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"(감광유리 웨이퍼)" 검색결과 1-20 / 232건

  • 감광유리를 이용한 MEMS 촉매 연소기의 제작 및 성능 평가 (Fabrication and Performance Test of MEMS Catalytic Combustors Using Photosensitive Glass Wafer)
    대한기계학회 진정근, 권세진
    논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.02 | 수정일 2025.03.06
  • [A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <포토리소그래피> 레포트
    리소그래피포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 포토마스크라는 원판에 빛을 조사하여 생기는 패턴을 웨이퍼 상에 전사 ... 번째, 기판을 준비하는 과정으로 표면을 세정하고 감광제와의 흡착을 높여주는 밀착향상제를 도포하는 공정이다. 이 과정은 소수성인 웨이퍼 표면을 친수성으로 바꾸어 주는 과정 ... 으로 웨이퍼감광제의 접착력을 향상시킬 수 있다.두 번째, 접착력이 향상된 웨이퍼 표면에 spin coating 방식을 활용하여 감광제를 도포하는 공정으로, 웨이퍼 표면에 분사되는 액상
    리포트 | 7페이지 | 6,000원 | 등록일 2024.09.16 | 수정일 2024.10.17
  • 판매자 표지 자료 표지
    Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_결과레포트
    하는 빛을 더 잘 모아준다. NA는 렌즈의 직경이 클수록, 렌즈와 웨이퍼 사이의 간격이 작을수록 커진다. 또한 DOF(Depth of Focus)는 wafer에 패턴의 상이 선명 ... 는 짧은 파장의 빛을 사용하거나, NA를 증가시킬 수 있도록 렌즈와 웨이퍼 사이의 거리를 가깝게 하거나, 렌즈의 직경을 크게 할 수 있다.Spin coating감광제 일정량을 웨이퍼 ... 에 떨어뜨린 후 빠른 속도로 웨이퍼를 회전시켜 감광제가 웨이퍼에 얇게 펴지도록 한다. 감광제가 균일하게 코팅되어야 etching의 불량이 줄어든다. 감광제의 두께는 웨이퍼의 회전
    리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.12.12
  • KAIST의 MAV용 MEMS 엔진 개발 현황 (Prgress in MEMS Engine Development for MAV Applications)
    한국항공우주학회 이대훈, 박대은, 윤의식, 권세진
    논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.14 | 수정일 2025.06.17
  • 반도체 공정 (간단 정리)
    해 회로패턴을 유리판위에 그려 넣으면 마스크 완성6. 산화공정고온(800~1200CENTIGRADE )에서 산소를 웨이퍼 표면에 화학반응->얇고 균일한 실리콘 산화막(SiO _{2 ... }) 형성7. 감광액 도포웨이퍼감광물질(Photo-Resist) 고르게 바름->웨이퍼 표면을 사진필름과 같은 상대로 만듦8. 노광웨이퍼 위에 마스크 놓고 빛 쪼여주면 회로패턴 통과 ... (Ingot) 만듦->식힘->단결정 규소봉2. 규소봉 절단규소봉 지름 따라 웨이퍼 크기 결정3. 웨이퍼 연마(CMP)규소봉에서 잘라낸 웨이퍼 표면은 흠집 있고 매끄럽지 X->회전판위
    Non-Ai HUMAN
    | 시험자료 | 1페이지 | 1,500원 | 등록일 2021.05.26
  • 판매자 표지 자료 표지
    삼성전자 및 SK하이닉스 반도체 면접 대비용 용어집 (이거 하나로 남들과 차별화 가능합니다)
    화하거나 단차를 줄이는 것.- Coating : 감광막, 절연막 또는 금속막을 Wafer 표면에 균일하게 증착하는(바르는) 과정.- Complementary Circuit : 상보 ... 사용되는 노광용 원판(유리판)으로 한 장의 wafer에 여러 번 나누어 노광함.- RF(Radio Frequency) : 고주파를 말하며, 건식 식각 공정에서 반응 Gas를 활성화 ... 는 시간- ACI(After Cleaning Inspection) : 식각공정 중 건식, 습식 및 감광액 제거 후 현미경 및 측정장치 등을 이용해 식각의 정확성, 이물질의 잔존
