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스퍼터링 기상반응법 Sputter sputter 결과레포트 evaporator IGZO CVD 도금
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"스퍼터링" 검색결과 581-600 / 947건

  • 자료 표지
    SIMS (Secondary Ion Mass Spectrometry)
    스퍼터링(Sputtering)고속의 일차이온이 고체시료 표면에 충돌하게 되면 충돌에너지가 시료 표층부의입자들에 전파되어 일부 입자들은결합팔(bonding)을 끊고 시효에서방출되는 현상 ... .- 액체나 기체 시료는 분석 불가능.- 고체 시료의 경우, He, Ne, Ar 등 불활성기체는 스퍼터링에 의해 이온화되지 않으므로 분석 불가능.이온화 효율 : 스퍼터링에 의해
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29
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  • 자료 표지
    온도센서
    수은 SiC 박막 써미스터이다. SiC는 기계적 강도, 내열성, 내부식성이 뛰어난 매우 안정한 재료고서 고주파 스퍼터링법에 의해 SiC 단결검에 버금가는 안정성을 가진 박막을 얻 ... 다. 박막 써미스터는 알루미나, Si 웨이최 등의 기판 위에 스퍼터링(sputtering) 또는 진공증착(evaporation) 등의 방법으로 감열체및 전극을 약 0.1~10의 두께 ... 써미스터이다. SiC는 기계적 강도, 내열성, 내부식성이 뛰어난 매우 안정한 재료고서 고주파 스퍼터링법에 의해 SiC 단결검에 버금가는 안정성을 가진 박막을 얻을 수 있다. (그림
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 27페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.04.30 | 수정일 2018.04.26
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  • 자료 표지
    압전에너지 하베스팅기술
    주요 단계 증착할 원자 혹은 분자 종의 생성 이들을 기질에 이송 및 응축 열처 리 화학적 방법 ( 화학 증기 증착 , 솔 젤 기술 등 ) 물리적 방법 ( 스퍼터링 , 분자 빔
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    | 리포트 | 14페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.12.08
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  • 자료 표지
    때려내기에 의한 박막증착
    때려내기에 의한 박막 증착이번 실험에서 우리는 다음과 같은 조건에서 구리의 박막을 증착시켰다.TargetCopperSubstrate (name-orientation)SiDistance between Target and Substrate (cm)3Chamber press..
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    | 리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.01.31
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  • 자료 표지
    DRY ETCHING
    ) 에 위치벽 특성을 만들어낸다 . 애노드에는 스퍼터링이 없다 . 압력은 0.1torr 이하로 비교적 낮다 .( 장비 )MERIE 자기적으로 강화된 반응성 이온 식각 반응기인 마그네트
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    | 리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.05.21
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  • 자료 표지
    메모리 반도체 제작 과정 및 이론 설명 ppt
    torrPlasma LPCVDPhysical vapor deposition PVD 스퍼터링법 DC 스퍼터 RF 스퍼터 바이어스 스퍼터 진공증착법 저항가열증착 전자빔증착 고추파가열
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    | 리포트 | 72페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2023.04.24
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  • 자료 표지
    Flexible Display 정의(개요), 핵심 기술, 기술별 국내외 기술 개발 현황, 특허분석, 향후 시장성과 경쟁력 분석 발표 자료
    층이 전극 역할을 수행 , 별도의 전극이 필요하지 않은 컬러 전자종이 디스플레이를 제공한다 . 특 허 3. 컬러 구현방법 기술 : 저온 스퍼터링 공정이 가능한 Roll-to-Roll ... 스퍼터 장치 효과 : 플라즈마를 1 쌍의 스퍼터 건 사이에 구속하여 타겟을 스퍼터링한다 . 가스분사 유닛은 Roll-to-Roll 유닛의 플렉서블 기판이 노출되는 부분에서 타겟
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.03.02
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  • 자료 표지
    EL 소자 용 형광체 기술
    된 플라스틱 기판 위 스퍼터링 방법으로 알루미늄옥사이드 절연체 사이에 알루미늄나이트라이드 절연체에 희토류원소와 산소를 심은 형광체를 만들었습니다. 그리고 전극을 연결하고 절연파괴전압
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    | 리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.04.09
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  • 자료 표지
    TiN-TiC코팅에 따른 절삭 성능향상
    Ti-N, Ti-C 복합처리에 따른 초경합금의 절삭성능김 영진 2007031109 김 수미 2007031041 김 보현 2005031055 임 찬영 2005031010 연 정흠 2007031110NIUNX-1-한국야금 CVD제조공정목 차개 요 초경 합금이란? 하드코팅 ..
