"Cu-Ga sputtering target"의 검색결과 입니다.

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진공펌프 igzo tft 스퍼터링 rf sputtering

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"Cu-Ga sputtering target" 검색결과 1-9 / 9건

저온분사법에 의해 제조된 Cu-Ga 타겟의 스퍼터링 특성평가 (Characterization of Films Sputtered with the Cu-Ga Target Prepared by the Cold Spray Process)

한국분말재료학회 조영지, 유정호, 양준모, 박동용, 김종균, 최강보, 장지호

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.17 | 수정일 2025.03.28

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스퍼터링 타겟용 저온 분사 Cu-15 at.%Ga 코팅 소재의 특성에 미치는 열처리 분위기의 영향 (Effect of Heat Treatment Environment on the Properties of Cold Sprayed Cu-15 at.%Ga Coating Material for Sputtering Target)

한국분말재료학회 최병철, 박동용, 김형준, 오익현, 이기안

논문 | 10페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.17 | 수정일 2025.03.28

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Manufacturing and Macroscopic Properties of Cold Sprayed Cu-Ga Coating Material for Sputtering Target

한국분말야금학회 Young-Min Jin, Min-Gwang Jeon, Dong-Yong Park, Hyung-Jun Kim, Ik-Hyun Oh, Kee-Ahn Lee

논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.01 | 수정일 2023.04.05

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저온분사법에 의해 제조된 Cu-Ga 타겟의 스퍼터링 특성평가

한국분말야금학회 조영지, 유정호, 양준모, 박동용, 김종균, 최강보, 장지호

논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.05.03 | 수정일 2023.04.05

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스퍼터링 타겟용 저온 분사 Cu-15 at.%Ga 코팅 소재의 특성에 미치는 열처리 분위기의 영향 (Effect of Heat Treatment Environment on the Properties of Cold Sprayed Cu-15 at.%Ga Coating Material for Sputtering Target)

한국분말야금학회 최병철, 박동용, 김형준, 오익현, 이기안

논문 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.01 | 수정일 2023.04.05

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판매자 표지

TFT(Thin Film Transister) 실험레포트

시키면 튀어나오는 Target의 원자를 기판에 증착하는 방식이다.기판에 Gate 전극을 증착할 때 먼저 Pre-sputtering을 실시하여 Target의 불순물을 제거하는 작업을 실시 ... 가시에 전류가 흐르게 되어 화소가 작동할 수 있게 만드는 부분이다. 재료로는 In(인듐), Ga(갈륨), Zn(아연)이 들어가며 O(산소)와 반응하여 결합시킨다.Oxide TFT ... 는 전자이동도가 10~40cm ^{2} /VS로 a-Si:H에 비해 20~50배 높다. 이로 인해 TFT를 작게 만들 수 있다는 이점이 따른다. TFT가 작아지면 고해상도 디스플레이

리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.06.19 | 수정일 2017.10.16

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PVD

. ● 스퍼터링 가스와 반응가스 sputtering 시 plasma 의 형성을 위해서 사용되는 sputtering 가스는 이온화가 용이하고 target 이나 박막과는 거의 반응이 없 ... 는 불에 의해 (RF 또는 DC)target 로부터 방출되는 전자를 target 바깥으로 형성되는 자기장내에 국부적으로 모아 Ar 기체원자와의 충돌을 촉진시킴으로써 sputter ... CVD 비교25 substrate PVD CVD 비교26 Ga (CH 3 )n + NH 3 = GaN (CH 3 )n ∙ NH 3 550 ℃ Low pressure CH3 H Ga N

리포트 | 77페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24

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PVD의 종류와 특성, 응용분야

기판 ＞ 870~900K성장속도 2 ~ 3Å/s아래 그림은 GaAsxP1-x를 만들 경우의 분자선 에피택시 장치의 예이다.Ⅱ. 스퍼터링(sputtering)이란?스퍼터링이란 ... 적으로 가능가능하나 안함안함증착속도(10-9m/s)1.67-12500.50-8330.17-16.7PVD의 종류 및 특성(2) PVD법의 장점①장치 전체의 구성이 비교적 간단②매우 많 ... 면 면적 dAr에 dMr의 질량을 갖는 막이 증착될 경우의 막두께는 다음과 같이 표현된다.② Small-surface sourcesSmall-surface source로부터 s

리포트 | 21페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.01.08 | 수정일 2023.04.29

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진공과 진공펌프에 대해서~

Deposition)스퍼터링 (sputtering)진공 증착법 (Evaporation)- CVD (Chemical Vapor Deposition)압력: LP-CVD (Low presure ... FL상의 O-ring seal(2) FEEDTHROUGH①Electrical FeedthroghCoaxial feedthrough : 신호의 전달을 위하여 사용Power ... Viton O-Ring이나 Cu Gasket형), 수직 상하 운동하는 Shaft 축이 움직여 밸브가 열리고 닫히는 작동을 한다.③ Throttle Valve (APC Valve)게이트

리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.08.17

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