    자기소개서 | 28페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.02.25 | 수정일 2024.05.13
  • 반도체 공학 과제 (반도체 기본 공정 기술)
    기 시작하는 과정으로 준비된 웨이퍼 위에 빛에 반응하느 감광성 고분자 물질인 PR또는 LOP를 얇게 코팅한 후 원하는 패턴의 마스트를 올려놓고 빛을 쪼여 원하는 패턴을 형성하는 과정 ... 해 웨이퍼에 그려 넣을 회로를 설계한다. 설계된 회로 패턴은 순도가 높은 석영을 가공하여 만든 유리판 위에 크롬으로 도면의 정밀회로를 담으며 그 정밀도가 반도체의 집적도를 결정 ... 한다. 마스크는 보다 세밀한 패터닝을 위해 반도체보다 크게 제작 되며 렌즈를 이용 빛을 축소해 조사하게 된다.2) 감광액 도포웨이퍼 표면에 빛에 민감한 물질인 감광액을 골고루 바른다
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.07.02
  • 반도체공정기말대비
    인쇄법 중에서 회절력과 주파수가 포함된 변수MTF - 변조전달함수3. 반도체 에칭을 하거나 마킹을 하기 위해서 사용하는 유리나 필림?Mask4. 이온 빔의 용도에 따라 분류 ... - 마이크로밀링, 이온주입, 물질의 구조와 구성분석5. 감광제에 종류에서 음성, 양성 감광제의 장단점장점- 많은 종류 및 광범위한 현상액- 좋은 접착력과 습식 식각의 저항성- 아래와 같 ... 은 모형의 보상작용M-RM식각된 기판음성감광제음성 감광제의 상 크기에 관한 자기 보상-R부분의 감광제 상이 마스크 크기보다 작으며 식각된 최종 크기는 마스크 크기가 된다.- 과도한
    Non-Ai HUMAN
    | 시험자료 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.05.16
  • 숭실대학교 신소재공학실험2 Oxidation 공정 예비보고서
    의 방법으로 생성된 실리콘 웨이퍼 위에 보호막을 씌우는 작업이다. 실리콘과 산소가 반응하면SiO _{2}(유리)이다. 산화막이 보호막 역할을 하게 되고, 이는 반도체 제조 과정 ... 보다 산소 분자가 무겁기 때문에 실리콘 웨이퍼 내부로의 침투 속도가 습식 공정보다는 느리다는 단점이 있다. 하지만 부산물이 생기지 않고, 균일하고 밀도가 높은 산화막 생성에 유리 ... 에 설계된 회로를 그려내는 작업이다. 컴퓨터로 설계한 회로 패턴이 그려진 유리판을 마스크라고 하고, 마스크의 회로도를 웨이퍼에 새기는 작업이다. 웨이퍼에 마스크의 회로도를 새기
    리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2024.08.26
  • 판매자 표지 자료 표지
    [반도체공정실험]Cleaning & Oxidation, Photolithography, Dry etching, Metal Deposition, Annealing(Silcidation)
    ) - DI 용액을 이용하여 헹군다.3) Spin Dryer - 30분 동안 700rpm 속도로 회전시켜 Wafer 표면의 물기를 완전히 제거한다.4) 세정 용액의 웨이퍼 표면 ... Cleaning & Oxidation1. 실험 목적MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 첫 번째 공정에 해당하는 ‘Wafer cleaning & Oxidation’ 공정 ... , Tweezer, Teflon beakers, Safety gadgets, Tube furnace, ellipsometer2) Si(100) wafer:p-type 시료다. 실험 과정1
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 19페이지 | 5,500원 | 등록일 2022.09.17
  • 마이크로컴퓨터 레포트(5)
