"스퍼터링"의 검색결과 입니다.

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스퍼터링 기상반응법 Sputter sputter 결과레포트 evaporator IGZO CVD 도금

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"스퍼터링" 검색결과 541-560 / 947건

탄소나노튜브 성장 기술

기상증착법열분해법HIPCO화학기상증착법탄소를 포함하고 있는 탄화수소기체와 기판으로는 전이금속이 사용됨, 따라서 성장 이전에 스퍼터링이나, 기화법을 이용하여 전이금속 박막 증착

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| 리포트 | 15페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.05.10

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Ion plating method

Ion Beam Assited Deposition system 이온빔의 활용 스퍼터링원으로 활용 -이온빔을 타겟 표면에 조사함으로써 스퍼터링 현상을 유도 -이온빔의 가속전압과 이온유속 ... (Ion flux)을 제어함으로써 스퍼터링 속도를 조절 2. 이온플레이팅에 활용 -증발원을 이용해서 원하는 물질을 증발, 증착시킴과 동시에 이온빔으로 기판 표면을 조사 -반응성 가스를 이온빔 원으로 이용하면 화합물의 함성도 가능

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| 리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.18

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수소 분리막

에 분리막인 팔라듐과 구리를 스퍼터링 방법으로 코팅하는 기술분리막이 고압의 환경에 견딜 수 있도록 확산 접합에 의해 모듈화를 하는 기술응용과 전망: 수소 분리막은 몬선트사

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| 리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.03.06

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증착결과 보고서

적으로 훨씬 고온의 환경을 요구한다.PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 (Thermal

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.11.06

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12DryEtching

여, 전자를 방출시키는 가 열 필라멘트로 되어 있다.)웨이퍼 쪽을 향하여 이동RF 스퍼터 식각플라즈마RF 스퍼터링은 유전체를 포함 한 모든 종류의 고체물질을 스 퍼터 시킬수 있는 장점

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| 리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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플라즈마

에 R 축전 전기장은 ICP에서 플라즈마 초기 방전(ignition)에 기여하기도 하지만 플라즈마와 안테나 사이에 존재하는 유전체를 스퍼터링 현상에 의하여 손상을 주고 플라즈마의 균일 ... .스퍼터링 (sputtering)스퍼터링 장치 I원리와 구성Sputtering은 실로 많은 부분에 사용되어지는 없어서는 안 될 기술이라고 할 수 있다. 스퍼터링이란 간단히 말 ... 과 target과의 거리는 중요한 인자(factor)가 된다. 여기서 인가된 전원이 직류(direct current, DC)일 경우를 직류스퍼터링법(DC sputtering methode

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| 리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.01

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반도체공학의 공정

의 강재에는 피막은 형성되지 않는다.PVD는 그 원리에 따라 증발(Evaporation)과 스퍼터링(Sputtering)으로 대별할 수 있다. 증발은 도금할 물질을 기화하는데 있 ... 어서 열에너지를 이용하는 방법인 반면, 스퍼터링은 플라즈마를 형성한 다른 기체의 운동에너지를 이용해서 도금물질을 기화하는 방법이다. 증발은 열에너지를 공급하는 방법에 따라서 세부 ... )의 분류에 속하지 않는다. 이온 플레이팅은 증발에서 얻을 수 있는 빠른 증착 속도와 스퍼터링에서 얻어지는 치밀한 박막 미세조직과 화합물 형성능력을 조합한 혼성(Hybrid) 기술이

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| 리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.09

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소결의 목적

으로 거동한다. 결과적으로, 완전 소결은 경쟁력 있는 기계적 성질을 얻는데 있어서 가장 효과적이다. 마찬가지로, 분말은 제트 엔진, 자동차 엔진, 금속 절삭공구, 생체의학용 보강재, 스퍼터링 타겟 및 자기 기록소자 등의 고 기능성 부품의 제조에 사용된다.

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| 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.08.20

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진공 증착기를 이용한 Ohmic Contact 형성용 Metal 박막 증착 결보

으로는 저항가열, 유도가열, 전자빔, 마그네트론, 반응성 증발, 아크방전등 여러 가지가 있으며, 일반적으로 증기상 증발 (vapor evaporation), 이온 스퍼터링 (ion s

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.09

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반도체 CMP공정 교육자료

제거 : SOI wafer의 실리콘 단결정층 제거 3) 요철 표면의 돌출부를 선택적으로 제거하는 것 : 디바이스화 공정 중(절연막 공정후, 층간 배선 스퍼터링 공정 후 등)에 발생

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| 리포트 | 42페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.10.20

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GaN의 식각

에서도 충분히 가능합니다. 다만 CVD는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구합니다.PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E

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| 리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.05.22

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Etching (에칭)

Ion 전자가 가속이 된 후에 방출이 되는데, 이 때 가속된 이온이 에칭을 하고자 하는 물질로 입사한다. 결국 가속에 의한 물리적 에너지와 이온이 가지는 화학적 에너지(반응)에 의해 해당 물질은 스퍼터링 과정으로 진행된다.

