 coupled electrode를 만들 수 있다. 하지만 이러한 공명 회로를 이루 ... 성도 중요하다. 회로상에서 target은 cathode로 사용되며 높은 음의 전압이 걸린다. 기판은 전기적으로 그라운드(ground)된 anode가 되며 target으로부터 불과 수 ... 하다는 장점이 있다. 효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode (target)의 크기가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.02.26

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[박막공학]박막형성의 원리

electrode(target)의 크기가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기를 직접 ground를 연결하거나 챔버벽 또는 기판 고정 장치 ... 에 ground를 시켜서 작은 크기의 coupled electrode를 만들 수 있다. 하지만 이러한 공명 회로를 이루는데 필요한 inductance를 만들기 위해서는 RF 발생기 ... 와 load 사이에 impedance-matching network이 필요하다. RF 시스템에서는 inductive, capacitive 손실을 감소시키기 위하여 적당한 접지, 도선 길이

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 30페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.12.27 | 수정일 2025.01.21

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[반도체 공학] pvd의 종류및 증착원리

ground를 연결하거나 챔버벽 또는 기판 고정 장치에 ground를 시켜서 작은 크기의 coupled electrode를 만들 수 있다. 하지만 이러한 공명 회로를 이루는데 필요 ... 이 있다. 효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode(target)의 크기가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기를 직접 ... 한 inductance를 만들기 위해서는 RF 발생기와 load 사이에 impedance-matching network이 필요하다. RF 시스템에서는 inductive, c

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.09.30

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[전자공학] 박막형성법과 그성질

가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기를 직접 ground를 연결하거나 chamber의 벽 또는 기판 고정 장치에 ground를 시켜서 작은 크기의 c ... impedance라 하더라도 전극으로 사용할 수 있으므로 양전극이 모두 도체일 필요는 없다. 효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode의 키기 ... -matching network를 필요로 한다. RF system에서는 inductive, capacitive 손실 감소를 위해 적당한 접지, 도선 길이의 최소화, 불필요한 연결부분을 제거

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| 리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.18

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[박막 증착] PVD의 원리와 종류

이일 필요는 없다. 효과적인 sputtering을 위해서는 coupled electrode의 키기가 direct electrode의 크기보다 작아야 한다. RF 발생기를 직접 ... ground를 연결하거나 chamber의 벽 또는 기판 고정 장치에 ground를 시켜서 작은 크기의 coupled 전극을 만들 수 있다. 하지만 이러한 공명 circuit을 이루 ... 는데 필요한 inductance를 만들기 위해서는 RF 발생기와 load 사이에 impedance-matching network를 필요로 한다. RF system

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| 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.18

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