    을 실제의 1~5배로 확대하여 쿼츠라고 불리는 유리판 위에 전자빔을 이용해 새기는 것.● 노광 공정- 설계한 회로 패턴을 웨이퍼로 옮기는 기술이다. 웨이퍼 위에 감광액을 떨어뜨리 ... ) Back Grind : 웨이퍼 원판에서 회로가 없는 뒷면을 갈아 얇게 만드는 과정2) Wafer Saw : 얇게 만든 웨이퍼를 개별 chip으로 분리하는 공정3) Die ... 고, 고속으로 회전시켜 감광막을 도포한다. 막이 형성된 웨이퍼를 노광장치에 고정한 후 패턴이 새겨진 마스크를 대고, 자외선에 노출시키면 현상과정을 거쳐 감광막의 패턴이 생성된다.● 식각
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.05.16
  • 판매자 표지 자료 표지
    반도체 기술과 활용(과학주제탐구보고서 세특 및 수행평가)
    을, 산화막 성장 속도가 빠르고 두꺼운 막을 만들때는 습식 산화 공정을 수행합니다.3. 포토 공정● 웨이퍼 위에 반도체 회로를 그려 넣는 공정으로, 감광액 도포, 노광, 세부공정 단계 ... 로 진행합니다.4. 식각 공정● 포토공정에서 형성된 감광액 부분을 남겨두고 나머지 부분을 제거해 회로를 형성합니다.5. 박막 공정● 웨이퍼에 불순물을 확산하고 박막을 형성해 웨이퍼 ... emiconductor, microchip)는 상온에서 전기 전도율이 금, 구리 같은 도체와 애자, 유리 같은 부도체의 중간 정도인 물질로 온도, 빛, 전자, 전계 등에 따라 저항률 등의 전기
    리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2025.11.28
  • 반도체 기본 공정
    웨이퍼반도체의 회로기판을 구성하는 판은 실리콘(Si)을 단결정기둥(ingot)으로 성장시켜 절단 후 연마하여 만들어지며 명칭은 웨이퍼(wafer)라 부른다.산화(Oxidation ... )산화공정이란 실리콘(Si)웨이퍼 위에 산화제(물(H2O), 산소(O2))와 열을 가하여 이산화규소(SiO2)막을 형성하는 공정이다.이때 생성되는 산화막은 회로 간 누설전류를 막 ... )반도체 표면 위에 사진 인쇄기술을 이용하여 회로 패턴을 새겨넣는 공정. 빛에 반응하는 감광성 물질(Photoresist)를 바른 후 빛을 이용해 원하는 패턴을 형성하는 과정. 크
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.12.06 | 수정일 2021.06.25
  • 판매자 표지 자료 표지
    반도체개론
    (성#20. Patterning(노광): 웨이퍼에 회로를 그려넣는 과정-패턴 형상을 그린 후에 빛과 반응을 마친 감광액은 현상용매로 세척.-그러면 패턴 형상에 맞게 감광액 밑에 있 ... 던 감광액도 모두 세척 후 제거(도핑의 두 가지 방법: 확산 & 이온주입)#24. 도핑(불순물 주입): 웨이퍼에 전류가 흐를 수 있도록 도핑(불순물 주입)-Si에 도핑 하면 p형 or ... 가 다르다#10. Yield 개선의 핵심: 오염 제어: Wafer Contmanination(웨이퍼 오염) 제어가 수율 개선의 핵심#11. 오염이 발생하면? 어떤 효과?(3)①수율
    리포트 | 31페이지 | 3,500원 | 등록일 2025.06.24
  • 면접때 극찬받은 삼성전자 21년 하반기 파운드리 설비기술 면접 복기
    웨이퍼에 새기려면, 우선 앞서 웨이퍼에 올린 산화막 위에 빛에 반응하는 물질인 감광액(PR : Photo Resist)을 얇고 균일하게 도포합니다. 이제 회로패턴이 담긴 마스크 ... - 산화 공정웨이퍼 표면에 산소나 수증기를 뿌려, 균일한 산화막을 형성합니다.이 산화막은 반도체 제조과정에서 웨이퍼 표면을 보호하고, 앞으로 그려지게 될 회로와 회로 사이에 누설 ... 전류가 흐르는 것도 막아줍니다. 일종의 든든한 보호막을 형성하는 과정입니다.- 포토 공정웨이퍼 위에 반도체 제조를 위해 설계된 회로를 그려내는 공정입니다. 밑그림을 새기는 작업
    Non-Ai HUMAN
    | 자기소개서 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2022.09.08 | 수정일 2022.09.19
  • Patterning and treatment of SiO2 thin films 예비보고서 A+