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    | 리포트 | 18페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.08
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  • 자료 표지
    [반도체재료] 박막증착
    다.■ 이온 스퍼터링이온 스퍼터링은 에너지를 가진 입자에 의해 표면을 bombardment하여 이때의 운동량 교환으로 고체표면으로부터 재료가 이탈, 방출되게 하는 과정이 ... 하는 이온폭격을 일으켜 표적재료 원자가 증기상으로 방출되게 된다. 물론 이온빔을 이용하여 스퍼터링을 행할 수도 있다.이 방법은 화학적 혹은 열적 반응과정이 아니며, 기계적 과정(운동량 ... 하여 스퍼터링할 수 있다. 또한 이 방법은 코팅 전 피처리물을 양극으로 활용하여 글로우 방전을 시키므로 스퍼터링에 의해 표면의 산화물 및 불순물을 제거가 가능하고 표면의 활성화
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.10
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  • 판매자 표지 자료 표지
    수직자기기록 방식(HDD 구조부터 수직자기기록방식의 모든것)-발표용 PPT `Perpendicular Magnetic Recording` 자성물질,하드디스크,고밀도기록
    ://moolynaru.knu.ac.kr/second_middle/04electromagnetics/03current_action/21/21c.htm [ 자성박막, 스퍼터링법
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    | 리포트 | 24페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.05.15
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  • 자료 표지
    CMOS 집적회로 제작공정
    (주로 얇은 질화막)물리증착법(PVD-스퍼터링) - 금속막(금속화), 절연막?폴리실리콘 - 기판이 결정구조X, 온도가 낮을 때에도 증착이 가능SiH4 + 열 → Si + 2H2 ... 에 가끔사용?전자빔증착 - 결정 손상 가능성 → 아닐링 필요?스퍼터링증착 - 진공조 내에 아르곤 기체를 주입 → 전장으로 이온화 → 알루미늄 같은 표적에 이온을 충돌 → 금속원자
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19
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  • 자료 표지
    나노공정 정리
    수준에서 3 차원적으로 결합한 시스템입니다 . 이 기술을 이용하면 작은 칩 안에서 여러 가지의 반응이 모두 일어나도록 통합시킬 수 있습니다 .이온 빔 가공이란 . 스퍼터링 현상
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    | 시험자료 | 42페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.11.21
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  • 자료 표지
    태양전지 역사 및 종류, 기술현황, 사례
    (PVD – Physical Vapor Deposition) 스퍼터링 (sputtering) 물리적 기상 증착 - 스퍼터링은 글로우 방전에서 발생되는 정이온을 전계에 의해 높 ... 은 에너지로 가속시켜 고에너지의 정 이온이 고체의 표면과 충돌하면 고체 표면의 원자 또는 분자가 표면에서 밖으로 튀어나오는 스퍼터링 현상을 이용한 박막제도 방법이다 . 21화학기상
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    | 리포트 | 33페이지 | 4,200원 | 등록일 2009.10.06
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  • 자료 표지
    CIGS박막태양전지
    용이치 않음 대면적화가 어려움 Sputtering(스퍼터링 법) 장점 : 금속 또는 절연체를 증착할 수 있음 Ar과 다른 혼합가스를 사용하여 반응을 수반한 화합물 증착이 가능 넓 ... 성이 뛰어남, 대형박막 쉽게 제작 → 동시증착과 스퍼터링법에 비하여 박막성장속도 빠름 → 가열된 기판에만 증착물이 선택적으로 증착되어 시료의 효율적인 사용, 진공장치 오염 최소
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.11
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  • 자료 표지
    전기도금과 무전해도금
    을 경화 또는 기타의 방법으로 물리적 성질을 향상 시키는 방법표면처리 기술의 분류 이용분류표면처리기술박막형태전기도금무 전해도금용융도금진공증착(PVD) 진공증착(스퍼터링, 이온플레팅 등 ... )기상도금도장전착도장표면가공양극산화(주로 알리미늄)화성처리식각법습식에칭건식에칭(스퍼터링)전해연마표면처리 과정탈지공정수세제청작업화성피막처리공정전기도금의 원리도금하고자 하는 금속을 음극
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    | 리포트 | 25페이지 | 3,500원 | 등록일 2010.06.20
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  • 자료 표지
    디스플레이 물성및재료 반도체 제조공정 디스플레이 제조공정8
    9번스퍼터링(sputtering) 에대해 설명하시오 답: 화학적이라기 보다는 물리적인 공정이 주가 되었다. 고에너지 입자가 고순도 타깃 물질의 고체판과 충돌하고 물리적으로 원자 ... 막과 오염에 의한 웨이퍼 표면을 세정하기 위해서 다중실 클러스터 기술을 사용할 수 있는 능력문제 10번스퍼터링 수율을 결정하는 원인들을 쓰시오 답: 1.충동 이온의 입사각 2.타깃
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    | 리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.20
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  • 자료 표지
    ITO 투명전극과 TCO
    입니다. (LCD, PDP, OLED등등...)보통은 디스플레이 용도로 쓰일때에는 스퍼터링을 사용해서 증착합니다. 고분자 폴리머에 증착하기도 하는데, 보통 반응성 스퍼터링으로 기판을 가열
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.29
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  • 판매자 표지 자료 표지
    RAM(Random Access Memory) - DRAM, SRAM, FeRAM(FRAM), MRAM, PRAM
    를 확보할 수 있다. 그 후 지속적으로 세계 여러 연구 그룹에서 MgO 터널 배리어 연구를 수행하고 있다. 그러나 수 nm 두께의 MgO를 증착하기 위해서는 초고진공 스퍼터링 장비
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    | 리포트 | 64페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.22
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  • 자료 표지
    TFT-LCD 개구율 향상에 대한 연구
    기판을 대면 맞추는 방식 ►정렬을 편하게 하기 위해 블랙 매트릭스의 폭을 커짐 ► 개구율 감소 ◈질화된 규소막 위에 블랙 매트릭스와 컬러 필터 층을 형성+ITO 전극이 스퍼터링된
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    | 리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.02
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2025년 12월 11일 목요일
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