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.20

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Lithography, Sputter, VSM, PHR, MR 의 실험 이론 및 방법 및 결과 및 고찰

어 나오게 된다. 이러한 원자들이 원하는 기판위에 쌓이게 되는데 우리가 원하는 물질로 성장 시키는 것이다.1-2 스퍼터링 장치- 스퍼터링의 장치는 대략 왼쪽과 같은 그림이 기본이

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| 리포트 | 31페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.18

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Ion plating(이온플레이팅)

-Plating 향후 전망(2008년 계시물)1. ION - PLATING이온플레이팅은 진공증착, 스퍼터링에 이어 개발된 것이지만 종래 진공증착의 개량법으로도 생각할 수 있 ... 하여 퇴적시킴으로서 막을 형성하는 방법이다. 따라서 이온플레이팅은 증발원자의 이온화에 의해 막의 밀착성이 뛰어난 점이 특징이다.응용분야는 현재 진공증착, 스퍼터링이 주로 전자재료 ... 을 피처리물 표면에 부딪게 하여, 이온충돌 ( ion bombardment ) 현상을 일으켜 표면의 산화막을 제거시킨다. 이러한 고정을 이온스퍼터링 ( ion sputtering

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| 리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.05

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Wafer Cleaning & oxidaton

실리콘 산화막 형성의 재료로 사용된다.스퍼터링- 용융 석영이 음윽 표적 재료로 사용되며, 이것이 진공 속에서 고에너지 이온 가스 분자에 의해 충돌되어 실리콘 웨이퍼로 구성되어 있 ... 는 양극으로 SiO2를 전달한다. 표적 재료로 고순도 실리콘을 써서 스퍼터링을 하기도 하는데 이 때에는 삱소의 부분압 속에서 행해진다. 일반적으로 스퍼터링 공정에서는 참여하는 원자

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| 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.09.26

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ITO 투명전극

ITO 투명전극 조사목 차●ITO의 정의●ITO 재료 및 타겟●스퍼터링 법으로 인한 최적의 타겟●고주파 마그네트론 스퍼터링 법을 사용하여 상온에서 증착시간을 변화 시켜서 결정 ... 뢰성과 재연성이 가능한 산화물 타겟을 사용한 고주파마그네트론 반응성 스퍼터링 방법을 채택하여 고 투광성 고전도성 고품질 ITO박막을 제조 하였다. 액정표시 소자의 대형화와 컬러 ... , 기판온도, 파워, 압력 등에 매우 민감하게 변화하는 것으로 알려져 있으며 성막 후에 산소 분위기에서 열처리를 함으로써 그 특성을 개선할 수 있다.방법:ITO 박막의 제조스퍼터링

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| 리포트 | 15페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.09.29

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디스플레이 공정

에너지로 변하화여 증착시키는 방법이다.전자빔 증착유도 가열 증착RF 유도 가열 코일을 BN으로 만들어진 도가니 주위에 감아 RF 전류를 흘려 가열시키는 방법이다▣ 스퍼터링높은 에너지 ... 를 갖는 입자가 target에 충돌하면 target로부터 원자 또는 분자가 튀어 나오는 현상을 스퍼터링(sputtering)이라고 부른다.스퍼터링 중성기체 발생에 관한 목표물 충돌

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| 리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.09

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cvd pvd

은 진공증발 기술이었으나, 현재는 많은 응용분야가 스퍼터링 기술로 이전되어 있는 상태이다. 진공증발 기술의 초기에는 저항 가열 기술이 사용되어 왔으나, 그 사용이 고융점의 금속 ... 스퍼터링 기술로 많은 부분 대체되었는데, 그 이유는 쓰임새에 비하여 장치가 복잡하고, 전자빔에 의해 소자특성이 저하되기도 하며, 증착 입자의 직진성으로 인하여 단차피복능과 관련된 문제 ... 되었다. 그러나, 이 방법들은 대면적 증착에 심각한 문제점을 나타내기 때문에 산업화와 연계되지는 못하고 있으며, 단지 반도체 증착의 기초 연구에만 활용되고 있는 실정이다. 스퍼터링 증착

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| 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.17 | 수정일 2015.11.03

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태양전지

로 이동하면서 아래에서 위로 단결정을 형성 시키는 방법.? 물리기상 증착(PVD ? Physical Vapor Deposition)- 스퍼터링(sputtering) 물리적 기상 ... 증착 : 스퍼터링은 글로우 방전에서 발생되는 정이온을 전계에 의해 높은 에너지로 가속시켜 고에너지의 정 이온이 고체의 표면과 충돌하면 고체 표면의 원자 또는 분자가 표면에서 밖 ... 으로 튀어나오는 스퍼터링 현상을 이용한 박막제도 방법이다.? 화학기상 증착(CVD - Chemical Vapor Deposition)- 열 CVD 법 : 반응 압력에 따라 상압과 감압

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| 리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.05.23 | 수정일 2024.05.02

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ITO 필름 시장 동향

하여 스퍼터링 설비를 국내로 옮겨와 양산체계로 ITO필름 생산, 국내수요의30% 공급, 생산규모 60만㎡/년,품질 국내 최고.3) 서피스텍 (청원); FCCL 장비활용하여 자체

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| 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.04.07

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