    에서 웨이퍼 표면과 화학적반응을 시켜 SiO2형태를 지닌 실리콘산화막을 생성하는 공정입니다. 이 산화공정에는 건식산화와 습식 두가지로 이루어져 있습니다.1.감광액 도포: 액체상태일 때 ... 빛에 민감한 감광액을 웨이퍼에 도포시켜 인화지로 만들어주는 작업입니다.2. 노광공정: 코팅된 웨이퍼에 노광장비를 이용하여 빛을 Mask에 그려진 회로패턴에 통과시켜서 웨이퍼 ... 한다. 이러한 플라즈마는 실생활에서는 로켓, 번개, 형광등에서 볼 수 있다.2) 반도체 제조 공정과 정의반도체공정은 다음의 순서로 이루어진다. 보통 8대공정으로 이루어져 있는데, 웨이퍼
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.01.02
  • 반도체 7개공정 요약본
    . WAFER 제조 3 /181.2 웨이퍼 연마 Edge Rounding : 웨이퍼의 테두리를 부드럽게 하는 공정 Lapping : 웨이퍼를 전반적으로 평탄하게 만드는 공정 Etch ... 회로 (IC)동 작 에 필요한 개별소자들에 대해 전기적 직류전압 , 전류특성의 파라미터를 테스트하여 동작여부를 판별 2.WBI(Wafer Burn In) : 웨이퍼에 일정 온도 ... 반도체 공정 1 /182 /18WAFER 란 ? - 반도체 집적회로의 핵심 재료 - 실리콘 (Si), 실리콘카바이드 (4H-SIC), 갈륨 아세나이드 ( GaAs ) 등을 성장
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.12.06
  • 판매자 표지 자료 표지
    Photolithography 결과보고서
    되는 마크의 차이를 확인해본다. Experiment 실험 방법 1. 웨이퍼 대신 사용하는 유리기판을 증류수, 아세톤, 에탄올을 이용하여 세척해준다. (이 때 작은 기판 세 개, 큰 기판 ... 하여 웨이퍼를 금속과 증착한 후 아세톤을 사용하여 감광 물질을 걷어낸다. 실험 결과 {사진 1 – 실험에서 사용한 마크의 모양} {사진 2 – 실험에서 사용한 AZ GAR-601 ... Photolithography 실험 목적 반도체 8대공정 중에 하나인 Photolithography의 과정을 이해하고, 스핀코터의 조건을 달리하였을 때 유리기판 위에 표시
    리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.04.05 | 수정일 2024.07.18
  • 인하대학교 집적회로공정(전자공학과) DRAM레포트
    bump공정이 진행되고 유리 지지대가 제거되면 웨이퍼는 하나의 chip이 된다.4. 그 외 공정방법에 대한 비교 및 논의4.1 Stacked Capacitor 공정방법절연막 형성 ... 에 유리하다. DRAM은 임의의 억세스에 대해 고속으로 읽기, 쓰기가 가능하며, 읽고 쓰는데 걸리는 시간은 거의 같다. 또한 전력 소모가 작아 대용량 기억장치에 많이 사용된다. DRAM ... 질 좋은 절연막이 생성되지 못할 우려가 있으므로 Trench 내부의 세척작업은 굉장히 중요하다. 대표적인 방법으로는 고주파의 초음파를 이용하여 웨이퍼에 진동을 가하여 세정효과
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 6페이지 | 4,900원 | 등록일 2021.09.26
  • 판매자 표지 자료 표지
    조선대 전기재료 기말고사 A+ 정리본 및 시험문제 체크 개인적인 정리본이니 참고하세요
    , 반도체 소자 제조 공정에 대해 설명하여라. (1-7)1) 감광막 도포 및 소프트-베이킹 : 산화 공정(열산화 과정)을 통해 산화막이 만들어진 기판(웨이퍼) 위에 스핀 코팅법 ... 으로 감광용액을 기판 전면에 균일한 두께로 코팅을 해준다. 이러한 감광막을 PR이라고 부른다. 그 후 액체 상태인 PR를 소프트- 베이킹이라는 열처리를 통해 살짝 딱딱하게 만들어준다 ... .2) 마스크 정렬 및 노광: 유리기판 위에 크롬 등으로 원하는 패턴이 그려진 마스크를 PR로 코팅된 기판과 정렬을 시켜준 후 PR이 반응할 수 있는 특정 빛을 조사하면 유리기판
    시험자료 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.08.08 | 수정일 2023.12.12
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2025년 12월 04일 목요일
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- 작별인사 독후감